朱利葉斯·埃德加·利利恩菲爾德在1925年申請的專利為場效應晶體管奠定了理論基礎。 雖然第一個工作的....
本文簡單介紹了衍射光柵的歷史及其重要作用。 很難指出還有哪一種裝置比衍射光柵為每個科學領域帶來了更重....
碳化硅（SiC）作為一種高性能材料，在大功率器件、高溫器件和發光二極管等領域有著廣泛的應用。其中，基....
本文簡單介紹了連續波和脈沖波的概念、連續波電流與脈沖波電源的定義以及脈沖波電源相對于連續波的電源模式....
? 本文簡單介紹了數據I/O模塊的概念、特點以及作用。 一、數據 I/O 模塊是什么 1. 承接內外....
本文從愛因斯坦追光實驗入手，用通俗易懂的語言介紹了多普勒頻移現象。 ? 愛因斯坦是20世紀最偉大的天....
本文簡單介紹了離子注入工藝中的重要參數和離子注入工藝的監控手段。 在硅晶圓制造過程中，離子的分布狀況....
本文介紹了集成電路制造中良率損失來源及分類。 良率的定義 良率是集成電路制造中最重要的指標之一。集成....
本文介紹了硬件處理模塊的概念、特點和在系統中的位置。 一、硬件處理模塊的基本概念?專注于特定功能? ....
本文介紹了FinFET（鰭式場效應晶體管）制造過程中后柵極高介電常數金屬柵極工藝的具體步驟。
景深是圖像中看起來可以接受的清晰度的最近和最遠對象之間的距離。拍攝圖像時，將相機聚焦在任意距離的對象....
本文簡單介紹了MOS管特征頻率與過驅動電壓的概念以及二者的關系。
本文介紹了CVD薄膜質量的影響因素及故障排除。 CVD薄膜質量影響因素 以下將以PECVD技術沉積薄....
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ....
本文介紹了什么是原子層刻蝕（ALE, Atomic Layer Etching）。 1.ALE 的基....
本文介紹了FinFet Process Flow-源漏極是怎樣形成的。 在FinFET制造工藝中，當....
? 本文介紹了什么是原子層沉積（ALD, Atomic Layer Deposition）。 1.原....
? 本文介紹了封裝工藝簡介及元器件級封裝設備有哪些。 概述 電子產品制造流程涵蓋半導體元件制造及整機....
? 本文主要介紹光纖的主要參數 光纖是一種細玻璃絲，其中心纖芯的折射率略高于周圍的包層。從物理光學的....
本文主要介紹神經網絡理論研究的物理學思想 神經網絡在當今人工智能研究和應用中發揮著不可替代的作用。它....
本文主要介紹微型晶體管高分辨率X射線成像 ? 一種經過升級的X射線可對芯片內部進行3D成像，展現其設....
本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類，光刻設....
本文介紹第三代寬禁帶功率半導體的應用 在電動汽車的核心部件中，車用功率模塊（當前主流技術為IGBT）....
在凝聚態物理領域，Rashba材料由于其獨特的自旋軌道耦合（SOC）特性而引起了廣泛關注。Rashb....
本文介紹算法加速的概念、意義、流程和應用 一、什么是算法加速 面向“最耗時”的部分做專用化處理： 在....
近年來三維信息感知在機器視覺、深空成像以及醫療診斷方面具備廣泛的應用前景，包含物體深度信息的三維信息....
電磁兼容性(EMC)確保多個電子設備在相同的電磁環境中能夠正常工作，不會相互干擾。
MOS,是金屬-氧化物-半導體場效應晶體管英文名稱的縮寫，是一種獨特的半導體器件，它通過電場效應來控....
? CPU 在整個計算機系統中扮演“大腦”與“指揮官”的角色。它負責從存儲器中取出指令，解析并執行各....
本文主要介紹FinFet Process Flow—啞柵極的形成。 ? 鰭片（Fin）的形成及其重要....
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