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電子發(fā)燒友網(wǎng)>制造/封裝>今日看點(diǎn)丨英特爾提供高達(dá)50萬(wàn)歐元的自愿離職補(bǔ)償金;武漢光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)量子點(diǎn)光刻膠

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2013-09-09 09:36:091096

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2022-08-29 15:02:236384

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近日,上海新陽(yáng)發(fā)布公告稱,公司自主研發(fā)的KrF(248nm)厚膜光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)通過(guò)客戶認(rèn)證,并成功取得第一筆訂單,取得不錯(cuò)進(jìn)展。 ? 光刻膠用于半導(dǎo)體光刻工藝環(huán)節(jié),是決定制造質(zhì)量的重要因素,根據(jù)曝光
2021-07-03 07:47:0024237

華為投資光刻膠企業(yè) 光刻膠單體材料全部自供

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2021-08-12 07:49:005688

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2023-05-23 10:34:47974

光刻膠

303532-80μm100ml;250ml;500ml;1L[/tr][tr=transparent]MicroChem SU-8 負(fù)SU-8 305044-100μm100ml;250ml;500ml;1L[/tr]正負(fù)顯影液SU 8 顯影液汶顥微流控技術(shù)股份有限公司提供微流控芯片實(shí)驗(yàn)室耗材和配件。
2018-07-12 11:57:08

光刻膠在集成電路制造中的應(yīng)用

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光刻膠有什么分類?生產(chǎn)流程是什么?

光刻膠也稱為光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來(lái)將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。光刻膠有正和負(fù)之分。正經(jīng)過(guò)曝光后,受到光照的部分變得容易溶解,經(jīng)過(guò)顯影后被
2019-11-07 09:00:18

光刻膠殘留要怎么解決?

間距小于2um。的地方大部分有光刻膠殘余。這個(gè)問(wèn)題困擾了好久,請(qǐng)各位指點(diǎn)迷津,提供一些建議。我現(xiàn)在完全不知道怎么弄了。
2016-11-29 14:59:18

英特爾凌動(dòng)處理器CE4100有什么優(yōu)點(diǎn)?

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2012-11-07 16:33:48

Futurrex高端光刻膠

Futurrex,成立于1985年,位總部設(shè)在美國(guó)新澤西州,富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開(kāi)發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長(zhǎng)的歷史,尤其是其光刻膠
2010-04-21 10:57:46

Microchem SU-8光刻膠 2000系列

SU 8光刻膠系列產(chǎn)品簡(jiǎn)介:新型的化學(xué)增幅型負(fù)像 SU- 8 是一種負(fù)性、環(huán)氧樹(shù)脂型、近紫外線光刻膠,克服了普通光刻膠采用 UV光刻導(dǎo)致的深寬比不足的問(wèn)題,十分適合于制備高深寬比微結(jié)構(gòu)。SU- 8
2018-07-04 14:42:34

《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》光刻前 GaAs 表面處理以改善濕化學(xué)蝕刻過(guò)程中的光刻膠附著力和改善濕蝕刻輪廓

實(shí)驗(yàn)結(jié)果。確定了幾個(gè)可能影響粘附的因素,并使用實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì) (DOE) 方法來(lái)研究所選因素的影響和相互作用。確定的最顯著的附著力改進(jìn)是在光刻膠涂層之前立即加入天然氧化物蝕刻。除了提高附著力外,這種預(yù)涂層處理
2021-07-06 09:39:22

專訪阿里巴巴量子實(shí)驗(yàn)室:最強(qiáng)量子電路模擬器“太章”到底強(qiáng)在哪?

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為什么選擇加入英特爾

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機(jī)有什么典型應(yīng)用 ?

