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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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EUV掩膜,也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜,對于極紫外光刻(EUVL)這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術,用于制造具有更小特征尺寸和增...
臺積電預計到2019年底會有100多款客戶產品基于其7nm工藝
半導體工藝越來越復雜,不過憑借強大的實力、不斷的投入,再加上技術上的一些“偷懶”,臺積電還是相繼征服了10nm、7nm、5nm,其中7nm工藝已經迅速普...
今日看點丨英特爾完成首臺商用高數值孔徑 EUV 光刻機組裝;聯發科發布天璣 6300 處理器
1. 臺積電估將在第 2 季認列相關地震損失 30 億元新臺幣 ? 403地震讓臺灣半導體產業受創,臺積電稍早公告,臺灣廠區在地震后的第三日結束前完全復...
Rapidus對首代工藝中0.33NA EUV解決方案表示滿意,未采用高NA EUV光刻機
在全球四大先進制程代工巨頭(包括臺積電、三星電子、英特爾以及Rapidus)中,只有英特爾明確表示將使用High NA EUV光刻機進行大規模生產。
泛林集團、Entegris 和 Gelest 攜手推進 EUV 干膜光刻膠技術生態系統
這一使用突破性技術的合作將為全球芯片制造商提供強大的化學品供應鏈,并支持下一代 EUV 應用的研發 北京時間2022年7月15日——泛林集團 (NASD...
臺積電魏哲家與ASML高層會面,是否有意購買高數值孔徑極紫外光機臺?
此前,該公司首席執行官魏哲家曾明確表示,過早引入High-NA EUV并無太大經濟效益,直到日前其秘密訪問ASML總部,使市場猜測臺積電是否因此事發生重大轉變。
臺媒稱,翔名切入臺積電5nm極紫外光(EUV)光罩盒表面處理業務,與EUV光罩盒大廠接洽合作機會,以獨家專利無電鍍鎳(ENP)表面處理技術來提升產品良率...
英特爾愛爾蘭工廠完成設備安裝調試,開始生產Intel 4芯片
英特爾雖然在正式公告中沒有提及詳細信息,但只是預告說,為了慶祝英特爾4工程技術的大規模批量生產,將于9月29日舉行公司高層負責人出席開幕式等相關現場活動。
根據 ASML 的說明,盡管目前整體環境呈現短期的不確定性,仍見長期在晶圓需求與產能上的健康增長。ASML 提到,各個市場的強勁增長、持續創新、更多晶圓...
這是因為隨著全世界半導體制造企業展開asml euv設備訂單競爭,供不應求。該公司去年以每臺2500億韓元(1.89億美元)到3000億韓元(2.27億...
Renesas與Wolfspeed的20億美元交易帶來的啟示
該行業甚至愿意更進一步,通過合作和共同融資來開發下一代半導體制造設備,就像最近ASML和Imec之間的協議一樣。他們說,將在開發下一代EUV設備上合作。...
來源:國芯網,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據外媒報道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機,暗藏后門,可以在必要的時候執行遠程...
美投資8.25億美元建設NSTC關鍵設施,重點發展EUV光刻技術
拜登政府已宣布一項重大投資決策,計劃在紐約州的奧爾巴尼市投入8.25億美元,用于建設國家半導體技術中心(NSTC)的核心設施。據美國商務部透露,奧爾巴尼...
臺積電的戰略性投資并不是第一次。tsmc與英特爾及三星共同投資asml,在成功開發euv(極紫外線)設備后,一直在開發7納米增強工程。
Rick Gottscho博士:下一代芯片在堆疊、微縮和檢驗方面的挑戰
泛林集團首席技術官Rick Gottscho博士接受了行業媒體Semiconductor Engineering (SE)的專訪。
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