電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機(jī)基本由荷蘭阿
發(fā)表于 10-17 00:13
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,日前,ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示,ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司,啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
發(fā)表于 06-29 06:39
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電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
2025年美國特朗普政府的“對等關(guān)稅”影響究竟有多大?未來還不確定,只有等待時(shí)間的檢驗(yàn)。這里我們看到已經(jīng)有很多的科技巨頭受損嚴(yán)重,比如蘋果公司、光刻機(jī)巨頭阿
發(fā)表于 04-17 10:31
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,其中有12億歐元為EUV光刻機(jī)的訂單。 對于2025年第二季度的業(yè)績展望,阿斯麥CEO表示,人工智能仍是主要的增長動力;但是關(guān)稅新政增加了很大的不確定性。
發(fā)表于 04-16 16:15
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【2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機(jī)的需求持續(xù)增長,尤其是在先
發(fā)表于 04-07 09:24
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光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
發(fā)表于 02-06 09:38
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本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
發(fā)表于 01-20 09:44
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本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
發(fā)表于 01-16 09:29
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? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達(dá)到
發(fā)表于 01-07 10:02
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時(shí),摩爾定律開始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機(jī)巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準(zhǔn)分子光源157nm波長的干式光刻技術(shù)。2002年,浸潤式光刻的構(gòu)想被提出,即利用水作為介質(zhì),通過光在液體中的折射特
發(fā)表于 11-24 11:04
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? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽(yù)為芯片制
發(fā)表于 11-24 09:16
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,光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機(jī)發(fā)展歷程 光刻機(jī)的發(fā)展歷程
發(fā)表于 11-22 09:09
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在2024年投資者會議上,光刻機(jī)巨頭拋出重磅利好;緊接著ASML股價(jià)開始大幅拉升;一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯
發(fā)表于 11-15 19:48
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在當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公布了一份不及預(yù)期的第三季度業(yè)績報(bào)告;訂單量環(huán)比下降53%,?業(yè)績爆雷第一時(shí)間反應(yīng)到
發(fā)表于 10-16 16:49
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