臺(tái)積電NIL等下一代光刻專利遙遙領(lǐng)先于三星熱

盡管 EUV 正朝著全面商業(yè)化的方向發(fā)展，并受到半導(dǎo)體行業(yè)的廣泛關(guān)注，但半導(dǎo)體生產(chǎn)商對(duì) NIL（納米壓印）和 DSA（引導(dǎo)自組裝）等替代技術(shù)的研究和開發(fā)...

2023-02-07 標(biāo)簽：三星電子晶圓光刻 1069 0

俄羅斯政府預(yù)計(jì)2030年開發(fā)出28納米制程技術(shù)

，俄羅斯政府推出了一項(xiàng)國家計(jì)劃，到2030年開發(fā)出自己的28納米制程技術(shù)，并盡可能利用外國芯片進(jìn)行逆向工程取得技術(shù)，同時(shí)也要培養(yǎng)本土人才從事國產(chǎn)芯片的生產(chǎn)工作。

2022-11-08 標(biāo)簽：光刻7nm 1041 0

俄羅斯開發(fā)出可替代***的芯片制造設(shè)備

這個(gè)復(fù)合體由兩種設(shè)施組成。第一個(gè)裝置是為“無掩模納米光刻”設(shè)計(jì)的，可以在沒有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設(shè)備位于第一種設(shè)備制造的基板圖案上，利...

2023-10-10 標(biāo)簽：傳感器光刻人工智能 1019 0

八億時(shí)空：光刻膠樹脂量產(chǎn)產(chǎn)能不斷提升 預(yù)計(jì)明年將會(huì)貢獻(xiàn)一定營收

該公司目前集中開發(fā)krf光刻樹脂及其衍生物，分為負(fù)離子聚合的狹窄分布樹脂和包括三重聚合物在內(nèi)的自由基聚合的廣泛分布樹脂。現(xiàn)在下游客戶對(duì)這兩個(gè)地區(qū)都有需求...

2023-11-09 標(biāo)簽：樹脂光刻電子材料 1007 0

芯片制造發(fā)展是否存在新路徑

從技術(shù)發(fā)展的角度看，芯片線寬越來越小，各種光學(xué)效應(yīng)、系統(tǒng)誤差和工藝條件偏差等變得越來越精細(xì)。計(jì)算光刻可以通過算法建模、仿真計(jì)算、數(shù)據(jù)分析和結(jié)果優(yōu)化等手段...

2023-10-10 標(biāo)簽：晶圓芯片制造光刻 998 0

光通訊膠水中的掩膜保護(hù)UV膠水

在半導(dǎo)體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜(也稱作“掩模”)，其作用是在硅片上選定的區(qū)域中對(duì)一個(gè)不透明的圖形模板遮...

2022-03-07 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻 988 0

替代EUV光刻，新方案公布！

來源：半導(dǎo)體行業(yè)觀察，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著英特爾、三星、臺(tái)積電以及日本即將落成的先進(jìn)晶圓代工廠 Rapidus盡管各家公司都各自準(zhǔn)備將...

2024-06-17 標(biāo)簽：光刻EUV 980 0

中國芯片制造廠商無懼封禁！訂單一路飆升

隨著美國對(duì)中國半導(dǎo)體行業(yè)實(shí)施更嚴(yán)格的限制措施，中國的芯片制造廠商成為了不可忽視的受益者。根據(jù)外媒報(bào)道，中國頂尖的芯片代工廠為了加速自主科技發(fā)展，已經(jīng)開始...

2023-10-23 標(biāo)簽：芯片芯片制造光刻 937 0

光掩膜基版在光刻中的作用

想必大家都有所了解，光刻機(jī)對(duì)芯片制造的重要性，而光掩膜版又稱光罩，光掩膜等； 光掩膜版是由制造商通過光刻制版工藝將電路圖刻制于基板上制作而成，主要作用體...

2024-10-09 標(biāo)簽：光刻 928 0

德累斯頓工廠的電子束光刻系統(tǒng)

來源：半導(dǎo)體芯科技編譯 投資半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)新的生產(chǎn)設(shè)備 Jenoptik公司計(jì)劃投資數(shù)億歐元，為目前在德累斯頓建設(shè)的高科技工廠建造最先進(jìn)的系統(tǒng)。新型電子...

2024-01-15 標(biāo)簽：光刻電子束 899 0

艾森股份：半導(dǎo)體封裝材料龍頭企業(yè)沖刺科創(chuàng)板

據(jù)上海證券交易所上市審查委員會(huì)公告，艾森股票將于8月14日在科創(chuàng)股票市場(chǎng)上市。艾森股份有限公司從事電子化學(xué)品的研究，開發(fā)，生產(chǎn)和銷售。電子電鍍、光刻2個(gè)...

2023-08-08 標(biāo)簽：電鍍光刻半導(dǎo)體制造 897 0