來源：Silicon Semiconductor

SkyWater位于明尼蘇達的工廠旨在擁有世界上最先進的200毫米光刻技術(shù)。

SkyWater Technology已從 Multibeam Corp. 獲得首款用于批量生產(chǎn)的多柱電子束光刻 (MEBL) 系統(tǒng)。Multibeam (MB) 平臺是半導體行業(yè)的里程碑，它提供了一種高吞吐量直接寫入圖案化系統(tǒng)，其速度比傳統(tǒng)電子束設(shè)備快幾個數(shù)量級，生產(chǎn)效率更高。MB 系統(tǒng)將提供給 SkyWater 客戶進行早期概念原型設(shè)計和快速生產(chǎn)。

“很高興能通過 Multibeam 革命性技術(shù)為客戶提供新的光刻功能。MB 平臺的部署將為安全防御、生物醫(yī)學、熱成像、高可靠性和高級計算市場中從概念到生產(chǎn)的創(chuàng)新者拓展能力并縮短產(chǎn)品上市時間。”

MEBL 為 SkyWater 的客戶提供多項新的生產(chǎn)能力，包括用于防偽應(yīng)用的安全芯片 ID 和全晶圓圖案化，可支持焦平面讀取 IC 和其他類型的大尺寸芯片。MEBL 還為一系列高拓撲微流體和 MEMS 架構(gòu)、光子學曲線設(shè)計和高密度 MOS 提供大聚焦深度。此外，它是唯一能夠在 200 毫米晶圓上實現(xiàn) 50 納米以下幾何形狀的生產(chǎn)光刻設(shè)備。

MB 平臺創(chuàng)新配置了多個小型化電子束柱，將電子束光刻 (EBL) 提升為突破性的無掩模光刻生產(chǎn)系統(tǒng)，為當今的 IC 晶圓廠帶來了卓越的性能和成本優(yōu)勢。首套 Multibeam 系統(tǒng)的交付是過去兩年來與 SkyWater 密切合作的結(jié)果。此次合作還提供了關(guān)鍵晶圓廠的運營洞察，在將 MB 平臺交付給 SkyWater 之前，這些運營洞察是用來定義關(guān)鍵系統(tǒng)的性能規(guī)格。

Multibeam 董事長兼首席執(zhí)行官 David K. Lam 博士表示：“這對 Multibeam 來說是一個重要的里程碑，我們非常自豪能與 SkyWater 分享這一里程碑。從我們與 SkyWater 合作之初，他們就支持我們重新創(chuàng)新 EBL 以實現(xiàn)大批量生產(chǎn)的目標，并提供了關(guān)鍵的用戶觀點，幫助我們加速開發(fā)計劃并商業(yè)化世界一流的無掩模光刻系統(tǒng)。非常感謝與其合作，很高興能將我們的第一個生產(chǎn)設(shè)備配置在 SkyWater 晶圓廠。”

SkyWater 首席執(zhí)行官兼董事 Thomas Sonderman 強調(diào)了這項技術(shù)對目標增長市場客戶的價值，“我們很高興能夠借助 Multibeam 革命性的技術(shù)為客戶提供新的光刻功能。MB 平臺的部署將幫助安全防御、生物醫(yī)學、熱成像、高可靠性和高級計算市場中從概念到生產(chǎn)的創(chuàng)新者拓展能力并縮短上市時間。”

Sonderman 補充道：“我們與 Multibeam 的合作，體現(xiàn)了合作伙伴關(guān)系在開發(fā)突破性設(shè)備，加速美國芯片創(chuàng)新方面的力量，并借此讓 SkyWater 位于明尼蘇達州的工廠擁有了世界上最先進的 200 毫米光刻技術(shù)。”

SkyWater 將在2024年第四季度提供對為設(shè)備首批客戶設(shè)計的訪問權(quán)限。

審核編輯 黃宇