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      標(biāo)簽　>　光刻機

      光刻機

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      俄羅斯積極開發(fā)***，最快會2024年有成果

      Vasily Shpak表示，從2024年開始，俄羅斯將撥款211.4億盧布（約23億美元）用于國內(nèi)電子產(chǎn)品的開發(fā)，并計劃開發(fā)350nm到65nm微影光刻機。

      2023-11-08 標(biāo)簽：微控制器芯片蝕刻 1437 0

      直擊網(wǎng)傳***工廠“真相”，中國電子院：系北京高能同步輻射光源

      據(jù)中國電子院消息heps是中國最早的高能同步加速器光源，也是世界上亮度最高的第四代同步加速器光源之一，坐落于北京懷柔雁棲湖畔，正位于中國湖北“十三五”規(guī)...

      2023-09-19 標(biāo)簽：加速器光源光刻機 1428 0

      不僅需要***，更需要光刻膠

      為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠，需要高純度的配方原料，例如光刻樹脂，溶劑PGMEA…此外，生產(chǎn)過程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)...

      2023-11-27 標(biāo)簽：印刷電路板光刻機光刻膠 1419 0

      一文了解光刻機成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)

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      高端光刻機研發(fā)是一個系統(tǒng)工程，涉及到各方面技術(shù)的持續(xù)改進和突破，在材料科學(xué)方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開發(fā)，在精密光學(xué)領(lǐng)域涉及精密光學(xué)加...

      2024-11-21 標(biāo)簽：光學(xué)系統(tǒng)光刻機半導(dǎo)體集成電路 1417 0

      臺積電缺電將持續(xù)

      ? ? 今年冬天特別「缺電」。 最近，湖南、江西、浙江等地開始限電，多年不見的「拉閘限電」又回來了。 2004、2011年，中國曾出現(xiàn)大規(guī)模的「用電荒」...

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      新品推薦—無掩膜版紫外***

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      ? 在基礎(chǔ)科研中，微納結(jié)構(gòu)的跨尺度光刻逐漸成為研究者在制備樣品過程中的必要手段。常規(guī)光刻機需要定制光學(xué)掩模板，這不僅增高成本，還使靈活性大打折扣，即當(dāng)發(fā)...

      2023-03-28 標(biāo)簽：光刻機 1404 0

      半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的叢林法則到底有多殘酷？

      荷蘭半導(dǎo)體制造設(shè)備制造商ASML在EUV（極紫外）光刻機領(lǐng)域擁有100%的市場份額。2023年1月，ASML表示關(guān)于對中國出口管制的規(guī)則“正在最終確定”。

      2023-03-10 標(biāo)簽：半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)光刻機半導(dǎo)體制造 1396 0

      音圈電機在光刻機掩模臺系統(tǒng)中的應(yīng)用

      作為芯片制造的核心設(shè)備之一，光刻機對芯片生產(chǎn)的工藝有著決定性影響。 據(jù)悉，光刻機按照用途可分為生產(chǎn)芯片的光刻機、封裝芯片的光刻機以及用于LED制造領(lǐng)域的...

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      ASML真的壓貨太多了嗎？

      最近聽到一則消息說是ASML說是壓貨太多，但是其實我們買都買不到。

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      ***的崛起

      半導(dǎo)體光刻是生產(chǎn)計算機芯片的制造工藝，已有 70 年的歷史。它的起源故事很簡單，但今天的過程卻很復(fù)雜：這項技術(shù)始于 20 世紀(jì) 50 年代中期，當(dāng)時一位...

      2023-06-27 標(biāo)簽：半導(dǎo)體晶體管光刻機 1387 0

      ASML首臺2nm光刻機優(yōu)先交付Intel！

      據(jù)悉，每臺新機器的成本超過3億美元，可幫助計算機芯片制造商生產(chǎn)更小、更快的半導(dǎo)體。

      2023-12-29 標(biāo)簽：intel光刻機5nm 1386 0

      飛利浦將旗下MEMS代工廠Xiver出售，該廠為ASML光刻機提供組件

      近日，飛利浦已將其位于荷蘭埃因霍溫的 MEMS 晶圓廠和代工廠出售給一個荷蘭投資者財團，交易金額不詳。該代工廠為 ASML 光刻機等公司提供產(chǎn)品，并已更...

      2025-01-16 標(biāo)簽：mems飛利浦光刻機 1381 0

      中國進口半導(dǎo)體設(shè)備金額激增93%

      根據(jù)中國海關(guān)數(shù)據(jù)分析，今年第三季度（7-9月）中國進口的半導(dǎo)體制造設(shè)備金額較去年同期激增了93%，達到634億元人民幣。其中進口光刻設(shè)備的金額更是增長了近4倍。

      2023-11-16 標(biāo)簽：光刻機半導(dǎo)體制造半導(dǎo)體設(shè)備 1379 0

      英特爾突破技術(shù)壁壘：首臺商用High NA EUV光刻機成功組裝

      英特爾的研發(fā)團隊正致力于對這臺先進的ASML TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV光刻機進行細(xì)致的校準(zhǔn)工作，以確保其能夠順利融入未...

      2024-04-22 標(biāo)簽：處理器英特爾光刻機 1376 0

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      2022-03-31 標(biāo)簽：芯片光刻機ASML 1375 0

      中國芯片產(chǎn)業(yè)崛起，打破美企壟斷

      縱觀全球芯片市場，美芯占據(jù)了50%的份額。近年來，中國80%的芯片來自美國，這使得后者賺了很多錢。數(shù)據(jù)顯示，2021年美芯企業(yè)收入普遍上升，德州儀器凈利...

      2024-01-25 標(biāo)簽：芯片射頻芯片光刻機 1375 0

      光刻33%法則是什么意思

      光刻膠的性能：光刻膠的性能對套刻精度有顯著影響。它決定了圖形的套刻分辨率和邊緣清晰度，光刻膠的收縮和厚度不均勻性都可能導(dǎo)致實際圖案尺寸與設(shè)計尺寸之間的偏差。

      2024-04-22 標(biāo)簽：光刻機光刻膠ASML 1374 0

      俄羅斯要自研***？

      圣彼得堡彼得大帝理工大學(xué)（SPbPU）的專家表示，他們已經(jīng)成功開發(fā)了兩套用于生產(chǎn)微電子納米結(jié)構(gòu)的裝置，這將有助于解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權(quán)問題。這...

      2023-10-11 標(biāo)簽：傳感器光刻蝕刻 1368 0

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