為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率，光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置，不要有任何干擾。如要這樣做，可檢查如下幾件事。
首先，光掩模和晶圓之間的灰塵或任何其他元素的存在都會(huì)導(dǎo)致不完美的接觸。在曝光的過(guò)程中，通過(guò)清潔光掩模和仔細(xì)的操作可以很容易的避免這個(gè)問(wèn)題。
但是還有另一個(gè)不可避免的現(xiàn)象，那就是在SU-8光刻膠曝光的過(guò)程中，可能會(huì)有一個(gè)巨大的后果。事實(shí)上，如果SU-8光刻膠通過(guò)旋涂技術(shù)來(lái)涂覆，那么在晶圓的周?chē)鷷?huì)有一個(gè)喇叭圖形。喇叭圖形的出現(xiàn)是由光刻膠的表面張力引起的。在曝光的過(guò)程中，光掩模首先與喇叭圖形接觸，并且不會(huì)粘在整個(gè)晶圓的表面上。這種現(xiàn)象不可避免的導(dǎo)致了分辨率的損失。
喇叭圖形的大小并不是固定的，但主要取決于SU-8光刻膠的粘度和SU-8光刻膠的種類(lèi)。例如，對(duì)于100μm的SU-8光刻膠層，可以測(cè)量大約幾個(gè)微米。這是無(wú)法避免的，但是可以通過(guò)一個(gè)被稱(chēng)為“切割”的步驟來(lái)予以抑制。切割在于通過(guò)一層薄薄的丙酮射流（例如使用注射器）來(lái)移除晶圓邊緣上的樹(shù)脂（通常有半個(gè)厘米）。
通常，光掩模和晶圓之間良好接觸的指標(biāo)是界面處的干涉條紋的顯現(xiàn)。如果您手動(dòng)進(jìn)行接觸，那么請(qǐng)按壓知道Moire圖案出現(xiàn)。
水分
光刻膠根據(jù)其交聯(lián)過(guò)程可以分為兩類(lèi)：陽(yáng)離子型或自由基型。對(duì)于我們的應(yīng)用和SU-8光刻膠的使用，反應(yīng)是陽(yáng)離子的。光引發(fā)劑是一些對(duì)濕度敏感的酸。
不建議在相對(duì)濕度超過(guò)70%的情況下曝光SU-8光刻膠，相反，較弱的濕度會(huì)導(dǎo)致更快的交聯(lián)。
SU-8光刻膠烘烤
烘烤步驟影響加工過(guò)程的結(jié)果，但也影響其他步驟包括曝光步驟。事實(shí)上，第一次SU-8光刻膠烘烤太短會(huì)使其變得柔軟和粘稠，并且在曝光的過(guò)程中，掩膜有可能會(huì)被卡住。此外，如果軟烘的時(shí)間太長(zhǎng)，太多的溶劑將會(huì)被蒸發(fā)掉而且最優(yōu)的曝光時(shí)間也將會(huì)有所不同。
SU-8曝光之前和之后的時(shí)間
一旦SU-8樹(shù)脂第一次烘烤（軟烘烤）完成后，SU-8光刻膠可以長(zhǎng)時(shí)間（至少一個(gè)月）的保存在盒子里和黑暗條件下，并且可以始終曝光，烘烤和顯影。所以，曝光前的時(shí)間不是一個(gè)關(guān)鍵的參數(shù)。
相反，曝光之后，在進(jìn)行第二次SU-8烘烤（the Post Exposure Bake，曝光后烘烤）之前，必須檢查時(shí)間。事實(shí)上，在SU-8曝光期間，光引發(fā)劑被激活但是需要額外的能量輸入才能繼續(xù)交聯(lián)反應(yīng)。
SU-8紫外曝光之前的掩膜對(duì)齊
一些工藝在掩膜和晶圓之間需要有對(duì)齊功能，但是，實(shí)際上，只有很少的UV燈可以提供這個(gè)功能，如果你必須使用它，請(qǐng)確保您的設(shè)備能夠進(jìn)行這樣的操作。為了對(duì)齊，您需要一些對(duì)齊線(xiàn)來(lái)確認(rèn)晶圓的位置以及何時(shí)對(duì)齊。
曝光波長(zhǎng)
曝光的波長(zhǎng)是非常重要的，因?yàn)樗枰ヅ溆诿糠N光刻膠。為了曝光SU-8光刻膠，必須使用波長(zhǎng)為365nm的紫外光。曝光波長(zhǎng)的變化可以改變光刻膠層發(fā)生交聯(lián)所需要的能量，有時(shí)候，也可以通過(guò)調(diào)整曝光時(shí)間來(lái)改變光刻膠層交聯(lián)反應(yīng)所需要的能量。
曝光時(shí)間
最重要的參數(shù)之一顯然是曝光時(shí)間。SU-8的曝光時(shí)間是光刻膠被UV照亮的時(shí)間。曝光時(shí)間也與UV線(xiàn)的功率有關(guān)，并且它們一起確定了照射到光刻膠的能量。曝光時(shí)間太短或太長(zhǎng)將會(huì)導(dǎo)致光刻膠曝光不足或曝光過(guò)度，從而導(dǎo)致分辨率下降。更確切的說(shuō)，膠層壁的設(shè)計(jì)寬度和外觀(guān)可以通過(guò)改變曝光時(shí)間來(lái)顯著的進(jìn)行調(diào)節(jié)。如果曝光時(shí)間太短，那么光刻膠可能不會(huì)在整個(gè)深度上發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)，因此，光刻膠層在顯影的步驟中將會(huì)發(fā)生剝離。如果曝光時(shí)間太長(zhǎng)，通道的寬度將會(huì)增加。
如何檢查您的SU-8光刻是否成功？
PEB期間，SU-8圖案的出現(xiàn)
PEB過(guò)程中，SU-8圖案在膠層的表面上將會(huì)更加清晰可見(jiàn)。
顯影時(shí)間和沒(méi)有SU-8白色標(biāo)志
從PEB的最后，未曝光的樹(shù)脂被顯影，然后用異丙醇沖洗晶圓。在干燥的過(guò)程中，白色標(biāo)志的出現(xiàn)表明了SU-8未完全顯影，因此，晶圓需要更長(zhǎng)時(shí)間的顯影。如果顯影時(shí)間看起來(lái)真的比工藝表中標(biāo)明的時(shí)間還要長(zhǎng)或者更短，那么這意味著在SU-8旋涂或曝光的過(guò)程中，出現(xiàn)了一些問(wèn)題，此時(shí)，可能需要檢查SU-8旋涂或者曝光的工藝過(guò)程。
控制SU-8圖案的形狀和尺寸
顯影后，在顯微鏡下觀(guān)察允許您：
知道SU-8光刻膠是否顯影良好
對(duì)圖案形狀給出第一個(gè)指示
知道圖案的寬度
測(cè)量SU-8圖案的厚度
為了檢查旋涂的合格性，最后一個(gè)測(cè)試時(shí)測(cè)量膠層的厚度。有幾種方法是可以被采用的。通常，厚度是通過(guò)光學(xué)或者機(jī)械輪廓儀來(lái)測(cè)量的。

審核編輯 黃宇