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標簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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日前,據韓媒ETnews報道,韓國的光刻膠供應出現了短缺狀況,導致庫存量降低到了通常標準的3個月供應庫存以下。 韓國的光刻膠一向都主要靠日本廠商進口供給...
2022-04-19 標簽:光刻膠 1657 0
萬潤股份在半導體制造材料領域穩步推進,涉足光刻膠單體、PI等業務
近期,萬潤股份在接受機構調研時透露,其“年產65噸半導體用光刻膠樹脂系列”項目已經順利投入運營。該項目旨在為客戶提供專業的半導體用光刻膠樹脂類材料。
日本經濟產業省7月1日宣布,日本將限制對韓國出口3種半導體及OLED材料。自7月4日起,包括“氟聚酰亞胺”、“光刻膠”和“高純度氟化氫”3種材料將限制向...
評價一款光刻膠是否適合某種應用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速...
2024-07-10 標簽:光刻膠 1550 0
芯片產業產能過剩:韓國統計廳發布的數據顯示,1月韓國芯片制造商的芯片庫存與銷售比達到265.7%,創下26年來的最高值。如果上游材料持續被日本卡脖子,韓...
此前該公司指出,公司已建成年產5噸ArF干式光刻膠生產線、年產20噸ArF浸沒式光刻膠生產線及年產45噸的光刻膠配套高純試劑生產線,具備ArF光刻膠及配...
上海衡封新材料科技A輪融資近億元,擴大研發,提升產品供應能力
衡封新材誕生于2018年,主營業務為電子級酚醛樹脂與特種環氧樹脂產品,應用范圍涵蓋半導體封裝、覆銅板、光刻膠、電子膠等諸多領域。在衡封新材的精英員工隊伍...
通常,光刻膠只是用作構建圖形步驟中的臨時掩膜。因此,光刻工藝的最后一步通常是需要去除光刻膠,我們稱之為去膠或者除膠。并且對去膠過程的要求是:迅速去膠且沒...
2024-07-08 標簽:光刻膠 1473 0
集成電路通過一系列特定的加工工藝的過程有哪些?? 集成電路是現代電子技術的關鍵部分,被廣泛應用于計算機、通信、家用電器、汽車等領域。它是由微小的電子器件...
韓國SKMP開發出高厚度KrF光刻膠,可助力3D NAND閃存制造
據悉,skmp開發的新型KrF光刻膠的厚度為14至15米,與東進半導體(DONGJIN SEMICHEM)向三星提供的產品相似。日本jsr公司的類似產...
為了生產高純度、高質量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹脂,溶劑PGMEA…此外,生產過程中的反應釜鍍膜和金屬析出污染監測也是至關重要的控制環節...
所謂的“光刻膠”,即是在紫外線、電子束等輻射下,其溶解度會產生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關鍵要素,廣泛應用于晶圓和分立器件的精細圖案制作中。...
光刻膠的性能:光刻膠的性能對套刻精度有顯著影響。它決定了圖形的套刻分辨率和邊緣清晰度,光刻膠的收縮和厚度不均勻性都可能導致實際圖案尺寸與設計尺寸之間的偏差。
圖形反轉膠是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當正膠使用又可以作為負膠使用。相比而言,負膠工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負膠工藝。 應用領域 在反轉...
2024-07-09 標簽:光刻膠 1359 0
陶氏化學公司是粘合劑,輔助劑等在內的多種材料提供的高純度化學產品生產線的半導體核心化學材料的主要供應商,也供應全球重要的CMP材料包括拋光墊、拋光液等。
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