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標簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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集成電路是最重要的半導體產品,硅片是集成 電路最重要的基礎材料,處于集成電路產業鏈前 端,在集成電路芯片制造材料中占比達30%以上, 90% 以上的集成...
日本經濟新聞報道,富士膠片將在截至2024年3月的三年內,向其半導體材料業務投資700億日元(6.37億美元),以應對5G和人工智能全球芯片需求激增的需...
負性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯,一種天然的橡膠;溶劑是二甲苯;感光劑是一種經過曝光后釋放出氮氣的光敏劑,產生的自由基在橡膠分子間形成交聯。從而變得不溶于顯...
根據光刻膠的應用工藝,我們可以采用適當的方法對已顯影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現整個光刻膠結構的熱交聯,...
2024-07-10 標簽:光刻膠 1906 0
南大光電最新消息顯示,國產193nm(ArF)光刻膠研發成功,這家公司成為通過國家“02專項”驗收的ArF光刻膠項目實施主體;徐州博康宣布,該公司已開發...
據鼎龍控股集團消息,鼎龍(仙桃)半導體材料產業園區占地218畝,建筑面積11.5萬平方米,項目總投資約10億元人民幣。經過15個月的建設,同時進入千噸級...
光刻膠類別的多樣化,此次漲價案所涉KrF光刻膠屬于高階防護用品,也是未來各地廠家的競爭焦點。當前市場中,光刻膠主要由東京大賀工業、杜邦、JSR、信越化學...
為了確保光刻工藝的可重復性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據工藝要求,有許多工藝...
2024-07-11 標簽:光刻膠 1806 0
光刻膠是由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對光敏感的混合液體。利用光化學反應,經曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基...
2022-12-06 標簽:光刻膠 1805 0
來源:全球半導體觀察 編輯:感知芯視界 近日,半導體行業又一批項目迎來最新進展,范圍涉及車規級模塊、功率器件、半導體設備零部件、半導體材料等。 瑞能車規...
掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側重,但共同促進了芯片的精確制造。? 掩膜版?,也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版,...
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