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標簽 > 摩爾定律
摩爾定律是由英特爾(Intel)創始人之一戈登·摩爾(Gordon Moore)提出來的。其內容為:當價格不變時,集成電路上可容納的元器件的數目,約每隔18-24個月便會增加一倍,性能也將提升一倍。
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三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
6nm EUV的5G SoC:搭載虎賁T7520的手機將于明年量產
今年2月,紫光展銳發布了首款采用SoC單芯片設計的5G方案虎賁T7520,采用了6nm EUV工藝制造,擁有多層極紫外光刻技術加持,相比初代7nm晶體管...
從人工智能歷史來看,該產業至今已經經歷了三次浪潮,忽熱忽冷的概念直到2006年提出深度學習DNN、CNN在語言圖像識別中的運用,2009年吳恩達提出了用...
臺灣鈺創科技創始人盧超群:異質性整合系統IC時代來臨,推動未來30年半導體革命
近期,在深圳舉辦的全球CEO峰會上,來自臺灣鈺創科技的創始人暨董事長盧超群博士,帶來了半導體行業制程演進的最新思考,他發表《新興指數型經濟成長:AI加成...
從時間層面來看,摩爾定律已然失效,然而設計方面仍可透過一些技術可將晶體管尺寸繼續縮小、加快處理速度并增加晶體管的數量。只不過摩爾定律的經濟效益顯然已達到...
將光刻技術轉移到EUV波段意味著材料和光源的巨大變化。新的13.5納米EUV等離子體光源取代了193納米波長的紫外激光器。光子能量隨著波長的減小而增加,...
Imec首席科學家,自Imec Neuropixels項目成立以來一直領導該項研究的Barun Dutta表示,“得益于先進CMOS芯片技術強大的集成功...
近日,華進半導體封裝先進技術研發中心有限公司副總經理秦舒表示,摩爾定律的延伸受到物理極限、巨額資金投入等多重壓力,迫切需要新的技術延續工藝進步,通過先進...
專用架構與軟硬件協同設計將是未來專有化架構研究趨勢,也將是走出摩爾定律困境一個富有前景的方向
但是它增加了更多的工藝步驟和成本。 “只有在使用標準晶圓廠技術無法滿足覆蓋預算的情況下,這些解決方案才是必需的,而且在復雜性、成本和設計方面的權衡具有較...
當前,摩爾定律幾近失效,傳統計算體系架構提升空間有限,顛覆性的新技術方興未艾。面對業務轉型對算力需求的成倍增長,以及AI、云等全新業態對異構計算資源的強...
“我1978年進入大學學習半導體專業……見證了半導體40年來如何改變了人類社會,形成數字時代,但這40年來我老覺得有一個幽靈在徘徊——摩爾定律,它是什么...
作為摩爾定律的指標性人物,胡正明不僅是延續定律的“推手”、發明FinFET與FDSOI的科學家,同時也是前瞻行業未來的“預言者”。胡正明10日在中國國際...
在9月的臺灣SEMICON國際半導體展上,臺積電(TSMC)首席執行官Mark Lui認為摩爾定律仍然有效。他表示,由于先進工藝技術(如納米片)或3D ...
最近一系列事件再次表明,制約中國芯片產業發展的主要因素已集中到制造能力。如何快速提升制造能力,推動芯片產業發展?只有不斷地研發和創新。
摩爾定律也是一種財務(finance)與雄心(ambition)的定律,市場對于先進工藝技術的需求是無止盡的,在我負責的人工智能(AI)領域,人們正竭盡...
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