女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線(xiàn)課程
  • 觀(guān)看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

如何提高光刻機(jī)的NA值

中科院半導(dǎo)體所 ? 來(lái)源:Tom聊芯片智造 ? 2025-01-20 09:44 ? 次閱讀

本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。

為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高?

什么是NA值?

88362fae-d4bb-11ef-9310-92fbcf53809c.png

如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名數(shù)值孔徑,是影響分辨率(R),焦深(DOF)的重要參數(shù),公式為: R=k1?λ/NA DOF=k2?λ/NA2 其中,λ為波長(zhǎng),k1,k2均為工藝因子。從公式可以看出:提高NA可以提升光刻分辨率,增大NA會(huì)縮小景深。

如何增大NA? 增大NA值的主要目標(biāo)是提高分辨率。 NA的公式為: NA=n?sin(θ)

其中: n是透鏡介質(zhì)的折射率 θ是透鏡最大入射角。 因此,要增大NA,就要從增大透鏡折射率或透鏡這兩方面入手。

88a384fa-d4bb-11ef-9310-92fbcf53809c.png

如何增大透鏡介質(zhì)的折射率? 一般透鏡的材料為熔融石英,折射率大概為1.46,而氟化鈣,氟化鎂,氟化鍶的折射率更高。 另一方面是采用浸沒(méi)式光刻,通過(guò)在透鏡與晶圓之間填充液體來(lái)增加折射率。

88b89f5c-d4bb-11ef-9310-92fbcf53809c.png

如何增大透鏡的最大入射角? 增大透鏡的直徑。通過(guò)增大物鏡的直徑,可以接納更多的光線(xiàn),從而使最大入射角增大。 但大尺寸透鏡的磨制和拋光過(guò)程中,要確保透鏡表面平整、無(wú)劃痕,并保持預(yù)定的曲率。制造難度非常大,成本也隨之增加。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀(guān)點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • NA
    NA
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    13

    瀏覽量

    11984
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1163

    瀏覽量

    48058

原文標(biāo)題:如何提高光刻機(jī)的NA值?

文章出處:【微信號(hào):bdtdsj,微信公眾號(hào):中科院半導(dǎo)體所】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    密度提升近3倍,高NA EUV光刻機(jī)有何玄機(jī)

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/周凱揚(yáng))到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后,單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝,將晶體管密度推向1000MTr/mm2,全面
    的頭像 發(fā)表于 12-07 01:48 ?2979次閱讀

    光刻機(jī)工藝的原理及設(shè)備

    、FinFET、Pitch-split以及波段鈴木的光刻膠等技術(shù),一只用到現(xiàn)在的7nm/10nm,但這已經(jīng)是193nm光刻機(jī)的極限了。  在現(xiàn)有技術(shù)條件上,NA數(shù)值孔徑并不容易提升,目前使用的鏡片
    發(fā)表于 07-07 14:22

    光刻機(jī)是干什么用的

    光刻機(jī)本身的原理,其實(shí)和相機(jī)非常相似,同學(xué)們可以把光刻機(jī)就想成是一臺(tái)巨大的單反相機(jī)。相機(jī)的原理,是被攝物體被光線(xiàn)照射所反射的光線(xiàn),透過(guò)相機(jī)的鏡頭,將影像投射并聚焦在相機(jī)的底片(感光元件)上,如此便可
    發(fā)表于 09-02 17:38

    魂遷光刻,夢(mèng)繞芯片,中芯國(guó)際終獲ASML大型光刻機(jī) 精選資料分享

    據(jù)羊城晚報(bào)報(bào)道,近日中芯國(guó)際從荷蘭進(jìn)口的一臺(tái)大型光刻機(jī),順利通過(guò)深圳出口加工區(qū)場(chǎng)站兩道閘口進(jìn)入廠(chǎng)區(qū),中芯國(guó)際發(fā)表公告稱(chēng)該光刻機(jī)并非此前盛傳的EUV光刻機(jī),主要用于企業(yè)復(fù)工復(fù)產(chǎn)后的生產(chǎn)線(xiàn)擴(kuò)容。我們知道
    發(fā)表于 07-29 09:36

