引言
在半導(dǎo)體制造與微納加工行業(yè),光刻膠剝離液的使用量龐大。傳統(tǒng)剝離液存在環(huán)境污染、資源消耗等問題,可再生光刻膠剝離液憑借環(huán)保與可持續(xù)優(yōu)勢成為研究熱點。同時,白光干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用,為保障工藝質(zhì)量提供了關(guān)鍵技術(shù)支撐。
可再生光刻膠剝離液及其制備方法
常見可再生光刻膠剝離液類型
生物基剝離液
生物基剝離液以生物質(zhì)為原料,如植物提取物、發(fā)酵產(chǎn)物等。其主要成分包含有機酸、醇類等天然物質(zhì),這些物質(zhì)能夠與光刻膠發(fā)生物理或化學(xué)反應(yīng),實現(xiàn)光刻膠的有效剝離。例如,利用檸檬酸等有機酸的絡(luò)合能力,破壞光刻膠分子結(jié)構(gòu);以生物乙醇作為溶劑,增強對光刻膠的溶解性能。生物基剝離液具有來源廣泛、可生物降解的特點,極大降低了對環(huán)境的污染 。
可回收型剝離液
可回收型剝離液通過特殊的分離技術(shù),在使用后能夠?qū)⑵渲械挠行С煞只厥赵倮谩3R姷幕厥辗椒òㄕ麴s、萃取等。以含有特定有機溶劑的剝離液為例,使用后可通過蒸餾的方式,依據(jù)各成分沸點差異,將有機溶劑分離提純,重新用于剝離液的配制。這種剝離液減少了原材料的消耗,降低了生產(chǎn)成本,同時也減少了廢棄物的產(chǎn)生。
可再生光刻膠剝離液制備要點
制備生物基剝離液時,需對生物質(zhì)原料進行預(yù)處理,如提取、發(fā)酵優(yōu)化等,以提高有效成分的含量和活性。在成分復(fù)配階段,要精確控制有機酸、溶劑、助劑等的比例,確保剝離液對不同類型光刻膠的剝離效果。對于可回收型剝離液,制備過程中需考慮后續(xù)回收工藝的適配性,選擇合適的溶劑和添加劑,保證回收過程簡單高效且不影響剝離液性能。此外,無論哪種類型,都要對剝離液的穩(wěn)定性、腐蝕性等性能進行嚴(yán)格測試和優(yōu)化,通過調(diào)整配方和工藝參數(shù),使剝離液滿足工業(yè)生產(chǎn)需求。
白光干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用
測量原理
白光干涉儀基于光的干涉特性,將白光光源發(fā)出的光經(jīng)分光鏡分為測量光和參考光。測量光照射到待測光刻圖形表面反射回來,與參考光相遇產(chǎn)生干涉條紋。由于光刻圖形不同位置的高度差異,導(dǎo)致反射光的光程差不同,進而形成不同的干涉條紋圖案。通過分析干涉條紋的形狀、間距和強度等信息,結(jié)合光程差與表面高度的對應(yīng)關(guān)系,可精確計算出光刻圖形的高度、深度、線寬等參數(shù)。
測量優(yōu)勢
白光干涉儀具備高精度、非接觸式測量的特點,其測量精度可達(dá)納米級別,能夠精準(zhǔn)捕捉光刻圖形細(xì)微的尺寸變化。非接觸測量避免了對脆弱光刻圖形的物理損傷,保證了樣品的完整性。同時,測量速度快,可實現(xiàn)實時在線檢測,并能通過專業(yè)軟件對測量數(shù)據(jù)進行可視化處理,直觀呈現(xiàn)光刻圖形的形貌特征,便于工藝優(yōu)化和質(zhì)量控制。
實際應(yīng)用
在使用可再生光刻膠剝離液的工藝中,白光干涉儀發(fā)揮著重要作用。剝離前,可測量光刻膠的厚度、光刻圖形的初始形貌,評估光刻工藝的質(zhì)量;剝離過程中,實時監(jiān)測光刻膠的去除情況,判斷剝離進程是否正常;剝離完成后,精確測量殘留光刻膠的厚度、基片表面的粗糙度以及光刻圖形的最終尺寸,為優(yōu)化可再生剝離液配方和剝離工藝提供準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)支持,確保產(chǎn)品符合設(shè)計要求 。
一款可以“實時”動態(tài)/靜態(tài) 微納級3D輪廓測量的白光干涉儀
1)一改傳統(tǒng)白光干涉操作復(fù)雜的問題,實現(xiàn)一鍵智能聚焦掃描,亞納米精度下實現(xiàn)卓越的重復(fù)性表現(xiàn)。
2)系統(tǒng)集成CST連續(xù)掃描技術(shù),Z向測量范圍高達(dá)100mm,不受物鏡放大倍率的影響的高精度垂直分辨率,為復(fù)雜形貌測量提供全面解決方案。
3)可搭載多普勒激光測振系統(tǒng),實現(xiàn)實現(xiàn)“動態(tài)”3D輪廓測量。
實際案例
(以上為新啟航實測樣品數(shù)據(jù)結(jié)果)
1,優(yōu)于1nm分辨率,輕松測量硅片表面粗糙度測量,Ra=0.7nm
(以上為新啟航實測樣品數(shù)據(jù)結(jié)果)
2,毫米級視野,實現(xiàn)5nm-有機油膜厚度掃描
(以上為新啟航實測樣品數(shù)據(jù)結(jié)果)
3,卓越的“高深寬比”測量能力,實現(xiàn)深蝕刻槽深槽寬測量。
審核編輯 黃宇
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