女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

光刻機是開路先鋒

MZjJ_DIGITIMES ? 來源:DIGITIMES ? 作者:DIGITIMES ? 2020-09-29 16:51 ? 次閱讀

近期據外媒消息美國政府正考慮將中芯國際列入實體清單中,導致它的股價大跌。

此條爆炸性的新聞如成現實,未來意味著美國半導體設備制造商,如應用材料、科林、科磊、包括ASML、日本東京電子、愛德萬測試等都可能被要求不能向中芯國際出口設備及提供服務。

顯然目前僅是傳聞,并沒有公開證實。但是從近期美方對于華為的制裁逐步升級,中芯國際不得不要面對現實,作好最壞的準備,去迎接戰斗。

今天中芯國際及華為面臨的問題,并不是中芯國際及華為兩家公司的問題,而是中國半導體產業的問題,只不過中芯國際及華為作為中國科技的代表企業而被擺上風口浪尖。

中芯國際要面對現實,或許是企業成長的必修課之一,只有經過各種各樣的磨練,企業才能真正壯大與成長,走向國際化。

國產化不是目的

美國利用EDA工具與IP及半導體設備等“殺手锏武器”來打壓中國半導體業。對此別無退路,相反也必須首先從這兩個方面去迎戰。

盡管從理論上“一個世界、兩個體系”是可行的,但是中國半導體業幾乎不可能再重建一條國產化高達100%的生產線,也不經濟,幾乎也不太可能,連美國也做不到,必須依靠全球化的協同力量。但是眼前的態勢是殘酷的,沒有其它的可行之路,逼著向國產化邁進。

業者必須把國產化看作是必修課之一,只有通過國產化的進程來提高自身的競爭力,所以不單是要踏實苦干,循序漸進,同時要高歌挺進。相信當能將若干關鍵半導體設備如光刻機,CVD,離子注入機,測試儀等部分實現了國產替代,并能達到較高水平,那時高技術出口禁運政策就自然會瓦解。

這就是當前社會的基本邏輯,“強者勝出,弱者挨打”。

所以對于中國半導體業在現階段的受壓困境,要作好長遠的心理準備,因為無論EDA工具與IP及半導體設備與材料,都是“硬骨頭”,可能要5年左右時間的不懈努力攻關。集中國內的優勢兵力,才有可能取得成功。全球化不是西方的恩施,而必須依靠競爭力的提升,所以全球化必須是通過競爭勝出努力爭取才會到來。

光刻機是開路先鋒

在“卡脖子”清單中有兩個大類是“硬骨頭”,分別是EDA工具與IP以及半導體設備與材料,而其中光刻機是首當其沖的“攔路虎”之一。

近日第一次見到中科院院長白春禮準備在光刻機,高端芯片等方面集結精銳力量組織系統攻關。

中國科學院將發揮多學科的綜合和建制化優勢,集結精銳力量組織系統攻關,有效解決一批“卡脖子”問題。

白春禮介紹,中科院在院層面成立了專門的領導小組,加強組織推進和統籌協調,明確任務的組織單位,科研人員全身心投入到科技攻關當中,簽署軍令狀。

消息是十分鼓舞人心,希望科研院所改變之前關注解決從“0”到“1”的問題,而目前國內光刻機迫切要解決卡脖子問題,因為在國外光刻機設備進口受阻時,國內光刻機在芯片生產線中的量產水平,直接決定了國內芯片生產線的工藝制程水平,所以它是“開路先鋒”。

在這樣的目標任務下首先要解決的是193納米浸潤式光刻機,能滿足量大面廣的28至7納米邏輯芯片制造的需求,而不是EUV。它應該是下一步的目標。

結語

貿易戰時起彼伏,時松時緊,是常態,要適應它。

未來中芯國際會怎么樣?無人知曉。但是如果把最壞的可能都想清楚,還有什么可以擔心。該來的一定會來。但是如果進入最困難的時期,首先要增強信心,千萬不能自亂陣腳,相信中國半導體業在美方的無邊際打壓下,暫時會有些困難,但是相信國家的實力支持及中芯國際的不懈努力,它應該仍是中國芯片制造業的領頭羊。

光刻機的攻堅任務是開路先鋒,它具有設備國產化的示范引導意義,因此必須集國內的智慧與人力及財力,在新的環境下,克服困難,徹底改變科研院所之前只關注解決從“0”到“1”,而不能與企業相結合,必須真正能解決芯片量產中的實用化問題。

