國產(chǎn)光刻膠市場前景 國內(nèi)廠商迎來發(fā)展良機(jī)

半導(dǎo)體光刻膠用光敏材料仍屬于“卡脖子”產(chǎn)品，海外進(jìn)口依賴較重，不同品質(zhì)之間價(jià) 格差異大。以國內(nèi) PAG 對應(yīng)的化學(xué)放大型光刻膠（主要是 KrF、ArF ...

2022-11-18 標(biāo)簽：半導(dǎo)體EUV光刻膠 4121 0

沉浸式光刻技術(shù)是什么 原理是什么

沉浸式光刻技術(shù)是在傳統(tǒng)的光刻技術(shù)中，其鏡頭與光刻膠之間的介質(zhì)是空氣，而所謂浸入式技術(shù)是將空氣介質(zhì)換成液體。實(shí)際上，浸入式技術(shù)利用光通過液體介質(zhì)后光源波長...

2022-10-13 標(biāo)簽：晶圓EUV 4077 0

臺積電投資250億美元建廠，明年4月試產(chǎn)5nm EUV工藝

在7nm及以下節(jié)點(diǎn)上，臺積電的進(jìn)展是最快的，今年量產(chǎn)7nm不說，最快明年4月份就要試產(chǎn)5nm EUV工藝了，不過這個(gè)節(jié)點(diǎn)的投資花費(fèi)也是驚人的，臺積電投資...

2018-10-08 標(biāo)簽：臺積電EUV5nm 4032 0

消息稱三星5nm等部分工藝良率低于50%，三星沒否認(rèn)

在全球晶圓代工市場上，臺積電的市場份額超過了50%，位居第一，其產(chǎn)能和技術(shù)都是領(lǐng)先的。排名第二的三星拿下了超過20%的市場份額，先進(jìn)工藝直追臺積電，高通...

2021-07-05 標(biāo)簽：芯片代工EUV5nm 4024 0

三星最先進(jìn)EUV產(chǎn)線投用：7nm產(chǎn)能今年增加兩倍

V1產(chǎn)線/工廠2018年2月動工，2019年下半年開始測試晶圓生產(chǎn)，首批產(chǎn)品今年一季度向客戶交付。目前，V1已經(jīng)投入7nm和6nm EUV移動芯片的生產(chǎn)...

2020-02-21 標(biāo)簽：三星電子EUV 3966 0

Cadence 數(shù)字全流程解決方案通過三星5LPE工藝認(rèn)證

采用極紫外（EUV）光刻技術(shù)的Cadence 數(shù)字全流程解決方案已通過Samsung Foundry 5nm早期低功耗版（5LPE）工藝認(rèn)證。

2019-07-11 標(biāo)簽：三星電子EUV 3945 0

光刻機(jī)行業(yè)需求空間廣闊，國產(chǎn)設(shè)備有優(yōu)勢嗎？

光刻機(jī)技術(shù)壁壘高且投資占比大，芯片尺寸的縮小以及性能的提升依賴于光刻技術(shù)的發(fā)展。

2020-02-21 標(biāo)簽：光刻機(jī)euv 3930 0

日韓貿(mào)易戰(zhàn)愈演愈烈 將直接影響三星電子EUV工藝研發(fā)進(jìn)度

近日，日韓貿(mào)易戰(zhàn)愈演愈烈，日本宣布氟聚酰亞胺（Fluorine Polyimide）、半導(dǎo)體制造中的核心材料光刻膠和高純度氟化氫（Eatching Ga...

2019-07-14 標(biāo)簽：三星電子臺積電EUV 3912 0

臺積電EUV光刻機(jī)采購將超過50臺；完全自主知識產(chǎn)權(quán)！我國三代核電技術(shù) “國和一號”研發(fā)完成…

9月28日消息，臺積電加速先進(jìn)制程推進(jìn)，近期擴(kuò)大釋單，累計(jì) EUV 機(jī)臺至 2021年底將超過50臺。報(bào)道指出，相較之下，三星電子（Samsung El...

2020-09-29 標(biāo)簽：臺積電核電EUV 3902 0

芯片制造關(guān)鍵的EUV光刻機(jī)單價(jià)為何能超1億歐元？

進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過20億歐元，折...

2017-01-19 標(biāo)簽：芯片制造光刻機(jī)EUV 3868 0

中芯訂購EUV設(shè)備，只為縮小差距

據(jù)知情人士透露，中國最大的晶圓代工廠中芯國際已經(jīng)訂購了一臺EUV設(shè)備，在中美兩國貿(mào)易緊張的情況下，此舉旨在縮小與市場領(lǐng)先者的技術(shù)差距，確保關(guān)鍵設(shè)備的供應(yīng)...

2018-05-27 標(biāo)簽：英特爾中芯國際三星電子 3852 0

SK 海力士 M16 新廠已竣工：首次使用極紫外輻射（EUV）光刻機(jī)在生產(chǎn)存儲芯片

存儲芯片廠商 SK 海力士 2 月 1 日宣布，其公司位于韓國首爾南部利川市的 M16 新廠已經(jīng)竣工，SK 海力士將首次使用極紫外輻射（EUV）光刻機(jī)在...

2021-02-02 標(biāo)簽：存儲芯片光刻機(jī)EUV 3852 0

傳三星與SK海力士正在研發(fā)EUV技術(shù) 未來有機(jī)會藉此將生產(chǎn)DRAM的成本降低

就在臺積電與三星在邏輯芯片制程技術(shù)逐漸導(dǎo)入EUV技術(shù)之后，存儲器產(chǎn)業(yè)也將追隨。也就是全球存儲器龍頭三星在未來1Y納米制程的DRAM存儲器芯片生產(chǎn)上，也在...

2018-10-29 標(biāo)簽：DRAM三星電子EUV 3839 0

臺積電 | 首次加入EUV極紫外光刻技術(shù) 7nm+工藝芯片已量產(chǎn)

臺積電官方宣布，已經(jīng)開始批量生產(chǎn)7nm N7+工藝，這是臺積電第一次、也是行業(yè)第一次量產(chǎn)EUV極紫外光刻技術(shù)，意義非凡。

2019-05-28 標(biāo)簽：臺積電光刻EUV 3832 0

三星Exynos 1080處理器 5nm EUV FinFET工藝制造

蘋果A14仿生芯片拉動手機(jī)芯片正式跨入了5nm時(shí)代。三星不甘人后，今天發(fā)布的三星Exynos 1080處理器，采用了5nm制程工藝，在性能和功耗控制等方...

2020-11-12 標(biāo)簽：三星電子EUV5nm 3815 0

EUV光刻工藝終于商業(yè)化 新一代EUV光刻工藝正在籌備

隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個(gè)里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多...

2018-10-30 標(biāo)簽：光刻EUV 3815 0

三星首次分享了基于EUV技術(shù)的7nm工藝細(xì)節(jié)

另外，7nm EUV的好處還在于，比多重曝光的步驟要少，也就是相同時(shí)間內(nèi)的產(chǎn)量將提升。當(dāng)然，這里說的是最理想的情況， 比如更好的EUV薄膜以減少光罩的污...

2018-06-22 標(biāo)簽：三星電子euv 3797 0