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EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了,EUV已經遇到了一些延遲,將技術從一個節點推向下一個階段,本單元詳細介紹了EUV光刻機,EUV光刻機技術的技術應用,EUV光刻機的技術、市場問題,國產euv光刻機發展等內容。
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IBM、美光、應用材料、東京電子宣布合作建設 High-NA EUV 研發中心
12 月 12 日消息,今天早些時候,紐約州長凱西?霍楚爾(Kathy Hochul )宣布與 IBM、美光、應用材料、東京電子(東京威力科創)等半導體...
ASML總經理George Gomba表示:“在這里,勞動力也將會增加。”gomba表示,從2022年初開始增加了600名職員。該公司目前在首都地區擁有...
據asml公布的財務報告顯示,第二季度凈銷售額為69億歐元,總利潤率為51.3%,凈利潤為19億歐元。asml首席執行官peter wennink表示:...
盡管High NA EUV光刻機有望使芯片設計尺寸縮減達三分之二,但芯片制造商需要權衡利弊,考慮其高昂的成本及ASML老款設備的可靠性問題。
英特爾推進面向未來節點的技術創新,在2025年后鞏固制程領先性
英特爾正在按計劃實現其“四年五個制程節點”的目標,目前,Intel 7,采用EUV(極紫外光刻)技術的Intel 4和Intel 3均已實現大規模量產。...
另一方面,臺積電的年度技術論壇正在美國和歐洲如火如荼地進行,備受世人矚目的是該公司計劃在2026年量產A16技術,該技術將結合納米片晶體管和超級電軌架構。
半導體芯科技編譯 來源:Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰...
據國外媒體報道,韓國媒體在本周早些時候的報道中稱,三星電子在美國新建芯片工廠的計劃,預計會在本月底宣布。 而從韓國媒體最新的報道來看,三星電子考慮在美國...
在2023年12月舉辦的“Semicon Japan”演講中,SEMI演講者預計2025年相關投資額將達到1,250億美元。
該企業宣布其制造部門于2023年度產生70億美元的運營虧損,相比去年同期的52億美元有所擴大;另一方面,盡管該部門2023年呈現出189億美元的銷售收入...
英特爾從以色列政府獲得32億美元撥款 用于建設250億美元芯片工廠
來源:Silicon Angle 英特爾公司已獲得以色列政府32億美元的撥款,用于在該國建造一座價值250億美元的新芯片工廠。 該公司近日宣布了這項交易...
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