在半導體的制造中,***作為其中重要的組成部分,其技術非常復雜,價格也十分昂貴。
由于近期沖突,俄羅斯芯片進口遭嚴重限制,在其國內沒有***的情況下,俄羅斯貿工部選擇了與俄羅斯莫斯科電子技術學院簽署一份6.7億盧布的合同來研發***,并且宣稱要研發比EUV***光刻分辨率更高、不需要光掩膜版從而降低費用的無掩模X射線***。
X射線***不同于EUV***,它使用了波長為0.01nm~10nm的X射線,所以X射線***的光刻分辨率要比EUV***高很多。
綜合整理自 快科技 站長之家 芯智訊
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。
舉報投訴
-
X射線
+關注
關注
4文章
213瀏覽量
51674 -
光刻機
+關注
關注
31文章
1163瀏覽量
48030
發布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關,電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
發表于 05-07 06:03
成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會
進制程領域,曝光波長逐漸縮短至13.5nm,光刻技術逐步完善成熟。2024年光刻機市場的規模為230億美元。2025年光刻機市場的規模預計為252億美元。 【光刻機的發展機會主要體現在
什么是光刻機的套刻精度
在芯片制造的復雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環節。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說,它就像建造摩天大樓

如何提高光刻機的NA值
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名

組成光刻機的各個分系統介紹
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到

用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹
? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造:光刻技術的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導體技術的發展,但當光刻機的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6

光刻機的工作原理和分類
? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據著至關重要的地位,被譽為芯片制
一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術
,光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發展歷程、結構組成、關鍵性能參數以及雙工件臺技術展開介紹。 一、光刻機發展歷程 光刻機的發展歷程

俄羅斯電子元器件展:俄羅斯微電子論壇-ExpoElectronica 全力支持
2024 年 4 月 16 日,2024 年 俄羅斯微電子論壇 的回顧和分析會議在莫斯科:ExpoElectronica俄羅斯國際電子元器件、組件、模塊及加工設備與技術展(以下簡稱“俄羅斯電子元器件

光刻巨人去世 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯合創始人去世
圈內突發噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機巨頭聯合創始人維姆?特羅斯特去世。 據外媒報道,在當地時間11日晚,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)創始人之一維姆?特魯斯特(Wi
俄羅斯首臺光刻機問世
據外媒報道,目前,俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。 俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產光刻機,作為澤廖諾格
俄羅斯推出首臺光刻機:350nm
來源:IT之家,謝謝 編輯:感知芯視界 Link 據外媒報道,俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長Vasily Shpak表示,該設備可確保生產350納米工藝
評論