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光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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光刻掩模是光的一種掩蔽模片,其作用有類似于照相的通過它,可以使它“底下“的光劑部分成光,難溶于有機藥品,一部分不感光,易溶于有機藥品,以而制得選擇擴散所...
微流控光刻掩膜的制作過程涉及多個步驟,?包括設計、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結構的掩膜版。? 首先,?設計階段是制作掩膜版...
半導體芯科技編譯 來源:Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰...
3 月 5 日消息,美光科技公司計劃率先支持佳能的納米印刷技術,從而進一步降低生產 DRAM 存儲芯片的單層成本。 美光公司近日舉辦了一場演講,介紹在將...
精密光子制造中為什么要使用飛秒激光?飛秒激光器發射持續時間低于一皮秒的超短光脈沖,達到飛秒級(1fs=10-15s)。飛秒激光的特點是脈沖寬度極短,峰值...
掩膜版(Photomask),又稱光罩,是芯片制造光刻工藝所使用的線路圖形母版。它如同照相過程中的底片,承載著將電路圖形轉印到晶圓上的重要使命。掩膜版主...
10.8.5 光刻-電鍍-注塑技術(LIGA)∈《集成電路產業全書》
點擊上方藍字關注我們Lithographie-Galvanoformung-Abformung(LIGA)審稿人:北京大學王瑋審稿人:北京大學張興蔡一茂...
? 圖像轉移,也稱為光刻技術(或簡稱光刻),在PCB的電路圖形方面發揮關鍵作用。它能實現復雜和精確的連接,以支持在更小的區域實現更多連接。隨著對更高密度...
掩膜版作為微納加工技術中光刻工藝所使用的圖形母版,在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機電系統等領域具有廣泛的應用。隨著信息技術和智能制造的快速發展,特別...
來源:Silicon Semiconductor ? SkyWater位于明尼蘇達的工廠旨在擁有世界上最先進的200毫米光刻技術。 SkyWater T...
在我們今天看來,晶體管發明以后,集成電路的出現一直到今天超大規模集成電路的出現,似乎是一件水到渠成的事情。但是如果回到半導體產業初興的歷史現場,我們就會...
正性光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個方面: 基板材料:掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料,因為它具有較低...
國產突破!初創企業用塑料碼盤代替精密光柵?破解光柵編碼器光刻工藝"卡脖子"難題
? 在機器人的運行過程中,編碼器發揮著重要作用。機器人的位置測量、速度測量、方向判斷以及閉環控制等基礎性工作,均離不開編碼器。作為機器人實現精準運動控制...
納米壓印制備硅基 OLED 微型顯示器的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 硅基 OLED 微型顯示器憑借高分辨率、高對比度等優勢,在虛擬現實、增強現實等領域應用廣泛。納米壓印技術為其制備提供了新方向,而精確測量光刻圖形是...
一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導體制造的核心技術,通過光刻膠在特殊波長光線或者電子束下發生化學變化,再經過曝光、顯影、刻蝕等工藝過程,將設計在掩膜上的圖...
Micro OLED 陽極像素定義層制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
? 引言 ? Micro OLED 作為新型顯示技術,在微型顯示領域極具潛力。其中,陽極像素定義層的制備直接影響器件性能與顯示效果,而光刻圖形的精準測量...
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