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2018-08-24 15:50:183200

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英特爾推出了技術(shù)學(xué)習(xí)實(shí)驗(yàn)室來(lái)開(kāi)展VR教育

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英特爾宣布推出一款技術(shù)學(xué)習(xí)實(shí)驗(yàn)室,這款實(shí)驗(yàn)室被裝載在一個(gè)定制的移動(dòng)集裝箱卡車上,配備VR演示站、強(qiáng)大的電腦和物聯(lián)網(wǎng)智能白板。
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2018-11-18 10:26:50817

微軟在荷蘭開(kāi)設(shè)新量子研究實(shí)驗(yàn)室 將加快推進(jìn)革命性的量子計(jì)算機(jī)的發(fā)展

近日,微軟在荷蘭的代夫特理工大學(xué)內(nèi)開(kāi)設(shè)了新的量子研究實(shí)驗(yàn)室。該實(shí)驗(yàn)室由荷蘭國(guó)王威廉-亞歷山大(King Willem-Alexander)共同開(kāi)設(shè),實(shí)驗(yàn)室名為The Microsoft Quantum Lab Delft。微軟將會(huì)和QuTech合作共同研究為量子計(jì)算機(jī)創(chuàng)建區(qū)塊。
2019-03-01 16:40:202922

高通財(cái)務(wù)長(zhǎng)戴維斯宣布離職 將轉(zhuǎn)任英特爾財(cái)務(wù)長(zhǎng)

芯片大廠高通和英特爾周二表示,高通財(cái)務(wù)長(zhǎng)戴維斯(George Davis)已離職,將轉(zhuǎn)任英特爾財(cái)務(wù)長(zhǎng)。
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英特爾宣布展開(kāi)ProjectAthena開(kāi)放實(shí)驗(yàn)室計(jì)劃 鎖定2020年及未來(lái)之使用經(jīng)驗(yàn)

處理器大廠英特爾(intel)于 8 日宣布,將在臺(tái)北、上海和美國(guó)加州 Folsom 展開(kāi) Project Athena 開(kāi)放實(shí)驗(yàn)室(Open Labs)計(jì)劃,針對(duì) Project Athena
2019-05-09 16:39:482667

上海新陽(yáng)再次轉(zhuǎn)換戰(zhàn)場(chǎng) 選擇研發(fā)3D NAND用的KrF 光刻膠

2018年,南大光電和上海新陽(yáng)先后宣布,投入ArF光刻膠產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,立志打破集成電路制造最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料之一——高檔光刻膠材料幾乎完全依賴于進(jìn)口的局面,填補(bǔ)國(guó)內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。
2019-05-21 09:24:247175

關(guān)于英特爾神秘實(shí)驗(yàn)室的分析和介紹

事實(shí)上,英特爾無(wú)人駕駛事業(yè)部成立之前,英特爾的物聯(lián)網(wǎng)事業(yè)部就已經(jīng)在智能交通和智能汽車領(lǐng)域深耕多年,建樹(shù)頗多。早期,英特爾車載創(chuàng)新和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)中心以及英特爾實(shí)驗(yàn)室在人車互動(dòng)、提升駕駛體驗(yàn),如何利用先進(jìn)的傳感、計(jì)算和互連數(shù)據(jù)革命性地改變出行方式等領(lǐng)域進(jìn)行探索。
2019-09-11 11:20:422035

南大光電將建成光刻膠生產(chǎn)線,明年或光刻機(jī)進(jìn)場(chǎng)

今年7月17日,南大光電在互動(dòng)平臺(tái)透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進(jìn)“ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”落地實(shí)施。目前該項(xiàng)目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗(yàn)收中,預(yù)計(jì)2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線,項(xiàng)目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
2019-12-16 13:58:527421

光刻膠國(guó)產(chǎn)化刻不容緩

隨著電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的突飛猛進(jìn),光刻膠市場(chǎng)總需求不斷提升。2019年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模預(yù)計(jì)接近90億美元,自2010年至今CAGR約5.4%,預(yù)計(jì)未來(lái)3年仍以年均5%的速度增長(zhǎng),預(yù)計(jì)至2022年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò)100億美元。
2020-03-01 19:02:484218

英特爾公司著名高管吉姆 凱勒離職,曾參與蘋(píng)果和特斯拉芯片研發(fā)

英特爾著名高管吉姆·凱勒(JimKeller)已于6月11日離職。他于兩年前加入英特爾,主要領(lǐng)導(dǎo)和負(fù)責(zé)英特爾的系統(tǒng)芯片的研發(fā)集成。
2020-06-12 11:09:513411

