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標簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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作為芯片產業鏈上的重要一環——光刻膠,是由樹脂,感光劑,溶劑,光引發劑等組成的混合液態感光材料。
2023-03-15 標簽:光刻膠 3077 0
提到半導體芯片,大家往往能想到的公司是設計類的高通、海思、英偉達、AMD、聯發科、蘋果,代工類的臺積電、中芯國際,以及全能型的英特爾、三星。 但是,以上...
光刻膠是IC制造的核心耗材,技術壁壘極高。根據TECHCET數據,預計2022年全球半導體光刻膠市場規模達到23億美元,同比增長7.5%,2025年超過...
在半導體制造方面,國內廠商需要突破的不只是光刻機等核心設備,光刻膠也是重要的一環。而南大光電研發的高端ArF光刻機,已經獲得了國內某企業的認證,可用于5...
電子發燒友網報道(文/李彎彎)近期,大基金減持大有加速之勢,9月以來多家半導體企業發布公告成,股東大基金擬減持公司股份,包括三安光電、雅克科技、萬業企業...
? 電子發燒友網綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環節的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠依賴進口...
光刻機被美國制裁阻撓之后,中國企業發揮了曲線救芯的創新思維,從韓國代理商購買了二手ASML浸沒式光刻機,有望打破美日歐壟斷,實現12英寸國產芯片生產! ...
傳統光學器件因體積笨重等缺點無法滿足現代光學設備對光學系統集成化的要求,隨著超構表面的迅速發展,新一代微型光學系統的出現成為可能。超構表面是一種由人工設...
后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光...
2024-07-09 標簽:光刻膠 2545 0
三星擬應用金屬氧化物抗蝕劑(MOR)于DRAM EUV光刻工藝
據悉,MOR作為被廣泛看好的下一代光刻膠(PR)解決方案,有望替代現今先進芯片光刻工藝中的化學放大膠(CAR)。然而,CAR在提升PR分辨率、增強抗蝕能...
據日媒報道,本月11日,日本政府宣布已批準日本森田化學公司的申請,允許向韓國出口99.9999999999%(12N)純度的液態氟化氫產品。
SK海力士將在1c DRAM生產中采用新型Inpria MOR光刻膠
據 TheElec報道,SK Hynix 已決定在其第 6 帶(即 1c 工藝,約為 10nm)DRAM 生產過程中采用 Inpria 下一代金屬氧化物...
泛林集團旗下GAMMA?系列干式光刻膠剝離系統推出最新一代產品
泛林集團旗下GAMMA系列干式光刻膠剝離系統推出最新一代產品,將該系列GxT系統晶圓加工能力從300mm拓展至200mm。作為專供特種技術市場的產品,G...
我們在使用光刻膠的時候往往關注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應該在我們購買光刻膠前就應該提出并規劃好。并...
湖州國資消息,寧波微芯新材料科技有限公司的半導體材料生產基地項目總投資3.5億元人民幣,用地35畝,年產1000噸的電子級光刻膠原材料(光刻膠樹脂、高等...
Accura BE作為國產首臺12英寸晶邊刻蝕設備,其技術性能已達到業界主流水平。” Accura BE通過軟件系統調度優化和特有傳輸平臺的結合,可以提...
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