女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

能讓顯示屏幕絢麗多彩的光刻膠,仍是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)之“痛”

半導(dǎo)體動態(tài) ? 來源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者:工程師4 ? 2018-06-01 16:28 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

“假如我們把***比作一把菜刀,那么光刻膠就好比是要切割的菜,沒有高質(zhì)量的菜,即使有了鋒利的菜刀,也無法做出一道佳肴。”日前,江蘇博硯電子科技有限公司技術(shù)部章宇軒在接受科技日報記者采訪時說。

在北京化工大學(xué)理學(xué)院院長聶俊眼里,我國雖然已成為世界半導(dǎo)體生產(chǎn)大國,但面板產(chǎn)業(yè)整體產(chǎn)業(yè)鏈仍較為落后。目前,上游高端電子化學(xué)品(LCD用光刻膠)幾乎全部依賴進口,必須加快面板產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵核心材料基礎(chǔ)研究與產(chǎn)業(yè)化進程,才能支撐我國微電子產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展及國際“地位”的確立。

彩色薄膜少了光刻膠,產(chǎn)生不了絢麗的畫面

顯示器是人與機器溝通的重要界面。光刻膠是整個光刻工藝的重要部分,也是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一,主要應(yīng)用在集成電路和平板顯示兩大產(chǎn)業(yè)。光刻技術(shù)決定了集成電路的集成度,引領(lǐng)了技術(shù)節(jié)點的推進和實現(xiàn)。

章宇軒介紹,我們在日常工作生活中,之所以能從顯示屏幕上看到色彩斑斕的畫面,就是離不開屏幕中厚度只有2μm、卻占面板成本16%的一層彩色薄膜。然而,彩色薄膜顏色的產(chǎn)生,必須由光刻膠來完成。

LCD是非主動發(fā)光器件,其色彩顯示必須由本身的背光系統(tǒng)或外部的環(huán)境光提供光源,通過驅(qū)動器控制器形成灰階顯示,再利用彩色濾光片產(chǎn)生紅、綠、藍三基色,依據(jù)混色原理形成彩色顯示畫面。

其中,根據(jù)顏色的不同,可以將光刻膠分為黑色、紅色、綠色、藍色四種。彩色濾光片的制作就是在玻璃基板上應(yīng)用黑色光刻膠制作黑色矩陣,再應(yīng)用紅、綠、藍光刻膠制作三原色像素。

光刻膠的研發(fā),關(guān)鍵在于其成分復(fù)雜、工藝技術(shù)難以掌握。光刻膠主要成分有高分子樹脂、色漿、單體、感光引發(fā)劑、溶劑以及添加劑,開發(fā)所涉及的技術(shù)難題眾多,需從低聚物結(jié)構(gòu)設(shè)計和篩選、合成工藝的確定和優(yōu)化、活性單體的篩選和控制、色漿細度控制和穩(wěn)定、產(chǎn)品配方設(shè)計和優(yōu)化、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝優(yōu)化和穩(wěn)定、最終使用條件匹配和寬容度調(diào)整等方面進行調(diào)整。因此,要自主研發(fā)生產(chǎn),技術(shù)難度非常之高。

江蘇漢拓光學(xué)材料有限公司副總經(jīng)理孫友松告訴記者,在光刻膠研發(fā)上,我國起步晚,2000年后才開始重視。近幾年,雖說有了快速發(fā)展,但整體還處于起步階段。事實上,工藝技術(shù)水平與國外企業(yè)有著很大的差距,尤其是尖端材料及設(shè)備都仍依賴進口。

工藝技術(shù)難以突破,國內(nèi)企業(yè)受制于人

“造成與國際先進水平差距的原因很多。過去由于我國在開始規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上,布局不合理、不完整,特別是重生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資,而忽視了最重要的基礎(chǔ)材料、裝備與應(yīng)用研究。目前,整個產(chǎn)業(yè)是中間加工環(huán)節(jié)強,前后兩端弱,核心技術(shù)至今被TOK、JSR、住友化學(xué)、信越化學(xué)等日本企業(yè)所壟斷。”江蘇博硯電子科技有限公司負責銷售的經(jīng)理李中強說。

記者了解到,光刻膠的主要技術(shù)指標有解析度、顯影時間、異物數(shù)量、附著力、阻抗等。每一項技術(shù)指標都很重要,必須全部指標達到才能使用。因此,國外企業(yè)在配方、生產(chǎn)工藝技術(shù)等方面,對中國長期封鎖。

事實上,我國是在缺乏經(jīng)驗、缺乏專業(yè)技術(shù)人才,缺失關(guān)鍵上游原材料的條件下,全靠自己摸索。近年來,盡管光刻膠研發(fā)有了一定突破,但國產(chǎn)光刻膠還是用不起來。目前,國外阻抗已達到15次方以上,而國內(nèi)企業(yè)只能做到10次方,滿足不了客戶工藝要求和產(chǎn)品升級的要求,有的工藝雖達標了,但批次穩(wěn)定性不好。

