中國科學院電工研究所聯合中國計量科學研究院、國家納米科學中心共同構建了國內首臺可溯源計量型掃描電子顯微鏡，實現了微納米器件及標準物質的納米精度計量功能以及對樣品納米結構掃描成像的量值溯源，可有效減少電子束掃描成像過程中放大倍率波動和掃描線圈非線性特征在納米尺度測量中產生的誤差。

隨著各個領域的創新和技術進步，人們探索世界的尺度越來越精細，微納尺度的器件和相關問題已經不可回避地越來越多。例如，芯片上可以集成的晶體管數量越來越多，半導體器件的尺寸逐漸逼近摩爾定律的極限，最新的芯片工藝已經達到10納米、7納米，甚至是5納米。在這樣的尺度下，如何能夠看清這些產品的線路，對器件的尺寸進行精確的檢測？又如，在微納米計量研究領域，如何對納米標準顆粒、標準線寬、線紋尺、節距、網格等標準樣品進行計量標定？

如今，能夠高效完成上述任務的理想選擇，是同時具備高精度和低誤差的可溯源計量型掃描電子顯微鏡。可溯源計量型掃描電子顯微鏡可以進行準確的觀測，同時對具有納米精度標準的樣品進行計量標定。

然而可溯源計量型掃描電子顯微鏡的選擇并不多，國際上僅有美國國家標準技術研究院（NIST）和德國聯邦物理技術研究院（PTB）擁有這樣的裝置，國內有機構開展了基于比對法的掃描電子顯微鏡納米測長研究及相關檢測標準的制定，但是在可溯源計量型掃描電子顯微鏡儀器研制方面尚處于空白狀態。在這種情況下，中國科學院電工研究所在“十二五”期間與中國計量科學研究院、國家納米科學中心組成聯合研究團隊，開展了基于激光干涉測量和納米位移臺掃描成像原理的計量型掃描電鏡系統研制工作。

研究團隊先后掌握了真空環境精密位移臺設計與精密定位控制技術、激光干涉測量光路設計與數據采集技術、基于納米位移臺的掃描成像控制技術、線邊沿識別技術，可溯源測量方法等。先后研制成功了3套可溯源計量型掃描電鏡系統，如圖1所示，目前可以對尺寸為50毫米×50毫米的標準樣品進行定位檢測，單次掃描成像范圍達到100微米×100微米。利用該系統可實現對微納器件和標準微納樣品的可溯源精確測量，有效減少電子束掃描成像過程中放大倍率波動和掃描線圈非線性特征在納米尺度測量中產生的誤差，從而實現對樣品納米結構的溯源測量。

可溯源計量型掃描電子顯微鏡與普通掃描電鏡一樣，也利用聚焦成納米尺寸的電子探針與被檢測樣品淺層原子發生碰撞來產生二次電子信號，通過對二次電子信號進行放大處理及檢測的方式實現微觀成像。

但普通掃描電鏡是通過調整放大倍率來改變掃描范圍，通過偏轉電子束獲得掃描圖像。影響掃描電鏡圖像的放大倍率準確度的因素較多，比如加速電壓、偏轉掃描非線性特征、圖形漂移等，導致普通掃描電鏡放大倍率的誤差達到約5%～10%，尺寸測量結果的不確定度難以評價。

而可溯源計量型掃描電子顯微鏡與普通掃描電鏡偏轉電子束掃描成像方式不同，采用的是基于納米位移臺的步進掃描成像方式，同時引入激光干涉測量方法，可以實現微納米結構的高精度可溯源測量，成為半導體器件尺寸檢測過程中必不可少的儀器，同時在微納米計量研究領域也有重要應用價值。更具體地說，可溯源計量電鏡的新穎性在于保持電子束斑不動的條件下，在納米位移臺逐點位移的過程中通過實時采樣二次電子圖像信號方法獲取掃描圖像，同時由激光干涉測量系統同步獲得每個像素點對應的納米臺位置的（X，Y）坐標。這種成像方法使圖像的像素點與激光干涉儀的位置測量直接關聯，實現了納米尺寸的量值溯源。

