女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

光刻機是皇冠上的明珠,市場需求與銷售不成正比

XcgB_CINNO_Crea ? 來源:未知 ? 作者:李倩 ? 2018-06-03 10:35 ? 次閱讀

近日,國內幾家于2015~2016年投資建設的半導體制造廠開始進入密集的設備移入期。5月20日,上海華力二期建設的華虹六廠搬入了首臺荷蘭阿斯麥公司(ASML)生產的NXT 1980Di光刻機,用于其12英寸先進生產線建設項目;長江存儲亦于5月19日接入了用于20nm~14nm工藝3D NAND閃存生產的阿斯麥公司的193nm浸潤式光刻機。中芯國際也傳出消息,于不久之前下單采購了阿斯麥公司的一臺EUV光刻機。

密集的設備采購消息一方面顯示出幾家制造廠的建設項目進展順利,但是與此同時也反映出,國產設備業的發展存在諸多不足,特別是在半導體關鍵設備之一光刻機方面,國產品牌的差距仍然很大。改變這種狀況,縮小與國際先進水平間的差距還需要長期的努力。

光刻機是皇冠上的明珠

光刻機究竟有多重要,竟能讓各大知名廠商爭先恐后地引入?這要從集成電路的光刻工藝說起。傳統的集成電路光刻工藝是通過曝光的方法,將掩膜上的電路圖形轉移到光刻膠上,然后通過顯影、刻蝕等工藝將電路圖形轉移到硅片上。這一系列的光刻工藝過程在芯片生產過程中需要重復25次左右。與此同時,光刻在芯片成本中也就占據了相當大的比例。在上述的工藝流程中,硅片的涂膠、曝光、清洗等重要步驟都離不開光刻機的使用,而光刻機的分辨率、精度也成為其性能的評價指數,直接影響到芯片的制程水平以及性能水平。

在芯片的制造流程中,對光刻機的技術要求十分苛刻。光刻機將光線透過圖形的掩膜板,打到硅片上,再通過曝光等流程,將需要挖掉的部分稀釋掉,進一步利用掩膜板,確保需要的部分不被稀釋,從而保留設計中的線路。上述的整個流程需要納米級的加工精度,對于功率以及光源的要求也十分復雜。“光刻機是半導體制造皇冠上的明珠,沒有光刻機,半導體制造是進行不下去的?!敝袊娍剖紫瘜<伊鵀I對《中國電子報》記者說。

作為集成電路芯片制造里最關鍵的設備,光刻機的制造和維護需要極為先進的工藝技術。而這些技術在全球半導體領域的廠商中,只被少數企業掌握。在14nm及以下的工藝制程中,只有荷蘭阿斯麥公司的光刻機達到了相關的技術要求。在光刻機領域中,阿斯麥公司掌握了90%左右的市場份額。該公司目前最先進的兩代光刻技術分別是浸入式光刻機和極紫外線光刻機(EUV)。

集邦咨詢半導體產業分析師郭高航告訴記者,此次上海華力以及長江存儲引進的光刻機并不是ASML最為先進的EUV設備。兩家企業引入的分別是NXT 1980Di光刻機和193nm浸潤式光刻機。

市場需求與銷售不成正比

中國也在進行光刻機設備的研制與開發,比如上海微電子在國家02專項的支持下就取得了一些成績。根據柳濱的介紹,目前上海微電子的90nm光刻機雖然尚未完全產業化,但是已經達到了工程化的層次?!吧虾N㈦娮邮俏覈饪虣C領域中的代表企業,在國家02專項的支持下,上海微電子積極布局光刻機制造,在完成90nm工程化的同時,也對45nm的集成電路光刻技術進行研究。除此之外,在后封裝光刻機、LED光刻機領域,上海微電子也有所涉及。在投影光刻上,上海微電子是唯一一家國內企業?!绷鵀I說。

但是與國際水平相比,我國光刻機技術仍處于落后階段。柳濱向記者表示,一方面,我國光刻機技術落后于國際2~3代。而造成這種情況的原因與產業生態有很大的關系。生產光刻機除了要達到一定工藝技術的要求之外,更重要的是需要完善的生態環境。ASML的成功離不開臺積電、三星等下游廠商的調配數據,同樣,我國光刻機的制造也需要下游廠商在修訂和調配上給予支持,但是,我國半導體產業鏈的生態環境尚未成熟,這就為光刻機的制造增加了難度。

另一方面,人才的缺失則是自主研發的最大門檻。上海微電子有限公司總經理賀榮明就曾公開表示,發展光刻機需要高素質人才,而培養人才將會是制造光刻機中最重要的工作。

光刻機只是我國半導體設備業中的一個縮影。近年來為了扶持我國設備業發展,國家推出了眾多政策支持和資金支持,雖然我國半導體設備的市場需求量非常大,但是國內設備企業的銷售規模卻一直難以拓展?!爸袊雽w設備企業的銷售規模與市場需求極不相稱。”郭高航對《中國電子報》記者說。

根據集邦咨詢顧問統計的數據,2017年中國半導體設備市場需求規模達到82.25億美元,占到全球市場15%左右水平,雖然近兩年設備廠商在光伏、LED、面板及封測設備領域有較強表現,但半導體設備廠商營收全球占比仍處于個位數級別。

“為進一步推進產業發展,政策與資金紛紛給予相應支持。截至2017年年底,大基金參與投資支持半導體設備廠商,例如中微半導體、北方華創、長川科技、拓荊科技、睿勵科學儀器等,并在部分設備領域已取得一定突破。”郭高航說。

