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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

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      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：324個 瀏覽：30947次 帖子：4個

      光刻膠資訊

      光刻膠供應商陶氏化學美國Plaquemine工廠爆炸

      就此次事件，陶氏化學發(fā)表聲明稱，該工廠于7月14日發(fā)生火災，就此次事件，正在與當?shù)丶爸輽C構密切合作。所有人員都被判定為安全，空氣檢查中沒有檢測出空氣中的...

      2023-07-17 標簽：半導體光刻膠 1066 0

      突發(fā)！全球最大的半導體并購案

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      2023-06-28 標簽：半導體晶圓代工光刻膠 1066 0

      光刻膠國內(nèi)頭部企業(yè)阜陽欣奕華完成超5億元D輪融資

      來源：欣奕華材料 據(jù)欣奕華材料官微消息，近日，國內(nèi)光刻膠龍頭企業(yè)阜陽欣奕華材料科技有限公司（以下簡稱“阜陽欣奕華”）完成超5億元人民幣 D 輪融資。 據(jù)...

      2023-06-13 標簽：光刻膠 1060 0

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      2024-05-29 標簽：芯片制造半導體材料光刻膠 990 0

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