在實際測量中，顯微鏡設定電子束處于駐留狀態，控制系統首先采集第一個點的二次電子圖像信號，并通過激光干涉測量方法同步采集納米位移臺當前的位置坐標。然后，納米位移臺按照設定的步距，在X方向移動到同一行的下一個采樣點位置，重復上述二次電子圖像采集和第二點的位置坐標拾取。這樣完成第一行所有點的圖像采集后，納米臺在Y方向進給一步，開始第二行的圖像采集和位置坐標采集，如圖2所示。重復上述過程，最終完成基于納米位移臺步進移動和激光干涉測量位置方法的掃描成像。這樣獲得的顯微鏡圖像中每個像素點都對應一個激光干涉測量獲得的精確位置坐標。隨后在測量圖像中的樣品尺寸時，直接對指定像素位置坐標進行計算即可獲得樣品的精確尺寸，因此不存在掃描電鏡放大倍率等誤差。

研究團隊研制的可溯源計量型掃描電鏡實驗平臺主要由熱場發射掃描電鏡主體、宏微結合堆疊結構的雙位移臺定位掃描系統、激光干涉測量系統、電子學控制系統和測量控制軟件5部分構成，整體如圖3所示。其中熱場發射掃描電鏡作為實現計量型電鏡成像方法的載體，負責聚焦電子束與二次電子圖形信號的產生；雙位移臺單元負責承載被測樣品、進行精確定位和掃描成像；激光干涉測量系統負責記錄雙位移臺系統每一次移動的位置信息；電子學控制系統負責高速采集掃描過程中每個位置的二次電子圖像信號；測量控制軟件負責圖像顯示、測量與邊沿識別算法。

為了最大限度地發揮可溯源計量型掃描電子顯微鏡的高精度優勢，研究團隊放棄了電子顯微鏡自帶的位移臺，自主研制了真空環境應用、基于超聲電機驅動的大范圍精密位移臺，結構如圖4所示。大范圍精密位移臺采用高精度的交叉滾子導軌作為支撐導向機構，由超聲陶瓷電機負責驅動運動，利用20納米分辨率的光柵編碼器實現位置測量。研究團隊還針對大范圍位移臺開發了一套基于PID閉環反饋控制模型的定位控制系統。現場使用表明，改定位控制系統的定位精優于普通商用電鏡自帶的位移臺，最大行程達到50毫米×50毫米，定位重復精度小于等于 0.3微米，全行程定位準確度為正負1微米，位置測量分辨率為20納米。

針對可溯源計量型掃描電子顯微鏡的測量需求，研究團隊設計了X和Y方向兩路激光測量光路，采用的激光干涉儀的最高測量分辨率為38皮米。自行設計的真空外激光光路安裝結構采用半透半反平面窗體結構，既保證了激光干涉測量光路順路進出掃描電鏡的真空樣品室，實現對位移臺移動的定位測量，又保證了掃描電鏡內部的高真空度不被破壞。安裝于掃描電鏡樣品室內的宏微結合的位移臺單元，成功地替換了商用掃描電鏡原有的樣品臺單元。

可溯源計量型掃描電子顯微鏡平臺的可溯源計量型掃描成像控制系統亦為研究團隊自主研發。可溯源計量型掃描成像控制系統采用DSP作為核心處理芯片，對DA掃描板發起控制，輸出電壓經高壓運放后驅動納米位移臺；位移臺移動掃描過程中產生的二次電子等信號轉換為電壓信號后傳輸至AD采集板，經過模數轉換后被DSP主控板實時采集（如圖5所示）。

