在基礎科研中，微納結構的跨尺度光刻逐漸成為研究者在制備樣品過程中的必要手段。常規***需要定制光學掩模板，這不僅增高成本，還使靈活性大打折扣，即當發生任何設計上的變動，都需要重新制造掩模板。激光直寫設備具備高靈活性，且可以實現較高精度，但由于是逐行掃描，曝光效率較低。近些年，基于空間光調制器（DMD/DLP）的技術在紫外曝光方面獲得了長足的進展。

閃光科技為您推出TTT-07-UV Litho-ACA無掩模板紫外***就采用空間光調制器的光刻技術，使得其在光學掩模板設計上有著得天獨厚的優勢。其分辨率可達1 μm，高性能無鐵芯直線驅動電機保證了套刻精度和6英寸的圖形拼接。同時，其研發團隊通過定制化微納結構與器件的低成本、效率達成批量制造，實現規?；瘧?，助力電子、光學和生物等領域的微納米器件研究與開發。

主要應用方向包括： 微流道芯片，微納結構曝光，電輸運測試/光電測試器件，二維材料的電極搭建，太赫茲/毫米波器件制備，光學掩模板的制作等。

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審核編輯黃宇