LCD光刻膠需求快速增長(zhǎng),政策及國(guó)產(chǎn)化風(fēng)向帶動(dòng)國(guó)產(chǎn)廠商發(fā)展

光刻膠按應(yīng)用領(lǐng)域分類,大致分為L(zhǎng)CD光刻膠、PCB光刻膠(感光油墨)與半導(dǎo)體光刻膠等。按照下游應(yīng)用來(lái)看,目前LCD光刻膠占比26.6%,刻占比24.5%,半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,PCB光其他類光刻膠占比24.8%。
2020-06-12 17:13:395495

一文帶你看懂光刻膠

來(lái)源:浙商證券研究院 光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種對(duì)光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹(shù)脂、單體、溶劑和其他助劑。光刻膠可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影等
2020-09-15 14:00:1418082

雅克科技投入12億到光刻膠研發(fā)當(dāng)中

開(kāi)發(fā)行股票計(jì)劃募集資金總額不超過(guò)人民幣 120,000.00萬(wàn)元,扣除發(fā)行費(fèi)用后的募集資金凈額擬投入以下項(xiàng)目。其中,有8.5億元將會(huì)投入到新一代電子信息材料國(guó)產(chǎn)化項(xiàng)目-光刻膠光刻膠配套試劑研發(fā)當(dāng)中。 雅克科技于2010年在深交所中小企業(yè)板上市,主
2020-09-24 10:32:014910

博聞廣見(jiàn)之半導(dǎo)體行業(yè)中的光刻膠

光刻膠是由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑三種主要成份組成的、對(duì)光敏感的混合液體。利用光化學(xué)反應(yīng),經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì),其中曝光是通過(guò)紫外光
2022-12-06 14:53:541378

集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目存6大難點(diǎn)

對(duì)公司光刻膠業(yè)務(wù)的具體影響等問(wèn)題。 10月12日,晶瑞股份發(fā)布關(guān)于深圳證券交易所關(guān)注函的回復(fù)公告稱,本次擬購(gòu)買的光刻機(jī)設(shè)備將用于公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目,將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實(shí)現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越,并最終實(shí)
2020-10-21 10:32:104274

容大感光科技光刻膠研發(fā)進(jìn)程

多年來(lái),光刻膠研發(fā)都被列入我國(guó)高新技術(shù)計(jì)劃、重大科技項(xiàng)目。今年9月28日,國(guó)家發(fā)展改革委、科技部、工業(yè)和信息化部以及財(cái)政部聯(lián)合印發(fā)的《關(guān)于擴(kuò)大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)投資培育壯大新增長(zhǎng)點(diǎn)增長(zhǎng)極的指導(dǎo)意見(jiàn)》中
2020-10-22 15:20:153501

南大光電自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠成功通過(guò)認(rèn)證

今日南大光電發(fā)布公告稱,其控股子公司 “寧波南大光電”自主研發(fā)的 ArF(193nm)光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。報(bào)告顯示,“本次認(rèn)證選擇客戶 50nm 閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證,寧波南
2020-12-18 09:29:424713

中國(guó)終于打破日本在光刻膠的壟斷地位

昨夜晚間,寧波南大光電發(fā)表公告稱,公司自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品 近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。
2020-12-18 09:52:103248

南大光電首款國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠通過(guò)認(rèn)證 可用于45nm工藝光刻需求

? 導(dǎo) 讀 日前,南大光電公告稱,由旗下控股子公司寧波南大光電材料自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品成功通過(guò)客戶使用認(rèn)證,線制程工藝可以滿足 45nm-90nm光刻需求。 圖:南大光電公告 ? 公告稱
2020-12-25 18:24:096552

晶瑞順利購(gòu)得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機(jī)一臺(tái),可研發(fā)最高分辨率達(dá) 28nm 的高端光刻膠

