來源：半導體芯科技編譯

投資半導體設備行業新的生產設備

Jenoptik公司計劃投資數億歐元，為目前在德累斯頓建設的高科技工廠建造最先進的系統。新型電子束光刻系統（E-Beam）將用于為半導體和光通信領域的客戶制造高精度微型光學元件。制造商是位于德國耶拿的電子束技術專家Vistec Electron Beam GmbH。該系統將于2025年初交付。

以最高精度創建最小的結構

這種類型的電子束光刻系統可以在直徑達300毫米的襯底上以10納米范圍（約為頭發絲的1/2,000）精度“寫入”結構。

Vistec SB3050-2電子束光刻系統基于所謂的可變形狀光束原理，即使是大面積的結構也可以高精度且有效地構建。Vistec SB3050-2的進一步特點是高度自動化以及可用襯底的靈活性，使其能夠在工業環境中使用。該系統配備了單元投影功能，為微光學應用開辟了更多可能性。

Jenoptik自2007年以來一直活躍在德累斯頓。通過在德累斯頓機場公園新建高科技工廠，該公司正在鞏固其目前分布在幾個小型外部基地的生產，同時擴大其產能。新工廠的潔凈室生產面積將達到2,000平方米，潔凈室面積達到ISO 5和3級，滿足無振動和溫度穩定性的最高要求。

整個工廠都考慮到了高環境標準：Jenoptik正在努力通過“KfW 40標準”和“LEED黃金標準認證”來滿足目前在可持續性方面最全面、最嚴格的建筑標準。同時，將創造高質量的就業機會，現場員工人數將增加至120多人。薩克森州首府將因此成為微光學行業的主要所在地。

審核編輯 黃宇