“10次方的光刻膠經(jīng)過多次烘烤,由于達不到客戶需求的防靜電作用,不能應(yīng)用到最新一代窄邊框、全面屏等高端面板上。而國外做到15次方就有了很好的防靜電作用。這還是我們的光刻膠材料、配方、生產(chǎn)工藝方面存在問題。”李中強說。

關(guān)鍵指標達不到要求,國內(nèi)企業(yè)始終受制于人。就拿在國際上具有一定競爭實力的京東方來說,目前已建立17個面板顯示生產(chǎn)基地,其中,有16個已經(jīng)投產(chǎn)。但京東方用于高端面板的光刻膠,仍然由國外企業(yè)提供。

基礎(chǔ)性研究仍需發(fā)力,政府要重視鼓勵應(yīng)用牽引

能讓顯示屏幕絢麗多彩的光刻膠,仍是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)之“痛”。該如何打破歐美及日本等國家和地區(qū)的封鎖與壟斷?

業(yè)內(nèi)人士認為,按照現(xiàn)在“單打獨斗”的研發(fā)路徑,肯定不行。政府相關(guān)部門要加大產(chǎn)業(yè)政策的配套支持力度,應(yīng)從加快完善整個產(chǎn)業(yè)鏈出發(fā),定向梳理國內(nèi)缺失的、產(chǎn)業(yè)依賴度高的關(guān)鍵核心電子化學(xué)品,要針對電子化學(xué)品開發(fā)難度高,檢測設(shè)備要求高的特點,組織匯聚一些優(yōu)勢企業(yè)和專家,形成一個產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟,國家建立一個生產(chǎn)應(yīng)用示范平臺,集中力量突破一些關(guān)鍵技術(shù)。

江蘇博硯電子科技有限公司董事長宗健表示,光刻膠要真正實現(xiàn)國產(chǎn)化,難度很大。最大問題是國內(nèi)缺乏生產(chǎn)光刻膠所需的原材料,致使現(xiàn)開發(fā)的產(chǎn)品碳分散工藝不成熟、碳漿材料不配套。而作為生產(chǎn)光刻膠最重要的色漿,至今依賴日本。前道工藝出了問題,保證不了科研與生產(chǎn),光刻膠國產(chǎn)化就遙遙無期。因此,必須通過科研單位、生產(chǎn)企業(yè)的協(xié)同創(chuàng)新,盡快取得突破。

有專家提出,盡管國產(chǎn)光刻膠在高端面板一時用不起來,但政府還是要從政策上鼓勵國內(nèi)普通面板的生產(chǎn)企業(yè)盡快用起來。只有在應(yīng)用過程中才能發(fā)現(xiàn)問題,解決問題,不斷提升技術(shù)、工藝與產(chǎn)品水平,實現(xiàn)我國關(guān)鍵電子化學(xué)品材料的國產(chǎn)化,完善我國集成電路的產(chǎn)業(yè)鏈,滿足國家和重點產(chǎn)業(yè)的需求。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    335

    文章

    28880

    瀏覽量

    237390
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    339

    瀏覽量

    30941
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動

    量產(chǎn)到ArF浸沒式驗證,從樹脂國產(chǎn)化到EUV原料突破,一場靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A以120nm分辨率和
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?1765次閱讀

    行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測量之光刻膠厚度測量

    光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是一種關(guān)鍵的耐蝕劑刻薄膜材料。它在紫外光、電子束、離子束、X 射線等的照射或輻射下,溶解度會發(fā)生變化,主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。由于
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:53 ?37次閱讀
    行業(yè)案例|膜厚儀應(yīng)用測量之<b class='flag-5'>光刻膠</b>厚度測量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關(guān)注。同時,光刻
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?235次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    金屬低刻蝕的光刻膠剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的光刻膠剝離液
    的頭像 發(fā)表于 06-16 09:31 ?132次閱讀
    金屬低刻蝕的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其應(yīng)用及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?291次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

    如果說最終制造出來的芯片是一道美食,那么光刻膠就是最初的重要原材料之一,而且是那種看起來可能不起眼,但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠(photoresist),在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光阻劑
    的頭像 發(fā)表于 06-04 13:22 ?199次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準測量光刻圖形
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?217次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?2201次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點企業(yè)

    體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時,若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類
    的頭像 發(fā)表于 03-18 13:59 ?1037次閱讀
    <b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>材料介紹 | <b class='flag-5'>光刻膠</b>及生產(chǎn)工藝重點企業(yè)

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?983次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?1671次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2473次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1552次閱讀

    國產(chǎn)光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗證

    來源:太紫微公司 近日,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡稱“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗證,實現(xiàn)配方全自主
    的頭像 發(fā)表于 10-17 13:22 ?655次閱讀
    國產(chǎn)<b class='flag-5'>光刻膠</b>通過<b class='flag-5'>半導(dǎo)體</b>工藝量產(chǎn)驗證

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?793次閱讀