晶瑞股份發(fā)布公告:經(jīng)多方協(xié)商、積極運(yùn)作,該公司順利購(gòu)得 ASML XT 1900 Gi 型光刻機(jī)一臺(tái)。 該光刻機(jī)于 2021 年 1 月 19 日運(yùn)抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室,即將組織
2021-01-20 16:34:006362

晶瑞股份成功打造高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室

1月19日晚,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體材料公司晶瑞股份發(fā)表公告,宣稱購(gòu)得ASML公司光刻機(jī)一臺(tái),將用于高端光刻膠項(xiàng)目。
2021-01-21 09:35:513021

2021年,半導(dǎo)體制造所需的光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將同比增長(zhǎng)11%

按照應(yīng)用領(lǐng)域分類,光刻膠主要包括印制電路板(PCB)光刻膠專用化學(xué)品(光引發(fā)劑和樹(shù)脂)、液晶顯示器(LCD)光刻膠光引發(fā)劑、半導(dǎo)體光刻膠光引發(fā)劑和其他用途光刻膠四大類。本文主要討論半導(dǎo)體光刻膠
2021-05-17 14:15:524208

光刻膠板塊的大漲吸引了產(chǎn)業(yè)注意 ,國(guó)產(chǎn)光刻膠再遇發(fā)展良機(jī)?

5月27日,半導(dǎo)體光刻膠概念股開(kāi)盤(pán)即走強(qiáng),截至收盤(pán),A股光刻膠板塊漲幅達(dá)6.48%。其中晶瑞股份、廣信材料直線拉升大漲20%封漲停,容大感光大漲13.28%,揚(yáng)帆新材大漲11.37%,南大光電
2021-05-28 10:34:152764

光刻膠光刻機(jī)的關(guān)系

光刻膠光刻機(jī)研發(fā)的重要材料,換句話說(shuō)光刻機(jī)就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠
2022-02-05 16:11:0012100

改善去除負(fù)光刻膠效果的方法報(bào)告

摘要 我們?nèi)A林科納提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠
2022-01-26 11:43:22803

晶片光刻膠處理系統(tǒng)的詳細(xì)介紹

摘要 在這項(xiàng)工作中,研究了新一代相流體剝離溶液在各種半導(dǎo)體光刻膠中的應(yīng)用。這些實(shí)驗(yàn)中使用的獨(dú)特的水基智能流體配方均為超大規(guī)模集成電路級(jí),與銅兼容且無(wú)毒。實(shí)驗(yàn)的第一階段是確定是否在合理的時(shí)間內(nèi)與光刻膠
2022-03-03 14:20:05535

采用雙層抗蝕劑法去除負(fù)光刻膠

本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來(lái)減少負(fù)光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑,選擇負(fù)光刻膠作為頂層抗蝕。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對(duì)浮渣平均數(shù)量的影響。實(shí)驗(yàn)表明,低粘度正光刻膠AZ703
2022-03-24 16:04:23855

干法刻蝕去除光刻膠的技術(shù)

灰化,簡(jiǎn)單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉,光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過(guò)泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。
2022-07-21 11:20:176110

光刻膠az1500產(chǎn)品說(shuō)明

光刻膠產(chǎn)品說(shuō)明英文版資料分享。
2022-08-12 16:17:253

光刻膠為何要謀求國(guó)產(chǎn)替代

南大光電最新消息顯示,國(guó)產(chǎn)193nm(ArF)光刻膠研發(fā)成功,這家公司成為通過(guò)國(guó)家“02專項(xiàng)”驗(yàn)收的ArF光刻膠項(xiàng)目實(shí)施主體;徐州博康宣布,該公司已開(kāi)發(fā)出數(shù)十種高端光刻膠產(chǎn)品系列,包括
2022-08-31 09:47:141428

光刻膠的原理和正負(fù)光刻膠的主要組分是什么

光刻膠的組成:樹(shù)脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機(jī)械與化學(xué)性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑對(duì)光能發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);溶劑(Solvent
2022-10-21 16:40:0418801

國(guó)產(chǎn)光刻膠市場(chǎng)前景 國(guó)內(nèi)廠商迎來(lái)發(fā)展良機(jī)

