臺(tái)積電近期突然改變態(tài)度,對(duì)于采購(gòu)艾司摩爾高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)(High-NA EUV)事宜產(chǎn)生濃厚興趣。
此前,該公司首席執(zhí)行官魏哲家曾明確表示,過早引入High-NA EUV并無(wú)太大經(jīng)濟(jì)效益,直到日前其秘密訪問ASML總部,使市場(chǎng)猜測(cè)臺(tái)積電是否因此事發(fā)生重大轉(zhuǎn)變。
據(jù)wccftech等多個(gè)科技媒體聯(lián)合報(bào)道及韓國(guó)商業(yè)情報(bào)媒體《Business Korea》的透露,有知情者透露,魏哲家并未出席于23日召開的臺(tái)積電2024年技術(shù)論壇臺(tái)灣場(chǎng),而是選擇在26日前往ASML荷蘭總部以及工業(yè)激光制造商創(chuàng)浦(TRUMPF)的德國(guó)總部進(jìn)行訪問。
金融分析師丹·奈斯泰德(Dan Nystedt)在28日的文章中指出,臺(tái)積電可能已經(jīng)開始積極尋求購(gòu)買High-NA EUV設(shè)備,原因在于魏哲家的此次行程并非參加臺(tái)灣舉辦的技術(shù)論壇,而是選擇訪問ASML和創(chuàng)浦這兩家重要的設(shè)備供應(yīng)商。
業(yè)內(nèi)人士據(jù)此推測(cè),臺(tái)積電有意購(gòu)買High-NA EUV設(shè)備,因?yàn)檫@種設(shè)備對(duì)于生產(chǎn)2納米以下芯片至關(guān)重要。值得注意的是,ASML已于去年年底向英特爾交付了第一臺(tái)High-NA EUV設(shè)備。
分析認(rèn)為,臺(tái)積電管理層此次訪問ASML,無(wú)疑是為了鞏固其在全球半導(dǎo)體行業(yè)中的領(lǐng)導(dǎo)地位。
按照原計(jì)劃,臺(tái)積電將在2026年下半年實(shí)現(xiàn)1.6納米制程的大規(guī)模量產(chǎn)后,才考慮引進(jìn)High-NA EUV設(shè)備。然而,High-NA EUV設(shè)備的價(jià)格高達(dá)3.8億美元,相當(dāng)于新臺(tái)幣123億元,比現(xiàn)有的EUV設(shè)備高出近一倍。
在此背景下,臺(tái)積電的主要競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手英特爾和三星電子也紛紛采取行動(dòng)。英特爾希望借助High-NA EUV設(shè)備,進(jìn)一步擴(kuò)大其在半導(dǎo)體領(lǐng)域的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)。
目前,已有多臺(tái)High-NA EUV設(shè)備被運(yùn)往英特爾的晶圓代工廠,預(yù)計(jì)將首先在1.8納米制程上進(jìn)行測(cè)試,然后再逐步推廣至1.4納米制程。
另一方面,三星集團(tuán)會(huì)長(zhǎng)李在镕也在今年4月份親自訪問了ASML的關(guān)鍵合作伙伴蔡司位于德國(guó)的總部,與ASML執(zhí)行長(zhǎng)傅凱和蔡司執(zhí)行長(zhǎng)蘭普雷希特進(jìn)行了會(huì)面,旨在加強(qiáng)三方在半導(dǎo)體領(lǐng)域的合作關(guān)系。
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