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中科院半導體所

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等離子體刻蝕和濕法刻蝕是集成電路制造過程中常用的兩種刻蝕方法,雖然它們都可以用來去除晶圓表面的材料,....
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晶圓邊緣需要鋪滿電路的原因分析

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后段刻蝕工藝(Back-End of Line ETCH,簡稱BEOL ETCH)作為集成電路制造的....
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在此輸入導芯片封測芯片封測是一個復雜且精細的過程,它涉及多個步驟和環節,以確保芯片的質量和性能。本文....
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晶體生長相關內容——晶型控制與襯底缺陷

晶體生長在分析晶體生長時,我們需要考慮多個關鍵因素,這些因素共同影響著晶體生長的質量和進程。本文介紹....
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鋁在芯片制造中的作用

????在半導體集成電路(IC)制造過程中,鋁(Aluminum)是廣泛使用的一種金屬材料,特別是在....
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????? ALE,英文名Atomic Layer Etching,中文名原子層刻蝕。是和ALD相對....
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自蔓延法合成碳化硅的關鍵控制點

本文主要介紹??????自蔓延法合成碳化硅的關鍵控制點。?? ???? 合成溫度:調控晶型、純度與粒....
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描述晶圓薄膜厚度的單位:埃介紹

???? 埃(?)作為一個長度單位,在集成電路制造中無處不在。從材料厚度的精確控制到器件尺寸的微縮優....
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