10%-15%,對(duì)應(yīng)的 PAG 用量為一般按樹(shù)脂重量的 6%-8%添加,最 終 PAG 的成本占光刻膠總成本的 10%-20%。從單價(jià)看,KrF 光刻膠用 PAG 的價(jià)格在 0.5-1.5萬(wàn)元/kg
2022-11-18 10:07:433293

「前沿技術(shù)」英特爾以硅基技術(shù)成功制造量子芯片

在2022年硅量子電子研討會(huì)上,英特爾實(shí)驗(yàn)室宣布以現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體技術(shù)成功生產(chǎn)自旋量子計(jì)算芯片,這為未來(lái)量產(chǎn)量子計(jì)算機(jī)打下基礎(chǔ)。英特爾表示,最新研究結(jié)果是目前業(yè)界最大的硅基自旋量子運(yùn)算芯片,量產(chǎn)芯片
2022-11-25 17:03:371696

「前沿技術(shù)」英特爾以硅基技術(shù)成功制造量子芯片

來(lái)源:《半導(dǎo)體芯科技》雜志10/11期 在2022年硅量子電子研討會(huì)上,英特爾實(shí)驗(yàn)室宣布以現(xiàn)有硅基半導(dǎo)體技術(shù)成功生產(chǎn)自旋量子計(jì)算芯片,這為未來(lái)量產(chǎn)量子計(jì)算機(jī)打下基礎(chǔ)。英特爾表示,最新研究結(jié)果是目前
2022-11-28 17:22:331032

高端光刻膠通過(guò)認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝

此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒(méi)式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭┥a(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配套關(guān)鍵組分材料的生產(chǎn)能力,目前公司送樣驗(yàn)證的產(chǎn)品均由該自建產(chǎn)線產(chǎn)出。
2023-04-11 09:25:321069

英特爾量子芯片,重磅公布

目前,學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)沒(méi)有像英特爾這樣的大批量制造制造設(shè)備。有了 Tunnel Falls,研究人員可以立即開(kāi)始進(jìn)行實(shí)驗(yàn)和研究,而不是嘗試制造自己的設(shè)備。因此,更廣泛的實(shí)驗(yàn)成為可能,包括更多地了解量子位和量子點(diǎn)的基礎(chǔ)知識(shí),以及開(kāi)發(fā)用于使用具有多個(gè)量子位的設(shè)備的新技術(shù)。
2023-06-20 15:38:56610

半導(dǎo)體制造領(lǐng)域光刻膠的作用和意義

光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一,決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時(shí)間的40%-50%,占其總成本的30%。光刻膠光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材,其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24633

光刻膠黏度如何測(cè)量?光刻膠需要稀釋嗎?

光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體,不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要?黏度用什么表征?哪些光刻膠算高黏度,哪些算低黏度呢?
2023-11-13 18:14:111095

不僅需要***,更需要光刻膠

為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹(shù)脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過(guò)程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測(cè)也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)。例如,2019年,某家半導(dǎo)體制造公司由于光刻膠受到光阻原料的污染,導(dǎo)致上萬(wàn)片12吋晶圓報(bào)廢
2023-11-27 17:15:48842

阿里達(dá)摩院裁撤量子實(shí)驗(yàn)室證實(shí)!

據(jù)阿里達(dá)摩院證實(shí),他們已經(jīng)決定裁撤量子實(shí)驗(yàn)室,并將實(shí)驗(yàn)室及儀器設(shè)備捐贈(zèng)給浙江大學(xué)。這一舉措的目的是為了促進(jìn)量子科技的協(xié)同發(fā)展,并將捐贈(zèng)的實(shí)驗(yàn)室和設(shè)備開(kāi)放給浙江大學(xué)及其他高校和科研機(jī)構(gòu)使用。
2023-11-28 18:20:28932

萬(wàn)潤(rùn)股份在半導(dǎo)體制造材料領(lǐng)域穩(wěn)步推進(jìn),涉足光刻膠單體、PI等業(yè)務(wù)

近期,萬(wàn)潤(rùn)股份在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)透露,其“年產(chǎn)65噸半導(dǎo)體用光刻膠樹(shù)脂系列”項(xiàng)目已經(jīng)順利投入運(yùn)營(yíng)。該項(xiàng)目旨在為客戶提供專業(yè)的半導(dǎo)體用光刻膠樹(shù)脂類材料。
2023-12-12 14:02:58599

速度影響光刻膠的哪些性質(zhì)?

