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標簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進行開孔，以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。
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晶圓清洗是指通過將晶圓沉浸在不同的清洗藥劑內或通過噴頭將調配好的清洗液藥劑噴射于晶圓表面進行清洗，再通過超純水進行二次清洗，以去除晶圓表面的雜質顆粒和殘...
來源：云天半導體 廈門云天半導體繼九月初812吋 “晶圓級封裝與無源器件生產線”正式通線后，經過團隊的不懈努力， 8英寸晶圓Fine Pitch光刻工藝...
2022-11-30 標簽：光刻 1948 0
劉世元介紹，光刻是芯片制造中最為關鍵的一種工藝，通過光刻成像系統，將設計好的圖形轉移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小，硅片上的曝光圖形會產生畸變。
材料來源：化合物半導體 本刊記者 日前，旗下擁有生命科學、醫藥健康和電子科技三大業務板塊的科技公司默克重磅亮相第五屆中國國際進口博覽會（進博會），并宣布...
，俄羅斯政府推出了一項國家計劃，到2030年開發出自己的28納米制程技術，并盡可能利用外國芯片進行逆向工程取得技術，同時也要培養本土人才從事國產芯片的生產工作。
在本文中，首先論述半導體業界中存在著怎樣的“傻瓜的圍墻”。接下來，由于半導體行業內到處都有壁壘，所以行業內外之間存在著巨大的差異。然后進一步說明汽車與半...
據知悉阿姆斯特丹大學（UVA）已同意將其專利混合立體光刻（SLA）技術授權給數字光處理（DLP）3D打印機制造商atum3D。這種混合SLA工藝由UVA...
不使用EUV突破1nm極限？美國推出全新光刻系統，分辨率0.768nm！
電子發燒友網報道（文/梁浩斌）最近，一家名為Zyvex Labs的美國公司宣布推出亞納米分辨率的光刻系統Zyvex Litho 1，據稱分辨率可以達到0...
在設備級別，我們華林科納制造了像素間距為10μm（F IGURE 4）的OLED陣列，相當于2500 ppi。在這種情況下，一個重要的參數是對準精度，它...
現代社會已經習慣了視覺信息的溢出，大多數用戶界面的中心都有顯示器。引進新技術和降低制造成本的步伐令人印象深刻，似乎并沒有 放緩。最突出的例子是OLED顯...
根據所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學光刻技術中，有部分不透明和部分不透明的圖...
我們所知道的第一個半導體路線圖可能是摩爾觀察到的，以他為名字的“摩爾定律”預計，芯片的計算能力隨著時間的增長呈指數增長。
IRDS路線圖中More Moore部分預測了傳統邏輯和存儲芯片的改進。這部分升級是由大數據、物聯網、云計算和性能改進的一般需求驅動的。據預測，高性能邏...
2022年5月20日，美國總統拜登在韓國總統尹錫悅陪同下視察了三星半導體工廠擴建的最新產線，三星半導體的工作人員向總統們介紹了其產品的部署進展時，介紹了...
雖然通過蝕刻的結構化是通過(例如抗蝕劑)掩模對襯底的全表面涂層進行部分腐蝕來完成的，但是在剝離過程中，材料僅沉積在不受抗蝕劑掩模保護的位置。本文章描述了...
本文提出了一種新型的雙層光阻劑方法來減少負光阻劑浮渣。選擇正光刻膠作為底層抗蝕劑，選擇負光刻膠作為頂層抗蝕膠。研究了底層抗蝕劑的粘度和厚度對浮渣平均數量...
在未來幾代器件中，去除光刻膠和殘留物變得非常關鍵。在前端線后離子注入（源極/漏極、擴展），使用PR來阻斷部分電路導致PR基本上硬化并且難以去除。在后端線...
半導體的清洗在制造工序中也是非常重要的。特別是光刻膠的去除是最困難的，一般使用硫酸和過氧化氫混合的溶液(SPM)等。但是，這些廢液的處理是極其困難的，與...
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