據共同社報道,日本經濟產業省于當地時間12月20日對韓國的半導體材料出口管制政策進行了重新審查,關于涂覆在基板上的感光劑“光刻膠”,針對特定企業間的交易調整了運用:能夠獲得許可的期限從目前的原則上半年增至最長3年。
對日本出口企業而言,此舉有利于減少事務手續。這是日本7月宣布加強對韓出口管制以來首次調整運用??赡苁菫槎ㄓ?4日舉行的日韓首腦會談做鋪墊。
據悉,日本7月對光刻膠、用于清洗半導體的“氟化氫”以及用于智能手機有機EL顯示屏的“氟化聚酰亞胺”三種產品加強了對韓出口管制。此前向對韓出口企業發放有效期3年的許可,省略個別申請,但7月4日以后變為對每份合同逐一審核并判斷是否允許出口。有效期也改為原則上半年,運用變得更加嚴格。
經產省就本次調整運用說明稱,關于光刻膠以外的兩種材料,或將根據日韓企業間的實際業績情況決定是否放寬出口管制。但經產省強調本次做法只是個別企業間交易的修改,并非撤回對韓出口加強管制本身。
對此,韓國總統府相關人士評價說:“此次措施是由日本政府主動采取的,雖然也可以看作是一部分進展,但是作為對出口限制問題的根本解決方案,還是不夠的”。
從事對韓光刻膠業務的化工企業負責人表示:“冷靜地接受該調整。不論措施如何,根據規則嚴肅應對的方針不變?!?/p>
-
半導體
+關注
關注
335文章
28609瀏覽量
232594 -
光刻膠
+關注
關注
10文章
330瀏覽量
30786
發布評論請先 登錄
晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究
光刻膠成為半導體產業的關鍵材料
一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠
如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠?
導致光刻膠變色的原因有哪些?
光刻膠涂覆工藝—旋涂
光刻膠的硬烘烤技術

光刻膠后烘技術

光刻膠的圖形反轉工藝

評論