女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

9.5.8 g線和i線的紫外光刻膠∈《集成電路產業全書》

深圳市致知行科技有限公司 ? 2022-02-14 09:41 ? 次閱讀

UV Photoresist for g-line and i-line

撰稿人:北京科華微電子材料有限公司 陳昕

審稿人:復旦大學 鄧海

9.5 光掩模和光刻膠材料

第9章 集成電路專用材料

《集成電路產業全書》下冊

ef406ed8-8cef-11ec-9d5f-dac502259ad0.jpg

ef509100-8cef-11ec-9d5f-dac502259ad0.jpg

ef754086-8cef-11ec-9d5f-dac502259ad0.jpg

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 集成電路
    +關注

    關注

    5419

    文章

    11946

    瀏覽量

    367116
收藏 人收藏

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    光刻膠產業國內發展現狀

    ,是指通過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射,溶解度會發生變化的耐蝕刻薄膜材料,是光刻工藝中的關鍵材料。 從芯片生產的工藝流程上來說,光刻膠的應用處于芯片設計、制造、
    的頭像 發表于 06-04 13:22 ?14次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導體制造與微納加工領域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環節的核心材料,其性能優劣直接影響光刻膠去除效果與基片質量。同時,精準測量光刻圖形對把控工藝質量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發表于 05-29 09:38 ?43次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發表于 04-29 13:59 ?1164次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    光刻膠成為半導體產業的關鍵材料

    光刻膠是半導體制造等領域的一種重要材料,在整個電子元器件加工產業有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關鍵性能,增感劑有助于提高
    的頭像 發表于 12-19 13:57 ?818次閱讀

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領取公眾號資料
    的頭像 發表于 11-01 11:08 ?2184次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發表于 10-31 15:59 ?1250次閱讀

    國產光刻膠通過半導體工藝量產驗證

    設計,有望開創國內半導體光刻制造新局面。 ? 眾所周知,光刻膠是半導體芯片制造過程中所必須的關鍵材料,其研發和生產過程復雜且嚴格。光刻膠是指經過紫外光、深
    的頭像 發表于 10-17 13:22 ?534次閱讀
    國產<b class='flag-5'>光刻膠</b>通過半導體工藝量產驗證

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發表于 08-27 15:54 ?649次閱讀

    如何成功進行微流控SU-8光刻膠紫外曝光?

    為了成功紫外曝光并且根據所需要的分辨率,光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置,不要有任何干擾。如要這樣做,可檢查如下幾件事。 首先,光掩模和晶圓之間的灰塵或任何其他元素的存在都會導致不完
    的頭像 發表于 08-23 14:39 ?624次閱讀

    導致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲時間 正和圖形反轉在存儲數月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響
    的頭像 發表于 07-11 16:07 ?1057次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術

    根據光刻膠的應用工藝,我們可以采用適當的方法對已顯影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現整個光刻膠結構的熱交聯,稱為硬烘烤或者堅膜。或通過低劑量紫外
    的頭像 發表于 07-10 13:46 ?1642次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術

    光刻膠的一般特性介紹

    評價一款光刻膠是否適合某種應用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標。光刻膠的靈敏度越高,所
    的頭像 發表于 07-10 13:43 ?1279次閱讀

    光刻膠后烘技術

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進行。前面的文章中我們在
    的頭像 發表于 07-09 16:08 ?2235次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術

    光刻膠的圖形反轉工藝

    圖形反轉是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當正使用又可以作為負使用。相比而言,負工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負
    的頭像 發表于 07-09 16:06 ?1178次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    我們在使用光刻膠的時候往往關注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應該在我們購買光刻膠前就應該提出并規劃好。并且,在
    的頭像 發表于 07-08 14:57 ?1950次閱讀