    光刻機(jī)結(jié)構(gòu)組成及工作原理

    本文以光刻機(jī)為中心,主要介紹了光刻機(jī)的分類(lèi)、光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)組成、光刻機(jī)的性能指標(biāo)、光刻機(jī)的工藝流程及工作原理。
    發(fā)表于 12-19 13:33 ?16.5w次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>結(jié)構(gòu)組成及工作原理

    提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)及光刻機(jī)的發(fā)展情況

    作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一,光刻機(jī)一次次革命性的突破,使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機(jī)性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻
    的頭像 發(fā)表于 08-28 14:39 ?1.4w次閱讀
    <b class='flag-5'>提高</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>性能的關(guān)鍵技術(shù)及<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的發(fā)展情況

    光刻機(jī)原理介紹

    光刻機(jī),是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無(wú)法切身理解光刻機(jī)的重要地位,光刻機(jī),是制造芯片的機(jī)器,要是沒(méi)有了光刻機(jī),我們就沒(méi)有辦法造出芯片,自
    的頭像 發(fā)表于 07-07 14:31 ?12.9w次閱讀

    光刻機(jī)干啥用的

    光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一。目前有用于生產(chǎn)的光刻機(jī),有用于LED制造領(lǐng)域的光刻機(jī),還有用于封裝的光刻機(jī)光刻機(jī)是采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù),
    的頭像 發(fā)表于 02-05 16:03 ?8.9w次閱讀

    三星斥資買(mǎi)新一代光刻機(jī) 中芯光刻機(jī)最新消息

    三星電子和ASML就引進(jìn)今年生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機(jī)達(dá)成采購(gòu)協(xié)議。
    的頭像 發(fā)表于 07-05 15:26 ?6346次閱讀

    duv光刻機(jī)和euv光刻機(jī)區(qū)別是什么

    目前,光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV是深紫外線(xiàn),EUV是非常深的紫外線(xiàn)。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù),EUV使用的是深紫外光刻
    的頭像 發(fā)表于 07-10 14:53 ?8.5w次閱讀

    euv光刻機(jī)原理是什么

    euv光刻機(jī)原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機(jī),是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備,對(duì)芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。那么euv光刻機(jī)原理是什么呢
    的頭像 發(fā)表于 07-10 15:28 ?1.7w次閱讀

    密度提升近3倍,高NA EUV光刻機(jī)有何玄機(jī)

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/ 周凱揚(yáng) )到了3nm這個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)之后,單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機(jī)就很難維系下去了。 為了實(shí)現(xiàn)2nm乃至未來(lái)的埃米級(jí)工藝,將晶體管密度推向1000MTr/mm2,全面
    的頭像 發(fā)表于 12-07 07:25 ?1460次閱讀

    英特爾搶下6種ASML HIGH NA光刻機(jī)

    如果我們假設(shè)光刻機(jī)成本為 3.5 億至 4 億美元,并且 2024 年 10 個(gè)光刻機(jī)的HIGH NA 銷(xiāo)售額將在 35億至40億美元之間。
    的頭像 發(fā)表于 12-28 11:31 ?1123次閱讀

    用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹

    時(shí),摩爾定律開(kāi)始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機(jī)巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準(zhǔn)分子光源157nm波長(zhǎng)的干式光刻技術(shù)。2002年,浸潤(rùn)式光刻的構(gòu)想被提出,即利用水作為介質(zhì),通過(guò)光在液體中的折射特性,進(jìn)一步縮小影像。 ? 提升數(shù)值孔徑
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2072次閱讀
    用來(lái)<b class='flag-5'>提高</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤(rùn)式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的分類(lèi)與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類(lèi)與原理。 ? 光刻機(jī)分類(lèi) 光刻機(jī)的分類(lèi)方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類(lèi),光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?1983次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類(lèi)與原理