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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

      +關注10人關注

      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：324個 瀏覽：30947次 帖子：4個

      光刻膠資訊

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      9.5.10 極紫外光刻膠∈《集成電路產業全書》

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      如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠？

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      　本次榮獲“首批新材料”稱號的藍色顯示光刻膠，歷經公司多年密集研發，同行業相較其關鍵參數處于領先地位，多項性能優于國際同類產品，目前暢銷于多個行業知名品牌。

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      杜邦和北京科華宣布展開戰略合作

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      如何成功進行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光？

      為了成功紫外曝光并且根據所需要的分辨率，光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置，不要有任何干擾。如要這樣做，可檢查如下幾件事。 首先，光掩模和晶圓...

      2024-08-23 標簽：微流控光刻膠掩膜 688 0

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