同時對于光刻機國產化的復雜性要有充分認識與估計,因為02專項攻關任務中它是年年在列。顯然由于半導體設備卡脖子的教訓是刻骨銘心,推動此次產學研能真正的聯動,熱切盼望它將成為又一次打破美方技術壟斷與封鎖的典范。

關鍵核心技術是買不來,只有把關鍵核心技術掌握在自己手中,才能從根本上保障國家經濟與國防的安全。

原文標題:【名家】光刻機是科技攻關開路先鋒

文章出處:【微信公眾號:DIGITIMES】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

責任編輯:haq

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 中芯國際
    +關注

    關注

    27

    文章

    1436

    瀏覽量

    66094
  • 華為
    +關注

    關注

    216

    文章

    35066

    瀏覽量

    255195
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1163

    瀏覽量

    48076

原文標題:【名家】光刻機是科技攻關開路先鋒

文章出處:【微信號:DIGITIMES,微信公眾號:DIGITIMES】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    光刻機巨頭ASML業績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發燒友網報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產的關鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿斯麥(ASML
    的頭像 發表于 10-17 00:13 ?3280次閱讀

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關,電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會

    【2025年光刻機市場的規模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續增長,尤其是在先
    的頭像 發表于 04-07 09:24 ?518次閱讀

    不只依賴光刻機!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數字時代的“心臟”,其制造過程復雜而精密,涉及眾多關鍵環節。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備,但實際上,芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關鍵工藝,揭示這些工藝如何協同工作,共同鑄就了
    的頭像 發表于 03-24 11:27 ?941次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機</b>!芯片制造的五大工藝大起底!

    什么是光刻機的套刻精度

    在芯片制造的復雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環節。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說,它就像建造摩天大樓
    的頭像 發表于 02-17 14:09 ?1793次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>光刻機</b>的套刻精度

    光刻機用納米位移系統設計

    光刻機用納米位移系統設計
    的頭像 發表于 02-06 09:38 ?413次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>用納米位移系統設計

    半導體設備光刻機防震基座如何安裝?

    半導體設備光刻機防震基座的安裝涉及多個關鍵步驟和考慮因素,以確保光刻機的穩定運行和產品質量。首先,選擇合適的防震基座需要考慮適應工作環境。由于半導體設備通常在潔凈的環境下運行,因此選擇的搬運工具如
    的頭像 發表于 02-05 16:48 ?533次閱讀
    半導體設備<b class='flag-5'>光刻機</b>防震基座如何安裝?

    芯片制造:光刻工藝原理與流程

    光刻是芯片制造過程中至關重要的一步,它定義了芯片上的各種微細圖案,并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹,包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜
    的頭像 發表于 01-28 16:36 ?1160次閱讀
    芯片制造:<b class='flag-5'>光刻</b>工藝原理與流程

    如何提高光刻機的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發表于 01-20 09:44 ?1155次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機</b>的NA值

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
    的頭像 發表于 01-16 09:29 ?2092次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

    組成光刻機的各個分系統介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到
    的頭像 發表于 01-07 10:02 ?1930次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分系統介紹

    用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造:光刻技術的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導體技術的發展,但當光刻機的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
    的頭像 發表于 11-24 11:04 ?2134次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術介紹

    光刻機的工作原理和分類

    ? 本文介紹了光刻機在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機:芯片制造的關鍵角色 ? ? 光刻機在芯片制造中占據著至關重要的地位,被譽為芯片制
    的頭像 發表于 11-24 09:16 ?5254次閱讀

    一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術

    光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發展歷程、結構組成、關鍵性能參數以及雙工件臺技術展開介紹。 一、光刻機發展歷程 光刻機的發展歷程
    的頭像 發表于 11-22 09:09 ?4127次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機</b>的結構及雙工件臺技術

    一文了解光刻機成像系統及光學鍍膜技術

    高端光刻機研發是一個系統工程,涉及到各方面技術的持續改進和突破,在材料科學方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開發,在精密光學領域涉及精密光學加工技術、鍍膜技術、光學集成裝配技術等,在
    的頭像 發表于 11-21 13:43 ?1259次閱讀
    一文了解<b class='flag-5'>光刻機</b>成像系統及光學鍍膜技術