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標(biāo)簽 > 光刻技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數(shù)量級(從毫米級到亞微米級),已從常規(guī)光學(xué)技術(shù)發(fā)展到應(yīng)用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術(shù);使用波長已從4000埃擴(kuò)展到 0.1埃數(shù)量級范圍。光刻技術(shù)成為一種精密的微細(xì)加工技術(shù)。
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中芯國際已根據(jù)香港上市規(guī)則披露了與ASML的批量購買協(xié)議
對此,ASML發(fā)布公告澄清。公告提到,中芯國際已根據(jù)香港上市規(guī)則披露了與ASML的批量購買協(xié)議(VPA)。這與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān),該協(xié)議已于2...
黃仁勛稱,英偉達(dá)經(jīng)過與臺積電、ASML、Synopsys(新思科技)三大半導(dǎo)體巨頭的多年合作,終于推出了這一技術(shù),大大降低芯片代工廠在這一工序上所消耗的...
韓國EUV光刻技術(shù)方面取得極大進(jìn)展 專利申請是國外的兩倍以上
IT之家 11 月 16 日消息 據(jù)韓國媒體 BusinessKorea 上周報道,韓國本土企業(yè)在 EUV 光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展。但并沒有提到是哪...
微工程研究所的研究人員采用了新型納米結(jié)構(gòu)化技術(shù),稱為熱掃描探針光刻(thermal scanning probe lithography,t-SPL)技...
可能很多網(wǎng)友看到這里有點(diǎn)蒙圈,這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個小科普,EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,...
芯聞精選:松下將改組為控股公司制,下設(shè)車載電池等8家業(yè)務(wù)公司
松下控股下設(shè)車載電池、電子零部件、汽車零部件等 8 家業(yè)務(wù)公司。外媒表示,這樣能夠明確責(zé)任和權(quán)限,加快公司決策。松下還公布了新的人事任命,常務(wù)執(zhí)行董事楠...
新光刻技術(shù)將會對納米芯片的發(fā)展產(chǎn)生重大影響
該行業(yè)正在不斷刷新納米芯片的記錄,這無疑將為我們帶來更多的未來計算可能性。為此,來自世界各地的研究人員正在不斷努力。
負(fù)性光刻膠。樹脂是聚異戊二烯,一種天然的橡膠;溶劑是二甲苯;感光劑是一種經(jīng)過曝光后釋放出氮?dú)獾墓饷魟a(chǎn)生的自由基在橡膠分子間形成交聯(lián)。從而變得不溶于顯...
隨著科技的飛速發(fā)展,CMOS技術(shù)也在不斷進(jìn)步,以滿足日益增長的性能需求。從最初的簡單邏輯門到現(xiàn)在的復(fù)雜集成電路,CMOS技術(shù)已經(jīng)成為推動數(shù)字革命的關(guān)鍵力...
超精細(xì)石墨烯圖案的雙光束超快激光直寫制作技術(shù)
最近,基于超分辨率熒光顯微技術(shù)這一諾貝爾獎級成果,科學(xué)家報道了一種應(yīng)用于光刻膠的雙光束激光光刻技術(shù)。這里使用一道甜甜圈形狀的環(huán)形光束,來抑制寫入光束所觸...
在整個芯片制造過程中,幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù),占芯片制造成本的35%以上。
正式獲得美國設(shè)備廠商的供應(yīng)許可后,中芯國際的運(yùn)營前景將進(jìn)一步明朗
去年中芯國際被美國列入了實(shí)體清單,購買美國廠商的半導(dǎo)體設(shè)備及技術(shù)受到限制。今天業(yè)界消息稱中芯國際已經(jīng)獲得了美國的許可,14nm及28nm等工藝可以恢復(fù)供應(yīng)。
韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距
特別是,韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術(shù)上與外國公司的差距。2019年,韓國本土提出的專利申請數(shù)量為40件,超過了國外企業(yè)的10件。這是韓國提交的...
但imec先進(jìn)成像、工藝和材料高級副總裁斯蒂芬·希爾(Steven Scheer)在接受采訪時非常理性地指出,要經(jīng)濟(jì)高效地引入High NA EUV光刻...
中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進(jìn)光刻技術(shù)的理解,本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)...
韓國企業(yè)在EUV光刻技術(shù)方面取得了極大進(jìn)展
在過去的十年中,包括三星電子在內(nèi)的全球公司進(jìn)行了深入的研究和開發(fā),以確保技術(shù)處于領(lǐng)先地位。最近,代工公司(意指三星)開始使用 5 納米 EUV 光刻技術(shù)...
現(xiàn)代工藝技術(shù)將晶圓廠設(shè)備要求推向極限,需要實(shí)現(xiàn)突破其物理極限的高分辨率,這正是計算光刻技術(shù)發(fā)揮作用的地方。計算光刻就是為芯片生產(chǎn)制作光掩模的技術(shù),它結(jié)合...
日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)
近日,日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)發(fā)布了一項(xiàng)重大研究報告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV)光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越了當(dāng)前半導(dǎo)體...
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