女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

高端光刻膠通過(guò)認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝

硬件世界 ? 來(lái)源:硬件世界 ? 2023-04-11 09:25 ? 次閱讀

南大廣電在互動(dòng)平臺(tái)表示,該公司自主研發(fā)的高端ArF光刻膠已經(jīng)通過(guò)了客戶(hù)認(rèn)證,并少量銷(xiāo)售。

南大光電表示,公司已有兩款A(yù)rF光刻膠產(chǎn)品分別在下游客戶(hù)存儲(chǔ)芯片50nm和邏輯芯片55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)上通過(guò)認(rèn)證,并實(shí)現(xiàn)少量銷(xiāo)售。

現(xiàn)階段驗(yàn)證工作正在穩(wěn)步推進(jìn),且針對(duì)同一客戶(hù)開(kāi)發(fā)了不同的產(chǎn)品,以滿(mǎn)足客戶(hù)的多樣化需求。

此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒(méi)式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭┥a(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力,目前公司送樣驗(yàn)證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。

2022 年,南大光電公司實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入158,123.07萬(wàn)元,同比增長(zhǎng)60.62%;歸屬于上市公司股東的凈利潤(rùn)18,673.26 萬(wàn)元,同比增37.07%;歸屬于上市公司股東的扣除非經(jīng)常性損益后的凈利潤(rùn)12,562.52萬(wàn)元,同比增長(zhǎng)78.39%。

芯片行業(yè)的制程競(jìng)賽,將在今年被拉到3nm。

據(jù)CT報(bào)道,相關(guān)法人透露,蘋(píng)果新款MacBook Air、iPad Air/Pro等,都將采用臺(tái)積電3nm N3E工藝量產(chǎn),分別在今年下半年和明年上半年對(duì)外亮相。

76307be2-d806-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

筆記本和平板上自然是M3處理器,而N3E則是臺(tái)積電第二代3nm,對(duì)比N5同等性能和密度下功耗降低34%、同等功耗和密度下性能提升18%,或者可以將晶體管密度提升60%。

此前爆料顯示,M3處理器單核比M2 Max(12核)提升24%、多核提升6%。

就目前的進(jìn)度來(lái)看,同樣是3nm,M3不太可能會(huì)早于A17處理器,也就是說(shuō)15寸MacBook Air會(huì)在iPhone 15系列之后登場(chǎng),這或許意味著其無(wú)緣在6月6日的蘋(píng)果WWDC開(kāi)發(fā)者大會(huì)上首秀。

當(dāng)然,國(guó)際巨頭們的新工藝也不是都很順利,比如說(shuō)Intel。

2023年Intel又要推出新一代酷睿處理器了,這代會(huì)是14代酷睿,之前很多人都知道它代號(hào)Meteor Lake了,首發(fā)Intel 4工藝,用上EUV光刻技術(shù)。

同時(shí)Meteor Lake芯片架構(gòu)也會(huì)是酷睿首次使用小芯片架構(gòu),CPU、GPU及IO模塊最多有4種工藝。

然而Intel 4工藝雖然各種好,但是也有一些問(wèn)題,之前爆料稱(chēng)其能效好,但高頻性能不行,適合筆記本,而這就導(dǎo)致了Intel今年的14代酷睿桌面版及移動(dòng)版會(huì)分裂。

今年的移動(dòng)平臺(tái)上14代酷睿Meteor Lake是沒(méi)什么懸念的,最多還是6P+8E架構(gòu),但桌面版的14代酷睿只能由13代酷睿改進(jìn)而來(lái)。

7682fab6-d806-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

2023年的桌面版酷睿換馬甲是沒(méi)跑了,關(guān)鍵是命名,國(guó)外爆料達(dá)人稱(chēng)它不會(huì)用14代酷睿的名義,但國(guó)內(nèi)的大V@金豬升級(jí)包否認(rèn)了這個(gè)傳聞,稱(chēng)Raptor Lake Refresh就叫14代 。

76abf790-d806-11ed-bfe3-dac502259ad0.png

這就意味著今年的消費(fèi)級(jí)處理器全都叫做14代酷睿,但移動(dòng)跟桌面版是不一樣的,桌面版是Intel 7工藝戰(zhàn)三代,與移動(dòng)版工藝、架構(gòu)都不同,最期待的EUV工藝及小芯片架構(gòu)都沒(méi)了。

