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SK海力士將在1c DRAM生產中采用新型Inpria MOR光刻膠

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-05-30 10:32 ? 次閱讀

近日,越來越多的企業如韓國 SK 海力士和三星電子正積極投身于 DRAM 微型化創新以及新材料研發。

據 TheElec報道,SK Hynix 已決定在其第 6 帶(即 1c 工藝,約為 10nm)DRAM 生產過程中采用 Inpria 下一代金屬氧化物光刻膠(MOR),這是 MOR 首次應用于 DRAM 大規模生產。

據悉,SK Hynix 所生產的 1c DRAM 包含五個極紫外(EUV)層,其中一層將采用 MOR 技術進行繪制。同時,消息人士透露,三星電子也有意采用此類無機 PR 材料。

值得注意的是,Inpria 是日本化學公司 JSR 的子公司,在無機光刻膠領域處于領先地位;而 MOR 被視為先進芯片光刻的化學放大光刻膠(CAR)的未來發展方向。

此外,自 2022 年起,Inpria 便開始與 SK Hynix 共同開展 MOR 研究。SK Hynix 曾表示,Sn(基)氧化物光刻膠的使用將有助于提升下一代 DRAM 的性能及降低成本。

TheElec 進一步指出,三星電子亦在考慮將 MOR 引入 1c DRAM 生產,目前三星電子在 1c DRAM 上共運用了 6~7 個 EUV 層,而美光僅使用了 1 層。

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