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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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AMD 7nm+工藝突然全都消失 意在向市場提供最佳的高性能庫
AMD今天一口氣公布了Zen CPU架構路線圖、RDNA/CDNA GPU架構路線圖,對于A飯和技術愛好者來說堪稱一場盛宴,但是在制造工藝方面也出現了意外變化。
近日,日本沖繩科學技術大學院大學(OIST)發布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發出一種突破性的極紫外(EUV)光刻技術。這一創新技術超越了當前半導體...
半導體行業波動性可能減弱。動蕩的2022年引發半導體行業庫存調整,企業紛紛應對短期下行周期,但背后的發展趨勢值得關注。由于人工智能(AI)、AR/VR、...
Intel的7nm基于EUV光刻技術有望2020年底推出 10nm或將成為Intel最短命的一代制程
原定2016年底量產的10nm拖到了2019年底,Intel目前僅敢在公開市場拿出Cannon Lake家族的“獨苗”i3-8121U撐門面。可是它僅僅...
Luc Van den hove并公布了3nm及以下制程的微縮層面技術細節。截至目前,ASML 已經布局了 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Su...
2020年10月5日,美國商務部工業與安全局(BIS)發布了最終規則,對《關于常規武器和兩用貨物及技術出口管制的瓦森納安排》2019年12月全體會議上達...
電子發燒友網訊: 光刻設備廠商ASML Holding NV的CEO Eric Meurice 宣稱該公司已經投入到下一代元紫外線光刻技術(EUV)設備...
總體上,三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時,口罩的數量減少了。這是因為EUV將整個行業帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需...
盡管EUV現在還存在各種障礙,但是其未來應用前景依然各方被看好。從長遠角度來看,發展EUV技術是非常必要的。對此,林雨指出:“自上世紀九十年代起,中國...
IMEC公司首席執行官兼總裁Luc Van den hove首先發表了主題演講,介紹了公司研究概況,他強調通過與ASML公司緊密合作,將下一代高分辨率...
英特爾正在順利推進的Intel 20A和Intel 18A兩個節點
英特爾正在按計劃實現其“四年五個制程節點”的目標,目前,Intel 7,采用EUV(極紫外光刻)技術的Intel 4和Intel 3均已實現大規模量產。
SK海力士擬將無錫C2工廠升級為第四代D-ram工藝,并引進EUV技術
Sk海力士期望通過在無錫工廠完成第四代D-RAM制造環節中的部分工藝流程,隨后將芯片運回韓國總部利川園區進行EUV處理,最后送回無錫工廠進行后續操作。盡...
? ? 今年冬天特別「缺電」。 最近,湖南、江西、浙江等地開始限電,多年不見的「拉閘限電」又回來了。 2004、2011年,中國曾出現大規模的「用電荒」...
據臺灣業內人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現有的EUV光刻機進行生產。相較之下,英特爾和三星則計...
使用13.5nm波長的光進行成像的EUV光刻技術已被簡歷。先進的邏輯產品依賴于它,DRAM制造商已經開始大批量生產。
體上,三分之二的調查參與者認為這將產生積極的影響。前往EUV時,口罩的數量減少了。這是因為EUV將整個行業帶回單一模式。具有多個圖案的193nm浸入需要...
晶圓代工之戰,7nm制程預料由臺積電勝出,4nm之戰仍在激烈廝殺。 Android Authority報道稱,三星電子搶先使用極紫外光(EUV)微影設備...
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