光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻中至關(guān)重要的參數(shù),那么我們?cè)趧?b class="flag-6" style="color: red">膠時(shí),是如何確定勻速度呢?它影響光刻膠的哪些性質(zhì)?
2023-12-15 09:35:561190

光刻膠分類與市場(chǎng)結(jié)構(gòu)

光刻膠主要下游應(yīng)用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用,占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%,是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:21861

瑞紅集成電路高端光刻膠總部落戶吳中

據(jù)吳中發(fā)布的最新消息,簽約項(xiàng)目涵蓋了瑞紅集成電路高端光刻膠總部項(xiàng)目,該項(xiàng)投資高達(dá)15億元,旨在新建半導(dǎo)體光刻膠及其配套試劑的生產(chǎn)基地。
2024-01-26 09:18:43383

如何在芯片中減少光刻膠的使用量

光刻膠不能太厚或太薄,需要按制程需求來(lái)定。比如對(duì)于需要長(zhǎng)時(shí)間蝕刻以形成深孔的應(yīng)用場(chǎng)景,較厚的光刻膠層能提供更長(zhǎng)的耐蝕刻時(shí)間。
2024-03-04 10:49:16381

光刻膠光刻機(jī)的區(qū)別

光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
2024-03-04 17:19:182313

光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)短波紅外成像膠體量子點(diǎn)芯片

近日,首個(gè)膠體量子點(diǎn)成像芯片在光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)成功,其具備優(yōu)異性能。該芯片已能實(shí)現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模達(dá)到30萬(wàn),盲元率低于每十萬(wàn)個(gè)像素中只有6個(gè)因素導(dǎo)致信號(hào)丟失,圖像波長(zhǎng)范圍為0.4至1.7微米
2024-03-07 15:22:431297

要讓量子計(jì)算走出實(shí)驗(yàn)室

轉(zhuǎn)自環(huán)球時(shí)報(bào)環(huán)球時(shí)報(bào)記者張蔚藍(lán)陳子帥原稿標(biāo)題:中國(guó)科學(xué)院量子信息重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室副主任郭國(guó)平:要讓量子計(jì)算走出實(shí)驗(yàn)室原文鏈接:https://m.huanqiu.com/article
2024-03-06 08:21:05198

武漢光谷實(shí)驗(yàn)室短波紅外芯片完成中試,年內(nèi)預(yù)計(jì)銷售千萬(wàn)元

一顆黃豆大小的芯片,利用新技術(shù)膠體量子點(diǎn)紅外探測(cè)成像做成“視覺(jué)芯片”,裝到手機(jī)、檢測(cè)器上,可以“穿透”介質(zhì),看到肉眼看不到的“真相”。 光谷實(shí)驗(yàn)室近日宣布,其聯(lián)合科研團(tuán)隊(duì)(華中科技大學(xué)實(shí)驗(yàn)室、溫州
2024-03-12 08:43:40254

光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)膠體量子點(diǎn)成像芯片,有望顛覆短波紅外市場(chǎng)

湖北光谷實(shí)驗(yàn)室近日宣布,其科研團(tuán)隊(duì)研發(fā)的膠體量子點(diǎn)成像芯片已實(shí)現(xiàn)短波紅外成像,面陣規(guī)模30萬(wàn)、盲元率低于6‰、波長(zhǎng)范圍0.4-1.7微米、暗電流密度小于50 nA/cm2、外量子效率高于60%,號(hào)稱“性能優(yōu)越”。
2024-03-12 14:46:59616

