電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機(jī)基本由荷蘭阿
發(fā)表于 10-17 00:13
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電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
發(fā)表于 05-07 06:03
【2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機(jī)的需求持續(xù)增長,尤
發(fā)表于 04-07 09:24
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光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
發(fā)表于 02-06 09:38
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本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
發(fā)表于 01-20 09:44
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本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
發(fā)表于 01-16 09:29
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? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高
發(fā)表于 01-07 10:02
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時(shí),摩爾定律開始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機(jī)巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準(zhǔn)分子光源157nm波長的干式光刻技術(shù)。2002年,浸潤式光刻的構(gòu)想被提出,即利用水作為介質(zhì),通過光在液體
發(fā)表于 11-24 11:04
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? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在
發(fā)表于 11-24 09:16
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在2024年投資者會議上,光刻機(jī)巨頭拋出重磅利好;緊接著ASML股價(jià)開始大幅拉升;一度上漲超5%。截止收盤上漲2.9%。 阿斯麥在會議上宣布,預(yù)計(jì)2030年的銷售額將在440億歐元至600億歐元之間
發(fā)表于 11-15 19:48
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在當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公布了一份不及預(yù)期的第三季度業(yè)績報(bào)告;訂單量環(huán)比下降53%,?業(yè)績爆雷第一時(shí)間反應(yīng)到ASML公司的股價(jià)暴跌。 在美股市場,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML
發(fā)表于 10-16 16:49
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圈內(nèi)突發(fā)噩耗,光刻巨人去世; 阿斯麥(ASML)光刻機(jī)巨頭聯(lián)合創(chuàng)始人維姆?特羅斯特去世。 據(jù)外媒報(bào)道,在當(dāng)?shù)貢r(shí)間11日晚,荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(AS
發(fā)表于 06-13 15:13
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據(jù)外媒報(bào)道,目前,俄羅斯首臺光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
發(fā)表于 05-28 15:47
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來源:國芯網(wǎng),謝謝 編輯:感知芯視界 Link 5月22日消息,據(jù)外媒報(bào)道,臺積電從ASML購買的EUV極紫外光刻機(jī),暗藏后門,可以在必要的時(shí)候執(zhí)行遠(yuǎn)程鎖定! 據(jù)《聯(lián)合早報(bào)》報(bào)道,荷蘭
發(fā)表于 05-24 09:35
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范登布林克指出,更高的數(shù)值孔徑能提高光刻分辨率。他進(jìn)一步解釋說,Hyper NA 光刻機(jī)將簡化先進(jìn)制程生產(chǎn)流程,避免因使用 High NA 光刻機(jī)進(jìn)行雙重圖案化導(dǎo)致的額外步驟及風(fēng)險(xiǎn)。
發(fā)表于 05-23 09:51
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