同時由激光干涉系統產生的位置信息通過一塊專門開發的激光數據接口板同步傳輸給DSP主控板，數據整理后上傳給上位機成像軟件。此外，研究團隊針對可溯源計量型掃描電子顯微鏡的功能需求，開發了一套上位機控制軟件，通過TCP/IP網絡協議與下位機DSP系統進行通信控制，實現掃描圖像的傳輸、宏微雙位移臺的移動控制、圖像數據的存儲與調用操作、圖像中樣品尺寸的測量、邊沿識別算法等功能，界面如圖6所示。

為了驗證可溯源計量型掃描電子顯微鏡平臺的功能，研究團隊在平臺上進行了大量的基于納米位移臺的步進移動式掃描成像實驗。例如，該平臺可以對標準棋盤格周期樣品進行尺寸標定。

在微納米視野中，標準樣品的邊沿不是理想的陡直形狀。樣品邊沿粗糙度對尺寸測量有不可忽視的影響。為此研究團隊在可溯源計量電鏡軟件中開發了線邊沿粗糙度自動分析功能。軟件可以對目標區域內的多個線掃位置進行邊緣檢測和線寬測量，目標區域的選擇有利于排除圖像中的雜質等對算法的影響，保證算法的正確實現。選擇的目標區域如圖7（a）中的矩形區域所示，在目標區域內以兩個像素坐標為間隔，選取10個線掃位置的數據。然后進行線掃數據提取和濾波降噪處理，如圖7（b）所示。最后按照閾值法進行邊緣自動檢測，獲得上下邊緣集，并根據邊緣坐標按最小二乘法擬合得到直線，可以看出檢測到的圖像邊緣坐標在直線上或者左右兩個像素差的范圍內分布。對各個線掃位置根據檢測到的邊緣坐標獲取邊緣位置信息后，按照兩點之間的距離公式計算線寬，并得到各個線掃位置所對應的線寬值與平均值的偏差。最終獲得的標準樣品的線寬平均值為0.958 9微米，標準差為0.027 9微米。

研究團隊開發的可溯源計量型掃描電子顯微鏡是繼美國國家標準技術研究所和德國聯邦物理技術研究院之后，國際上第三臺同類儀器，使中國的相關人員可以參加國際納米組織的國際計量比對工作，提高了中國在國際納米計量標準制定領域的話語權。

目前，該可溯源計量型掃描電子顯微鏡成像及測量系統已經在3個研究單位的場發射掃描電鏡平臺中安裝運行。第一臺原理樣機的研制和測試工作在中國科學院電工研究所的SIGMA場發射掃描電鏡上進行，成功驗證了基于納米位移臺步進掃描成像和基于激光干涉測量數據的標準樣品尺寸可溯源測量。第二臺可溯源計量型掃描電子顯微鏡成像及測量系統安裝在中國計量科學研究院的ULTRA55場發射掃描電鏡平臺上，2014年順利完成了質檢公益性行業科研專項項目的科研任務，實現了40微米區域的掃描成像與可溯源計量工作。2018年，依托該裝置建立了一個國家標準“掃描電子顯微鏡用微納米標準樣板校準方法”。第三臺系統安裝在國家納米科學中心的MERLIN場發射掃描電鏡平臺上，利用該系統順利完成了中國科學院支持項目，實現了100微米區域的掃描成像與可溯源計量研究工作。

可溯源計量型掃描電子顯微鏡的研制成功對中國納米尺度計量標準的制定、掃描電子顯微鏡及其他納米尺寸測量儀器的校準、納米標樣和標物的校準、參與國際長度比對等方面將起到重要作用。接下來，研究團隊將進一步在激光光路、納米臺設計與運動控制策略以及電子學控制方面對顯微鏡進行優化設計，研究基于激光測量位置的圖像重整方法，從而進一步提高測量精度、降低測量不確定度，讓可溯源計量型掃描電子顯微鏡儀器真正成為計量行業和半導體檢測領域的慧眼和尺子，還原一個真實的納米世界。