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光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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光刻掩膜版的制作是一個復雜且精密的過程，涉及到多個步驟和技術。以下是小編整理的光刻掩膜版制作流程： 1. 設計與準備 在開始制作光刻掩膜版之前，首先需要...
集成電路自發明以來，經過20世紀 60年代和70 年代的發展，逐步形成了集成電路產業。1965年，仙童公司的戈登 ?摩爾（Cordon E. Moore...
據知悉阿姆斯特丹大學（UVA）已同意將其專利混合立體光刻（SLA）技術授權給數字光處理（DLP）3D打印機制造商atum3D。這種混合SLA工藝由UVA...
京瓷株式會社的全資子公司——京瓷金石株式會社（以下簡稱“京瓷金石”）是專門從事水晶元器件開發生產的公司。該公司運用光刻加工技術成功研發出AT切割水晶振動...
2022年5月20日，美國總統拜登在韓國總統尹錫悅陪同下視察了三星半導體工廠擴建的最新產線，三星半導體的工作人員向總統們介紹了其產品的部署進展時，介紹了...
圣彼得堡彼得大帝理工大學（SPbPU）的專家表示，他們已經成功開發了兩套用于生產微電子納米結構的裝置，這將有助于解決俄羅斯在微電子領域的技術主權問題。這...
什么是光刻？光刻是將掩模上的幾何形狀轉移到硅片表面的過程。光刻工藝中涉及的步驟是晶圓清洗；阻擋層的形成；光刻膠應用；軟烤；掩模對準；曝光和顯影；和硬烤。
半導體的清洗在制造工序中也是非常重要的。特別是光刻膠的去除是最困難的，一般使用硫酸和過氧化氫混合的溶液(SPM)等。但是，這些廢液的處理是極其困難的，與...
劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關鍵的一種工藝，通過光刻成像系統，將設計好的圖形轉移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產生畸變。
電子發燒友網報道（文/周凱揚）不久之前，英特爾宣布在歐洲開展野心勃勃的擴張計劃，未來十年內在歐洲投資800多億歐元，欲助力歐洲的半導體生產制造份額從如今...
晶圓廠通常使用光刻膠來圖案化抗蝕刻硬掩模，然后依靠硬掩模來保護晶圓。但是，如果光刻膠太薄，它可能會在第一個轉移步驟完成之前被侵蝕掉。隨著光刻膠厚度的減小...
微機電系統(MEMS)、納米技術以及半導體市場晶圓鍵合和光刻設備領先供應商EV集團(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT，旨針對大容量先進封裝...
通常，光刻是作為特性良好的模塊的一部分執行的，其中包括晶圓表面制備、光刻膠沉積、掩模和晶圓的對準、曝光、顯影和適當的抗蝕劑調節。光刻工藝步驟需要按順序進...
作為半導體器件和MEMS微加工技術基礎的光刻技術中，顯影和清洗等濕法工藝是必不可少的。在本稿中，介紹了能夠定量評價超臨界CO2處理對微細光刻膠圖案―基板...
本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑，選擇負光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數量...
一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場和痛點
共讀好書 前烘對正膠顯影的影響 前烘對負膠膠顯影的影響 需要這個原報告的朋友可轉發這篇文章獲取百份資料，內含光刻膠多份精品報告【贈2024電子資料百份】...
光刻機是芯片智造的核心設備之一，也是當下尤為復雜的精密儀器之一。正因為此，荷蘭光刻機智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機才會“千金難求”。 很多人都對光刻機...
微流控光刻掩膜在微流控芯片制造中扮演著至關重要的角色。它的主要作用是通過曝光和顯影等工序，將掩膜上已設計好的圖案轉移到襯底的光刻膠上，進行圖像復制，從而...
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