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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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ASML即將上任的首席執行官Christophe Fouquet面臨的最大挑戰將是帶領公司進入一個新時代,救火員工程文化必須改變。
與正在蓬勃成長的中國芯片制造業一樣,中國的半導體設備業正在迎來新的曙光。據北方華創微電子的消息,它在2017年1月的訂單量已經超過去年第一季度的總量。半...
我們一直在我們的私人咨詢業務上花費大量時間,試圖為各種邏輯和內存工藝節點的工具類型建立一個半導體工廠資本支出的模型。
ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝
3 月 13 日消息,光刻機制造商 ASML 宣布其首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 已完成安裝,新機型將帶來更高的生產效...
英特爾和臺積電都在技術上投入資金。三星和其他內存制造商必須跟上技術節點的轉變,即使同時保持產能遠離市場。他們需要跟上技術的步伐,以在摩爾定律的基礎上保持...
知情人士透露,由于ASML高數值孔徑EUV設備產能有限,每年僅能產出5至6臺,因此英特爾將獨享初始庫存,而競爭對手三星和SK海力士預計需等到明年下半年...
荷蘭ASML中國總裁全力支持向中國出口光刻機 11月5日,在第三屆中國國際進口博覽會現場,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)全球副總裁、中國區總裁沈波在接...
來源:半導體行業觀察,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 隨著英特爾、三星、臺積電以及日本即將落成的先進晶圓代工廠 Rapidus盡管各家公司都各自準備將...
Imec 與三井化學公司簽署戰略合作協議,將用于 EUV 光刻技術的 CNT 薄膜技術商業化
來源:半導體芯科技 SiSC編譯 魯汶(比利時),2023 年 12 月 14 日 — 世界領先的納米電子和數字技術研究和創新中心 Imec 與日本領先...
全球光刻機大廠ASML(艾司摩爾)在日前的2020 年第4 季與全年財務電話會議上透露,2020年全年ASML營收達到140億歐元,其中有45 億歐元的...
據悉,新廠將采用EUV光刻機技術,并計劃在2025年量產的下一代1-gamma(nm)節點引入EUV光刻技術。鑒于DRAM行業的代際周期,新廠有望具備生...
在時間方面,IAP 可能有點過于樂觀。對于 32nm 以下的一切,芯片制造商使用所謂的浸沒式光刻技術(本質上是 DUV 工具的助推器)生產。
尹錫悅代表方面表示:“asml允許韓國總統訪問無塵室,作為外國首腦,他將首次訪問無塵室?!彼硎荆骸绊n國政府希望將荷蘭的尖端設備和韓國的尖端制造能力相融...
盡管EUV的生產力還沒有達到客戶的預期,但幾年來,EUV 已經成為世界上最先進芯片的生產過程中不可或缺的一部分。
“半導體研發機構 imec 的項目經理塞德里克-羅林(Cedric Rolin)說:”納米壓印技術很難在質量上與 EUV 相媲美?!?他說,納米壓印的缺...
Dai Nippon Printing Co., Ltd.(DNP)近期在半導體制造技術領域取得了重大突破,成功實現了適用于超2nm(納米,即10^-9...
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