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標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
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全球三大晶圓代工廠今年將導(dǎo)入極紫外光微影技術(shù) 家登EUV光罩盒將大出貨
全球三大晶圓代工廠臺(tái)積電、英特爾、三星,最快將在2019年導(dǎo)入極紫外光微影技術(shù)(EUV),值得注意的是,全球可提供EUV光罩盒的業(yè)者只有兩家,家登是其中...
需要明確什么是EUV光刻機(jī)。它是一種采用極紫外線光源進(jìn)行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機(jī)相比,EUV光刻機(jī)可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級(jí)別,從...
EUV(極紫外光)光刻機(jī),是目前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)已投入規(guī)模生產(chǎn)使用的最先進(jìn)光刻機(jī)類型。近來,有不少消息都指出,EUV光刻機(jī)耗電量非常大,甚至它還成為困擾臺(tái)積電...
臺(tái)積電張忠謀細(xì)數(shù)半導(dǎo)體十大發(fā)明
臺(tái)積電(2330)創(chuàng)辦人張忠謀今在國(guó)際半導(dǎo)體展(SEMICON TAIWAN)IC60大師論壇,以《半導(dǎo)體業(yè)的重要?jiǎng)?chuàng)新看半導(dǎo)體公司的盛衰》為題,指出晶圓...
asml是euv技術(shù)開發(fā)的領(lǐng)先者。asml公司是半導(dǎo)體領(lǐng)域光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)的領(lǐng)頭羊,也是全球市場(chǎng)占有率最大的光刻機(jī)生產(chǎn)企業(yè)。2012年,asml推出了世界...
這幾年,雖然摩爾定律基本失效或者說越來越遲緩,但是在半導(dǎo)體工藝上,幾大巨頭卻是殺得興起。Intel終于進(jìn)入10nm工藝時(shí)代并將在后年轉(zhuǎn)入7nm,臺(tái)積電、...
ASML放棄EUV光罩防塵薄膜研發(fā)并技轉(zhuǎn)日本三井化學(xué)
ASML將中斷EUV Pellicle(光罩防塵薄膜)技術(shù)的研發(fā),并將該技術(shù)轉(zhuǎn)讓與日本。
美光公布DRAM和NANDFlash的最新技術(shù)線路圖 將持續(xù)推進(jìn)1ZnmDRAM技術(shù)及研發(fā)128層3DNAND
作為全球知名的存儲(chǔ)器廠商,近日,美光召開了2019年投資者大會(huì),在大會(huì)中上,美光展示了DRAM和NAND Flash下一代技術(shù)的發(fā)展以及規(guī)劃。
ASML一騎絕塵,EUV光刻機(jī)出貨過半!國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備發(fā)展提速!
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/李彎彎)半導(dǎo)體設(shè)備廠商目前的銷售情況如何?今年以來,芯片產(chǎn)能不足之下全球各地加快建廠擴(kuò)產(chǎn),這帶動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)備廠商銷售持續(xù)高增長(zhǎng)。近日...
臺(tái)積電總裁暨執(zhí)行長(zhǎng)魏哲家在日前法人說明會(huì)中指出,7+nm良率推進(jìn)情況良好,預(yù)期第二季后進(jìn)入量產(chǎn)階段,臺(tái)積電已經(jīng)與數(shù)家客戶合作,協(xié)助其第二代或第三代產(chǎn)品設(shè)...
臺(tái)積電的5納米和3納米都將實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)
臺(tái)積電供應(yīng)鏈管理論壇高度強(qiáng)調(diào)未來前景正面樂觀,外資買盤昨天重新點(diǎn)火,推升股價(jià)大漲6元,以312元作收,市值重回8.09兆元,外資轉(zhuǎn)為買超1萬4,561張。
半導(dǎo)體技術(shù)微縮,新材料、材料純度和污染控制扮演重要角色
然而,真正讓芯片效能提升的關(guān)鍵,并非只是晶體管越做越小,也可以用 3D 制程取代 2D,或是導(dǎo)入新材料來提升性能,像是 1997 年 IBM 在半導(dǎo)體制...
英特爾確定的7納米制程會(huì)支援新一代EUV技術(shù)
隨著晶圓代工廠臺(tái)積電及記憶體廠三星電子的7納米邏輯制程均支援極紫外光(EUV)微影技術(shù),并會(huì)在2019年進(jìn)入量產(chǎn)階段,半導(dǎo)體龍頭英特爾也確定正在開發(fā)中的...
光刻機(jī)是當(dāng)前半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備,其技術(shù)含量和價(jià)值含量都很高。那么euv光刻機(jī)用途是什么呢?下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)...
中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的十大技術(shù)“瓶頸”解析
半導(dǎo)體技術(shù)是現(xiàn)代電子科技的核心,它的發(fā)展水平直接體現(xiàn)了一個(gè)國(guó)家的科技實(shí)力。近年來,我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)雖然取得了長(zhǎng)足進(jìn)步,但仍有一些核心技術(shù)尚未完全掌握。本文...
2024-06-06 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體封裝EUV 4205 0
華為并非三星和微軟,令人欣慰的是,在華為宣布鴻蒙系統(tǒng)上線后,生態(tài)圈里已吸引了京東、銀聯(lián)、百度地圖等120多家企業(yè)的加盟。
疫情或使三星與臺(tái)積電的差距進(jìn)一步擴(kuò)大 5nm工藝將遙遙無期
4月14日消息,據(jù)《韓國(guó)商業(yè)報(bào)》報(bào)道,荷蘭ASML是全球唯一一家生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的制造商。由于受到疫情影響,荷蘭ASML公司很難將設(shè)備出口,這給三星、臺(tái)...
臺(tái)積電EUV設(shè)備明年將超50臺(tái) 劍橋大學(xué)繼續(xù)和華為進(jìn)行5G合作
據(jù)臺(tái)灣媒體消息,全年臺(tái)積電已向ASML下單量約15-16臺(tái),而2021年至少13臺(tái),估計(jì)全年需求約可達(dá)16-17臺(tái)。臺(tái)積電在先進(jìn)制程的優(yōu)勢(shì)逐漸擴(kuò)大,與研...
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