中芯國(guó)際通過(guò)港交所發(fā)布公告,宣布公司已于2021年2月1日,就購(gòu)買用于生產(chǎn)晶圓的阿斯麥(ASML)產(chǎn)品與阿斯麥集團(tuán)簽訂購(gòu)買單,根據(jù)購(gòu)買的ASML產(chǎn)品定價(jià)計(jì)算,該協(xié)議購(gòu)買阿斯麥產(chǎn)品的總代價(jià)約為12億美元。
根據(jù)該協(xié)議,中芯國(guó)際將先行向ASML支持30%的預(yù)付款,余款將于產(chǎn)品交付時(shí)支付。
從采購(gòu)金額來(lái)看,12億美金夠買十多臺(tái)先進(jìn)的DUV光刻機(jī),即便是最貴的1.2億美金一臺(tái)的EUV光刻機(jī),也能賣個(gè)10臺(tái)。
根據(jù)公告顯示,ASML批量采購(gòu)協(xié)議的期限從原來(lái)的2018年1月1日至2020年12月31日延長(zhǎng)至從2018年1月1日至2021年12月31日。中芯國(guó)際根據(jù)批量采購(gòu)協(xié)議已于2020年3月16日至2021年3月2日的12個(gè)月期間就購(gòu)買用于生產(chǎn)晶圓的ASML產(chǎn)品與ASML集團(tuán)簽訂購(gòu)買單。
也就是說(shuō),此次的協(xié)議是此前采購(gòu)協(xié)議(2018年1月1日至2020年12月31日)的延長(zhǎng),延長(zhǎng)至2021年12月31日。換句話來(lái)說(shuō)就是,這是一個(gè)覆蓋了2018-2021年三年間的采購(gòu)協(xié)議,并且公告顯示,在2020年3月16日至2021年3月2日的12個(gè)月期間,已經(jīng)在執(zhí)行購(gòu)買協(xié)議。 所以,這個(gè)12億美元的采購(gòu)并不是全新的采購(gòu)訂單,大概率之前已經(jīng)完成了部分的采購(gòu)。
而且,可能這個(gè)采購(gòu)里還包含了之前2018年采購(gòu)的那臺(tái)至今未交付的EUV光刻機(jī)的訂單的重新延長(zhǎng)。
早在2018年5月,中芯國(guó)際就向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)最新型的EUV光刻機(jī),原計(jì)劃在2019年初交付。但是由于美國(guó)方面的阻撓,ASML一直未能收到荷蘭政府頒發(fā)新的許可證,這也導(dǎo)致了ASML一直無(wú)法向中芯國(guó)際交付EUV光刻機(jī)。
不過(guò)由于中芯國(guó)際訂購(gòu)的EUV光刻機(jī)遲遲無(wú)法拿到許可,該訂單也有可能已經(jīng)取消或替換成了等價(jià)的DUV光刻機(jī),畢竟在美國(guó)的阻撓下,今年年內(nèi)可能還是難以實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)的交付。
此前,ASML的CFO在財(cái)報(bào)會(huì)議的視頻采訪中表示:如果寬泛地理解相關(guān)規(guī)則對(duì)AMSL的整體意義,ASML將能夠從荷蘭向中國(guó)客戶(包括中芯國(guó)際)提供DUV光刻系統(tǒng),且無(wú)需出口許可證。不過(guò),如果涉及直接從美國(guó)運(yùn)往此類客戶的零件或系統(tǒng),ASML則需要為此申請(qǐng)出口許可證。
即便中芯國(guó)際未來(lái)能夠拿到EUV光刻機(jī),由于美國(guó)的禁令,限制對(duì)于中芯國(guó)際供應(yīng)10nm及以下工藝所需的美系半導(dǎo)體設(shè)備,這也使得中芯難以對(duì)7nm以下制程實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)突破,畢竟半導(dǎo)體生產(chǎn)并不只是靠光刻機(jī)就行的。未來(lái),中芯國(guó)際可能還是要依靠與國(guó)產(chǎn)及非美系設(shè)備廠商在先進(jìn)制程上的協(xié)作來(lái)突破。
編輯:hfy
-
中芯國(guó)際
+關(guān)注
關(guān)注
27文章
1433瀏覽量
66054 -
ASML
+關(guān)注
關(guān)注
7文章
723瀏覽量
42023 -
EUV光刻機(jī)
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
129瀏覽量
15404
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷,芯片迎來(lái)新一輪“寒流”?
電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
成都匯陽(yáng)投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來(lái)機(jī)會(huì)
EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

什么是光刻機(jī)的套刻精度

如何提高光刻機(jī)的NA值

光刻機(jī)的分類與原理

組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位

用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹

評(píng)論