這樣的事在之前其實(shí)也有了,Intel的10代酷睿、11代酷睿中,移動(dòng)平臺(tái)的Ice Lake、Tiger Lake處理器跟桌面版的10、11代酷睿都是不一樣的,后兩者當(dāng)時(shí)還在用14nm工藝,移動(dòng)版已經(jīng)上了10nm工藝,也就是Intel 7沒(méi)改名之前的工藝。

不論怎樣,今年想升級(jí)14代酷睿桌面版的玩家都要注意下了。

審核編輯 :李倩

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 處理器
    +關(guān)注

    關(guān)注

    68

    文章

    19799

    瀏覽量

    233462
  • 邏輯芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    1

    文章

    157

    瀏覽量

    31170
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    328

    瀏覽量

    30766

原文標(biāo)題:高端光刻膠通過(guò)認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝

文章出處:【微信號(hào):hdworld16,微信公眾號(hào):硬件世界】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?23次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠的類(lèi)型及特性

    光刻膠類(lèi)型及特性光刻膠(Photoresist),又稱(chēng)光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類(lèi)型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?1119次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類(lèi)型及特性

    晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究

    隨著半導(dǎo)體器件的應(yīng)用范圍越來(lái)越廣,晶圓制造技術(shù)也得到了快速發(fā)展。其中,光刻技術(shù)在晶圓制造過(guò)程中的地位尤為重要。光刻膠光刻工藝中必不可少的材料,其質(zhì)量直接影響到晶圓生產(chǎn)的效率和質(zhì)量。本文將圍繞著晶圓
    的頭像 發(fā)表于 01-03 16:22 ?540次閱讀

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    對(duì)光的敏感度。在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,光刻膠通過(guò)光化學(xué)反應(yīng),將掩膜版上的圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片表面。 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心步驟之一。在硅片表面涂上光刻膠(負(fù)
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?800次閱讀

    一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠

    原文標(biāo)題:一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2158次閱讀

    光刻膠的使用過(guò)程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過(guò)程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1231次閱讀

    國(guó)產(chǎn)光刻膠通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

    來(lái)源:太紫微公司 近日,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專(zhuān)用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,已通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方
    的頭像 發(fā)表于 10-17 13:22 ?532次閱讀
    國(guó)產(chǎn)<b class='flag-5'>光刻膠</b><b class='flag-5'>通過(guò)</b>半導(dǎo)體<b class='flag-5'>工藝</b>量產(chǎn)驗(yàn)證

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片加工的過(guò)程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡(jiǎn)要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?643次閱讀

    導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲(chǔ)時(shí)間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗,而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃?lèi)型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程
    的頭像 發(fā)表于 07-11 16:07 ?1049次閱讀

    光刻膠涂覆工藝—旋涂

    為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多
    的頭像 發(fā)表于 07-11 15:46 ?1502次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術(shù)

    根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱(chēng)為硬烘烤或者堅(jiān)膜。或
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:46 ?1618次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術(shù)

    光刻膠的一般特性介紹

    越小。曝光劑量以毫焦耳每平方厘米(mJ/cm2)為單位.光刻膠聚合物分子的解鏈或者交聯(lián)是通過(guò)吸收特定波長(zhǎng)的光輻射能量完成的。一種光刻膠通常只在某些特定的波長(zhǎng)范圍內(nèi)使用,因此需要注意每款光刻膠
    的頭像 發(fā)表于 07-10 13:43 ?1256次閱讀

    光刻膠后烘技術(shù)

    一般光刻過(guò)程文章中簡(jiǎn)單介紹過(guò)后烘工藝但是比較簡(jiǎn)單,本文就以下一些應(yīng)用場(chǎng)景下介紹后烘的過(guò)程和作用。 化學(xué)放大正 機(jī)理 當(dāng)使用“正?!闭?b class='flag-5'>膠時(shí),曝光完成后光反應(yīng)也就完成了,但是化學(xué)放大的
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:08 ?2226次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術(shù)

    光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

    圖形反轉(zhuǎn)是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝
    的頭像 發(fā)表于 07-09 16:06 ?1172次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉(zhuǎn)<b class='flag-5'>工藝</b>

    光刻膠的保存和老化失效

    我們?cè)谑褂?b class='flag-5'>光刻膠的時(shí)候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能,但是有時(shí)候我們會(huì)忽略光刻膠的保存和壽命問(wèn)題,其實(shí)這個(gè)問(wèn)題應(yīng)該在我們購(gòu)買(mǎi)光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在
    的頭像 發(fā)表于 07-08 14:57 ?1927次閱讀