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全光譜橢偏儀測量:金屬/半導體TMDs薄膜光學常數與高折射率特性

Flexfilm ? 2025-07-21 18:17 ? 次閱讀
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過渡金屬二硫族化合物(TMDs)因其獨特的激子效應、高折射率和顯著的光學各向異性,在納米光子學領域展現出巨大潛力。本研究采用Flexfilm全光譜橢偏儀結合機械剝離技術,系統測量了多種多層TMD薄膜材料的光學常數。研究表明,半導體性TMD(如MoTe?)表現出極高的折射率(n∥≈4.84)和強雙折射(Δn≈1.54),而金屬性TMD(如TaS?)在近紅外波段顯示出雙曲型光學響應。這些結果為未來全TMD納米光子器件的設計提供了重要的數據支持,并指出了各向異性光調控的新方向。

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實驗方法:機械剝離與橢偏技術

flexfilm

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機械剝離的多層TMDs基底上的光譜橢偏測量示意圖

樣品制備: 采用機械剝離法(Scotch-tape method)從高質量塊體晶體制備多層TMD樣品。為提高測量精度,本文優化了干法轉移工藝:

  • 通過加熱PDMS至60°C降低TMD薄膜粘附力,實現大面積均勻轉移(橫向尺寸>300 μm);
  • 半導體TMD薄膜(如MoS?)轉移至表面有自然氧化層(~1-3 nm)的硅襯底;
  • 金屬性TMD薄膜(如TaS?)則轉移至3/8.8 μm厚的熱氧化SiO?/Si襯底,以增強光信號干涉調制。

厚度通過表面輪廓儀校準(范圍:50 nm - 數微米),確保全光譜橢偏對各向異性的敏感性。

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橢偏測量

flexfilm

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用于橢偏測量的剝離 TMD 薄片的示例性圖像

使用全光譜橢偏儀儀,在300-1700 nm波段(步長1 nm)和20°–75°入射角下測量Mueller矩陣。針對不同類型的TMD,采用定制化分析模型:

  • 半導體TMD薄膜:采用多振蕩Tauc-Lorentz模型描述面內介電函數,單一紫外振子模型描述面外分量;
  • 金屬TMD薄膜:引入Drude模型擬合自由電子響應,并結合干涉法提高數據可靠性
  • 雙軸薄膜:通過樣品旋轉測量分離ε??和ε??分量

數據分析中嚴格考慮表面粗糙度厚度不均儀器帶寬效應均方誤差(MSE)<10驗證了模型的準確性。

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半導體TMDs:高折射率與強各向異性

flexfilm

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單軸半導體 TMD 薄片的介電常數:(a) MoS?,(b) MoSe?,(c) MoTe?,(d) WS?,和 (e) WSe?

關鍵數據:

  • 最高折射率:MoTe?在1550 nm處達 n∥≈4.84,遠超傳統材料(硅~3.47,砷化鎵~3.37)。
  • 折射率趨勢:Mo基 > W基,且遵循 nMoS?< nMoSe??< nMoTe?,與DFT預測一致。 ?
  • 低損耗窗口:近紅外區吸收可忽略,適用于低損耗波導與諧振腔。

各向異性:

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1550 nm處常見TMDs的折射率與傳統半導體對比:(a) 面內折射率, (b) 面外折射率, (c) 雙折射率Δn=n∥?n⊥半導體TMD在1550 nm的光學參數對比

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  • 雙折射值Δn(n∥ - n⊥):MoTe?最高(~1.54),是傳統雙折射材料(如TiO?, Δn≈0.3)的5倍以上,為偏振光學器件提供新可能。
  • 面外折射率差異:n⊥范圍2.44(WS?)至3.3(MoTe?),導致顯著雙折射。

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金屬TMDs:雙曲行為與等離子體特性

flexfilm

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單軸金屬TMD薄片的介電常數:(a) TaS?, (b) TaSe?, (c) NbSe?

單軸金屬:

  • TaS?/TaSe?:面內Re(ε)在~1110/1217 nm處由正轉負,面外Re(ε)始終為正 → 天然雙曲材料,支持等離子體應用。
  • NbSe?:>1390 nm時介電函數實部全為負,面外負值源于洛倫茲響應(非自由電子)。
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雙軸材料介電常數:(a) 半導體ReS?, (b) 金屬WTe?

雙軸金屬WTe?:

  • 無近紅外雙曲性(多層削弱效應),但面內雙折射Δ(n?? - n??)高達~1.12(880 nm)
  • 800 nm附近異常各向異性:Re(ε??) > Re(ε??) > Re(ε??)

本研究通過寬波段(300-1700 nm)全光譜橢偏儀測量,系統地分析了多層過渡金屬二硫族化合物(TMDs)的光學常數(折射率、介電函數、各向異性等)。研究包含半導體性(WS?/WSe?/MoS?等)、面內各向異性(ReS?/WTe?)和金屬性(TaS?/TaSe?等)TMDs,揭示了其高折射率(MoTe?達~4.84)強光學各向異性(Δn≈1.54)近紅外低損耗等特性,并發現金屬性TMD在1000-1300 nm范圍內存在雙曲型光學響應潛力。

Flexfilm全光譜橢偏儀

flexfilm

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全光譜橢偏儀擁有高靈敏度探測單元光譜橢偏儀分析軟件,專門用于測量和分析光伏領域中單層或多層納米薄膜的層構參數(如厚度)和物理參數(如折射率n、消光系數k)

  • 先進的旋轉補償器測量技術:無測量死角問題。
  • 粗糙絨面納米薄膜的高靈敏測量:先進的光能量增強技術,高信噪比的探測技術。
  • 秒級的全光譜測量速度:全光譜測量典型5-10秒。
  • 原子層量級的檢測靈敏度:測量精度可達0.05nm。

本研究通過Flexfilm全光譜橢偏儀系統建立了10種TMDs薄膜的光學數據庫,揭示了高折射率(MoTe?, n4.84)、強雙折射(Δn1.54)及金屬TMDs的雙曲響應特性,為光伏與納米光子學薄膜分析提供關鍵技術支撐。原文出處:《Optical Constants of Several Multilayer Transition Metal Dichalcogenides Measured by Spectroscopic Ellipsometry in the 300?1700 nm Range: High Index, Anisotropy, and Hyperbolicity》

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