關(guān)于光刻膠的關(guān)鍵參數(shù)介紹

與正光刻膠相比,電子束負(fù)光刻膠會(huì)形成相反的圖案。基于聚合物的負(fù)型光刻膠會(huì)在聚合物鏈之間產(chǎn)生鍵或交聯(lián)。未曝光的光刻膠在顯影過(guò)程中溶解,而曝光的光刻膠則保留下來(lái),從而形成負(fù)像。
2024-03-20 11:36:501437

英特爾推出Hala Point全球最大仿神經(jīng)形態(tài)系統(tǒng),解決AI效率問(wèn)題

英特爾實(shí)驗(yàn)室神經(jīng)形態(tài)運(yùn)算總監(jiān)Mike Davies指出,“當(dāng)前AI模型訓(xùn)練及部署成本增長(zhǎng)迅速,行業(yè)亟需創(chuàng)新方法。因此,英特爾實(shí)驗(yàn)室研發(fā)了Hala Point,融合深度學(xué)習(xí)效率、類人腦持續(xù)學(xué)習(xí)和優(yōu)化功能。
2024-04-23 10:00:55329

一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場(chǎng)和痛點(diǎn)

共讀好書(shū) 前烘對(duì)正顯影的影響 前烘對(duì)負(fù)顯影的影響 需要這個(gè)原報(bào)告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料,內(nèi)含光刻膠多份精品報(bào)告【贈(zèng)2024電子資料百份】6 月 28-30 日北京“電子化學(xué)品行業(yè)分析檢測(cè)與安全管理培訓(xùn)班”。 審核編輯 黃宇
2024-06-23 08:38:02244

光刻膠的保存和老化失效

我們?cè)谑褂?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠的時(shí)候往往關(guān)注的重點(diǎn)是光刻膠的性能,但是有時(shí)候我們會(huì)忽略光刻膠的保存和壽命問(wèn)題,其實(shí)這個(gè)問(wèn)題應(yīng)該在我們購(gòu)買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并且,在光刻過(guò)程中如果發(fā)現(xiàn)有異常情況發(fā)生,我們
2024-07-08 14:57:08251

光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

圖形反轉(zhuǎn)是比較常見(jiàn)的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正使用又可以作為負(fù)使用。相比而言,負(fù)工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)工藝下,通過(guò)適當(dāng)?shù)墓に噮?shù),可以獲得底切的側(cè)壁
2024-07-09 16:06:00162

光刻膠后烘技術(shù)

后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過(guò)程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說(shuō)還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進(jìn)行。前面的文章中我們?cè)?/div>
2024-07-09 16:08:43252

光刻膠的一般特性介紹

評(píng)價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速度的指標(biāo)。光刻膠的靈敏度越高,所需的曝光劑量
2024-07-10 13:43:49161

光刻膠的硬烘烤技術(shù)

根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝,我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽?duì)已顯影的光刻膠結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián),稱為硬烘烤或者堅(jiān)膜。或通過(guò)低劑量紫外線輻照
2024-07-10 13:46:59127

光刻膠涂覆工藝—旋涂

為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性,必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中,是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求,有許多工藝可用于涂覆光刻膠。 旋涂是用光刻膠涂覆基材
2024-07-11 15:46:36201

導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些?

存儲(chǔ)時(shí)間 正和圖形反轉(zhuǎn)在存儲(chǔ)數(shù)月后會(huì)變暗,而且隨著儲(chǔ)存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃愋?b class="flag-6" style="color: red">光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見(jiàn)光譜的部分具有很強(qiáng)的吸收能力,對(duì)紫外靈敏度沒(méi)有任何影響。這種變色過(guò)程
2024-07-11 16:07:49204

破紀(jì)錄!芯片巨頭裁員,遣散費(fèi)400萬(wàn)元/人!

萊克斯利普(Leixlip)的員工提供自愿離職方案, 補(bǔ)償金額可能高達(dá)50萬(wàn)歐元(約393萬(wàn)元人民幣,接近400萬(wàn)元人民幣)。 該提案規(guī)定,員工需在8月23日前申請(qǐng)自愿離職。根據(jù)提出的條件,服務(wù)超過(guò)兩年的員工每年可額外獲得五周工資的補(bǔ)償。這還不包
2024-08-14 09:17:14199

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