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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

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      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：324個 瀏覽：30945次 帖子：4個

      光刻膠資訊

      國內(nèi)光刻膠領頭企業(yè):北京科華微電子材料有限公司獲得1.7億元投資

      近日，沃衍資本攜手江蘇盛世投資、紫荊資本、深圳市投控通產(chǎn)新材料創(chuàng)業(yè)投資企業(yè)、四川潤資、北京高盟新材料等投資機構完成了對國內(nèi)光刻膠領頭企業(yè)—北京科華微電子...

      2019-06-29 標簽：集成電路光刻膠 2.9萬 0

      國產(chǎn)高端光刻膠新進展，KrF、ArF進一步突破！

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      2021-07-03 標簽：光刻膠 2.6萬 0

      半導體行業(yè)超具發(fā)展?jié)摿Φ?0種材料

      半導體作為信息技術產(chǎn)業(yè)的核心，是支撐我國社會經(jīng)濟發(fā)展和保障國家安全的戰(zhàn)略性、基礎性和先導性產(chǎn)業(yè)。

      2021-05-06 標簽：半導體CMP硅片 2.4萬 0

      我國光刻膠工藝技術突破，國內(nèi)企業(yè)受制于人

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      2018-06-25 標簽：光刻膠 2.3萬 0

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      光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產(chǎn)業(yè)的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化...

      2022-06-21 標簽：pcb半導體光刻膠 2.2萬 0

      從晶圓到芯片,有哪些工藝流程?

      從晶圓到芯片，有哪些工藝流程？晶圓制造工藝流程步驟如下： 1.表面清洗 2.初次氧化 3.CVD 4.涂敷光刻膠 5.用干法氧化法將氮化硅去除 6.去除...

      2021-12-30 標簽：芯片晶圓光刻膠 2.0萬 0

      光刻膠是芯片制造的關鍵材料，圣泉集團實現(xiàn)了

      這是一種老式的旋轉涂膠機，將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊，可以通過機器的旋轉的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面，光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面，才能保...

      2018-05-17 標簽：互聯(lián)網(wǎng)芯片制造光刻膠 2.0萬 0

      一文帶你看懂光刻膠

      來源：浙商證券研究院 光刻膠又稱光致抗蝕劑，是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括：光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他...

      2020-09-15 標簽：半導體光刻膠 1.9萬 0

      芯片流片是什么意思 芯片流片流程介紹

      芯片流片是什么意思 芯片流片流程介紹 芯片流片是芯片制造中的一個重要環(huán)節(jié)。它是指把原來設計好的芯片電路圖轉化為實際的芯片模型。在這個過程中，設計好的芯片...

      2023-09-02 標簽：芯片設計光刻膠 1.5萬 0

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      2022-02-05 標簽：光刻機光刻膠 1.5萬 0

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      2019-04-23 標簽：半導體光刻膠 1.4萬 0

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      2019-01-30 標簽：PCB光刻膠 1.2萬 0

      光刻膠的分類和技術趨勢

      此次交易分為首次增資、轉股權以及追加投資權三個部分。具體來看，東陽凱陽出資3000萬元人民幣向徐州博康增資，增資完成后將持有徐州博康1.186%股權；東...

      2021-01-08 標簽：集成電路半導體光刻膠 1.1萬 0

      高端光刻膠90%依賴進口，大基金二期進場，或加速半導體材料國產(chǎn)替代！

      目前國內(nèi)半導體材料市場對外依賴嚴重，隨著美國升級出口限制，半導體產(chǎn)業(yè)急需加強自主可控的能力。

      2020-06-17 標簽：半導體材料光刻膠大硅片 1.1萬 0

      南大光電透露193nm光刻膠處于研發(fā)階段 產(chǎn)業(yè)化同步進展順利

      南大光電透露193nm光刻膠處于研發(fā)階段 產(chǎn)業(yè)化同步進展順利

      近日，南大光電在互動平臺上表示，參股公司北京科華開發(fā)的248nm光刻膠目前已通過包括中芯國際在內(nèi)的部分客戶的認證。

      2019-05-28 標簽：中芯國際光刻膠 1.1萬 0

      南大光電入股北京科華 共同開展193nm光刻膠的研究與產(chǎn)品開發(fā)

      早在2015年，南大光電入股北京科華并對外宣稱，雙方將共同開展193nm光刻膠的研究與產(chǎn)品開發(fā)；如今，或許進展不順等原因影響，南大光電將全部轉讓其持有的...

      2019-06-24 標簽：半導體光刻膠 1.0萬 0

      日本公布光刻膠出口限制產(chǎn)品清單!韓國加碼10萬億韓元發(fā)展半導體材料

      日本將分兩個階段加強對韓國的出口管制。

      2019-07-06 標簽：半導體光刻膠 9202 0

      入股三年,共贏成了“雙輸”!上海新陽在發(fā)力光刻膠之路為何屢屢受挫?

      南大光電選擇與北京科華合作，上海新陽與鄧海博士技術團隊合作，力求共贏。

      2019-05-22 標簽：集成電路光刻膠 8958 0

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