等離子體刻蝕和濕法刻蝕是集成電路制造過程中常用的兩種刻蝕方法,雖然它們都可以用來去除晶圓表面的材料,....
真空技術是現代科技的核心支柱之一,貫穿于從基礎研究到工業生產的多個領域。理解真空的物理特性、掌握真空....
離子注入后退火是半導體器件制造中的一個關鍵步驟,它影響著器件的性能和可靠性。 離子注入是將摻雜劑離子....
本文介紹了一種在MOSFET(金屬-氧化物-半導體場效應晶體管)特征尺寸縮小至深亞微米級別、短溝道效....
本文簡單介紹了在晶圓制造過程中,晶圓邊緣需要鋪滿電路的原因。 晶圓制造工藝是半導體生產中的關鍵步驟,....
后段刻蝕工藝(Back-End of Line ETCH,簡稱BEOL ETCH)作為集成電路制造的....
在此輸入導芯片封測芯片封測是一個復雜且精細的過程,它涉及多個步驟和環節,以確保芯片的質量和性能。本文....
? 本文簡單介紹了光學一些簡單但重要的光學路徑與成像系統。 ? 光在物質中傳播得更慢:折射率n=c/....
晶體生長在分析晶體生長時,我們需要考慮多個關鍵因素,這些因素共同影響著晶體生長的質量和進程。本文介紹....
本文簡單介紹了晶體硅太陽電池基本結構和晶體硅太陽電池晶體硅材料的制備。
本文簡單介紹了極紫外光(EUV)掩膜版的相關知識,包括其構造與作用、清洗中的挑戰以及相關解決方案。
半導體晶體在生長和加工過程中會產生多種結構缺陷,這些缺陷對集成電路(IC)器件的性能和合格率有著重要....
在全球積極推動清潔能源轉型的大背景下,太陽能光伏產業蓬勃發展,而多晶硅作為光伏產業鏈的關鍵起始原料,....
本文介紹了什么是邊緣芯片(edge die)。 邊緣芯片(edge die)是指位于晶圓邊緣區域的芯....
本文介紹了芯片極限能力、封裝成品及系統級測試。 本文將介紹芯片極限能力、封裝成品及系統級測試,分述如....
? ? ? 本文介紹了什么是Beam Splitters 分束器。 分束器用于分割光束,通常可以通過....
? 本文介紹光纖頭的各種加工方法 1. 拋光 當使用光纖時,有必要對其端面進行光學拋光,以便光能夠有....
本文介紹硅鍺材料、硅退火片和絕緣體上硅(SOI) 硅鍺(SiGe/Si)材料 硅鍺(SiGe/Si)....
????在半導體集成電路(IC)制造過程中,鋁(Aluminum)是廣泛使用的一種金屬材料,特別是在....
本文介紹SiGe外延工藝及其在外延生長、應變硅應用以及GAA結構中的作用。 ? 在現代半導體技術中,....
????? ALE,英文名Atomic Layer Etching,中文名原子層刻蝕。是和ALD相對....
? ? 本文主要介紹精密玻璃成型和精密模壓光學。 高端手機的鏡頭除了有塑料鏡片外,也加入玻璃鏡片。手....
本文主要介紹??????自蔓延法合成碳化硅的關鍵控制點。?? ???? 合成溫度:調控晶型、純度與粒....
???? 聚焦離子束(FIB)在材料表征方面有著廣泛的應用,包括透射電鏡(TEM)樣品的制備。在這方....
CH201是一款微型、超低功率、遠程超聲飛行時間(TOF)距離傳感器。CH201基于Chirps專利....
???? 埃(?)作為一個長度單位,在集成電路制造中無處不在。從材料厚度的精確控制到器件尺寸的微縮優....
? 本文介紹了射頻電源的功率與頻率對刻蝕結果的影響。 干法刻蝕中,射頻電源的功率與頻率對刻蝕結果都有....
本文簡單介紹了共封裝光學器件的現狀與挑戰。 ? 1、Device fabrication/設備制造。....
芯片的設計概念從SoC到SoIC再到CIC,本文介紹了這三者的區別。 ? SoC(System on....
簡單介紹光纖端面3D干涉儀的單色光移相干涉測量法。 現在一般光纖端面3D干涉儀操作界面上,都有白光和....