近日，據(jù)外媒路透社報(bào)道稱，全球最先進(jìn)的光刻機(jī)生產(chǎn)廠商ASML正致力于進(jìn)行新一代光刻機(jī)的制造，預(yù)計(jì)第一臺(tái)會(huì)在明年完工，將在2025能夠正式投入使用，每臺(tái)新光刻機(jī)售價(jià)預(yù)計(jì)在4億美元左右。

新光刻機(jī)采用了High-NA光刻技術(shù)，High-NA指的是高數(shù)值孔徑，據(jù)了解，這種High-NA光刻技術(shù)能降低66%的尺寸，也就意味著芯片制程能夠進(jìn)一步得到升級(jí)，芯片也將獲得更高的性能，2nm之后的技術(shù)都得用這種技術(shù)來實(shí)現(xiàn)。High-NA光刻技術(shù)被認(rèn)為是延續(xù)摩爾定律的關(guān)鍵。

不過采用了High-NA光刻技術(shù)的光刻機(jī)體積會(huì)比之前的光刻機(jī)要大30%左右，據(jù)悉重量會(huì)達(dá)到200噸，大小將會(huì)和雙層巴士差不多大。

目前AMSL在High-NA光刻技術(shù)上還有一些壓力，因?yàn)殡m然光刻機(jī)是ASML生產(chǎn)的，但是ASML有著幾百家零件供應(yīng)商，對(duì)供應(yīng)商的依賴性比較嚴(yán)重，所以一旦供應(yīng)鏈出了問題，那么ASML的整個(gè)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈都將受到影響。

綜合整理自 DeepTech深科技 中關(guān)村在線 IT之家

審核編輯 黃昊宇