女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

為避免光刻膠瑕疵事件再次發(fā)生,臺(tái)積電將成立品質(zhì)管理檢測(cè)單位

電子工程師 ? 來(lái)源:未知 ? 作者:h1654155287.6125 ? 2019-04-24 10:34 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

日前,臺(tái)積電爆發(fā)光刻膠規(guī)格不符事件導(dǎo)致大量報(bào)廢晶圓,牽動(dòng)公司內(nèi)部?jī)刹块T(mén)的人事異動(dòng),包括這次事件爆發(fā)地的14 廠廠長(zhǎng)已換將。

4月22日,為避免光刻膠瑕疵事件再次發(fā)生,臺(tái)積積電宣布計(jì)劃將成立一個(gè)品質(zhì)管理檢測(cè)單位,規(guī)模達(dá)到200人,進(jìn)一步對(duì)相關(guān)供應(yīng)鏈的產(chǎn)品進(jìn)行檢驗(yàn)把關(guān)。

根據(jù)供應(yīng)鏈的消息指出,臺(tái)積電計(jì)劃成立一個(gè)規(guī)模約200人的品管部門(mén),未來(lái)進(jìn)行相關(guān)材料與設(shè)備的檢測(cè)工作。由于該部門(mén)規(guī)模達(dá)到200人,加上其所需要的設(shè)備,對(duì)于臺(tái)積電來(lái)說(shuō)將是個(gè)不小的投資。

事實(shí)上,就在光刻膠瑕疵事件發(fā)生之后,臺(tái)積電已經(jīng)要求供應(yīng)商提供每次所提供材料的相關(guān)檢驗(yàn)報(bào)告之外,還必須提供本次材料檢驗(yàn)報(bào)告與其他次材料檢驗(yàn)報(bào)告的相對(duì)比較。

也就是,臺(tái)積電要求每一次的材料的狀況不但符合其標(biāo)準(zhǔn)值內(nèi),其每一次的落差也不能太大,以達(dá)到產(chǎn)品品質(zhì)穩(wěn)定的要求。而這部分,有的供應(yīng)商會(huì)盡可能的配合,但是也有部分供應(yīng)商因?yàn)檫@些檢測(cè)原始資料事關(guān)機(jī)密,會(huì)在與臺(tái)積電協(xié)調(diào)其他的供應(yīng)方式。

雖然,過(guò)去臺(tái)積電也有進(jìn)行檢測(cè)的部門(mén),但是作業(yè)的方式會(huì)以抽樣測(cè)試為主,而且受限于品管單位的規(guī)模,檢測(cè)的內(nèi)容也比較不全面。在成立相關(guān)專(zhuān)門(mén)的品管部門(mén)之后,除了會(huì)逐步落實(shí)每一次材料或產(chǎn)品都進(jìn)行檢測(cè)作業(yè)之外,檢測(cè)的內(nèi)容也會(huì)更加全面。供應(yīng)鏈指出,目前臺(tái)積電正逐步與相關(guān)供應(yīng)商合作中,逐步確認(rèn)檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)與內(nèi)容。

據(jù)了解,電子檢測(cè)驗(yàn)證大廠宜特科技在臺(tái)積電光刻膠事件后就推出了液態(tài)材料缺陷檢測(cè)服務(wù),以應(yīng)對(duì)目前市場(chǎng)上的相關(guān)需求。


聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 臺(tái)積電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    44

    文章

    5752

    瀏覽量

    169740
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    339

    瀏覽量

    30941

原文標(biāo)題:為避免光刻膠不合格事件再次發(fā)生,臺(tái)積電將設(shè)立200人檢測(cè)部門(mén)

文章出處:【微信號(hào):news_16rd,微信公眾號(hào):一牛網(wǎng)在線】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    國(guó)產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長(zhǎng)期被日美巨頭壟斷,國(guó)外企業(yè)對(duì)原料和配方高度保密,我國(guó)九成以上光刻膠依賴(lài)進(jìn)口。不過(guò)近期,國(guó)產(chǎn)光刻膠領(lǐng)域捷報(bào)頻
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?2125次閱讀

    針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 針對(duì)晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法 濕法剝離 濕法剝離是晶圓芯片工藝中常用的光刻膠去除方式。通過(guò)將涂覆光刻膠的晶圓浸入含有特定化學(xué)成分的剝離液中,利用剝
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?190次閱讀
    針對(duì)晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    測(cè)量對(duì)工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量控制至關(guān)重要。本文將探討低含量 NMF 光刻膠剝離液及其制備方法,并介紹白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 低含量 NMF 光刻膠剝離液及制備方法 配方組成 低
    的頭像 發(fā)表于 06-17 10:01 ?237次閱讀
    低含量 NMF <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液和制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    減少光刻膠剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?294次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對(duì)器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠產(chǎn)業(yè)國(guó)內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀

    ,是指通過(guò)紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射,溶解度會(huì)發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料,是光刻工藝中的關(guān)鍵材料。 從芯片生產(chǎn)的工藝流程上來(lái)說(shuō),光刻膠的應(yīng)用處于芯片設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)當(dāng)中的制造環(huán)節(jié),是芯片制造過(guò)程里
    的頭像 發(fā)表于 06-04 13:22 ?203次閱讀

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測(cè)量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測(cè)量光刻圖形對(duì)把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?218次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測(cè)量

    光刻膠的類(lèi)型及特性

    光刻膠類(lèi)型及特性光刻膠(Photoresist),又稱(chēng)光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類(lèi)型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?2222次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類(lèi)型及特性

    【「芯片通識(shí)課:一本書(shū)讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】了解芯片怎樣制造

    工藝流程: 芯片設(shè)計(jì),光掩模版制作,晶圓上電路制造,(薄膜氧化,平坦化,光刻膠涂布,光刻,刻蝕,離子注入擴(kuò)散,裸片檢測(cè))
    發(fā)表于 03-27 16:38

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹(shù)脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?984次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?1672次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對(duì)微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠的需求也水漲船高,在微電子制造和納米技
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?1888次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望

    一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見(jiàn)光刻膠

    共讀好書(shū)關(guān)于常用光刻膠型號(hào)也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號(hào)資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識(shí)星球,領(lǐng)取公眾號(hào)資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2474次閱讀

    光刻膠的使用過(guò)程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過(guò)程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1560次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過(guò)程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對(duì)SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?794次閱讀

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過(guò)程中,需要把PDMS或SU-8光刻膠根據(jù)所需要的厚度來(lái)選擇合適的旋涂轉(zhuǎn)速并且使PDMS或SU-8涂布均勻化。 如何成功的旋涂微流控SU-
    的頭像 發(fā)表于 08-26 14:16 ?845次閱讀