但是中國設備業的技術水平與國際之間的差距依舊不小。集成電路涉及的設備高達百余種,牽扯到的技術更是難以細數,即使再多的資金支持,沒有技術積累依舊會造成“無產出”的局面,并且隨著設備造價的逐漸提升,“小投入無產出,大投入高回報”將成為設備業發展的一種規律,資金、技術、人才依舊是我國設備業發展路上有待解決的問題。

上下游協同推動設備業發展

雖然我國設備業發展面臨的問題很多,但是移動電子、通信汽車電子、物聯網等領域的高速發展為我國設備業提供了發展機遇。市場需求驅動產業發展,突破設備供給質量,提升設備性能以及工藝適用性、增強產業鏈上下協同作用成為目前需要解決的最大問題。

柳濱向記者表示,一方面,意識到發展設備業的重要性十分重要,設備是集成電路的基礎,需要國家和產業的高度重視。另一方面,設備業的發展離不開零部件的支持,但是目前我國在設備零部件上處于被封鎖狀態,除了幾項關鍵零部件在積極研發外,其他的零部件均為進口,我國自主生產零部件的市場占有率極低,需要有關方面高度重視。

在研發投入上,柳濱表示,設備業的發展需要持續的投入,并且要有“小投入無產出,大投入高回報”的準備。針對目前國內半導體設備產業鏈不完整、支撐能力弱、不能與半導體制造同步發展等現況,需要加大對設備產業發展的支持,打造國內設備產業發展的政策機遇。

作為半導體產業鏈的上游環節,半導體設備產業的發展,離不開國家的支持。由于設備業自身的產業現狀,設備制造單位不可能與世界上已經成熟的設備供應商具備相同的實力。所以設備業的發展需要巨大研發經費投入、專業技術隊伍建設以及與下游芯片制造商建立起長期的合作關系?!芭c下游芯片制造商建立長期合作關系最為重要,這已經成為我國半導體設備產業發展長期存在且還未最終解決的關鍵環節?!绷鵀I說。

國內半導體產業鏈上下游企業協同發展是國家戰略頂層設計的措施之一,要實現這一戰略要求,柳濱表示,首先設備制造商保證設備供給質量。其次下游企業要積極配合,國家除了首臺套激勵政策外,更多地站在市場角度和商業層面理順這種需求和供給關系,比如先建立200mm國產設備示范應用線或引導線,補齊國產設備門類缺失的短板,提升國產設備應用信心。

郭高航建議,高階晶圓制造設備可先安排在部分中試線或國內某些研發中心做測試,待國內的高階產線趨于穩定后,再進一步考慮將本土設備切入量產產線進行全面驗證。“在驗證過程中,需要有魄力的設計公司參與進來,更需要政府針對各參與方在政策和資金方面給予全力支持?!惫吆秸f。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 半導體
    +關注

    關注

    335

    文章

    28625

    瀏覽量

    232870
  • 光刻機
    +關注

    關注

    31

    文章

    1163

    瀏覽量

    48065

原文標題:差距很大!又斥巨資買光刻機,國產半導體設備困境如何解?

文章出處:【微信號:CINNO_CreateMore,微信公眾號:CINNO】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    光刻機巨頭ASML業績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發燒友網報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產的關鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿斯麥(ASML
    的頭像 發表于 10-17 00:13 ?3268次閱讀

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關,電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會

    【2025年光刻機市場的規模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場
    的頭像 發表于 04-07 09:24 ?500次閱讀

    不只依賴光刻機!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數字時代的“心臟”,其制造過程復雜而精密,涉及眾多關鍵環節。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機這一高端設備,但實際,芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關
    的頭像 發表于 03-24 11:27 ?898次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機</b>!芯片制造的五大工藝大起底!

    什么是光刻機的套刻精度

    在芯片制造的復雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片的核心環節。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準精度的關鍵指標。簡單來說,它就像
    的頭像 發表于 02-17 14:09 ?1726次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>光刻機</b>的套刻精度

    光刻機用納米位移系統設計

    光刻機用納米位移系統設計
    的頭像 發表于 02-06 09:38 ?404次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>用納米位移系統設計

    如何提高光刻機的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機配置,每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發表于 01-20 09:44 ?1121次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機</b>的NA值

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
    的頭像 發表于 01-16 09:29 ?2018次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

    組成光刻機的各個分系統介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統。 光刻技術作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現這一工藝的核心設備,它的工作原理類似于傳統攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達到
    的頭像 發表于 01-07 10:02 ?1902次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分系統介紹

    線圈輸出與頻率不成正比的原因

    一、引言 在電磁學領域中,線圈是一種常見的元件,它在不同的電路和設備中發揮著重要的作用,例如變壓器、電感等。人們可能會直觀地認為線圈的輸出應該和頻率成正比,但實際情況并非總是如此。這背后涉及到多個
    的頭像 發表于 11-25 11:29 ?735次閱讀
    線圈輸出與頻率<b class='flag-5'>不成正比</b>的原因

    用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術。 芯片制造:光刻技術的演進 過去半個多世紀,摩爾定律一直推動著半導體技術的發展,但當光刻機的光源波長卡在193nm,芯片制程縮小至6
    的頭像 發表于 11-24 11:04 ?2092次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術介紹

    光刻機的工作原理和分類

    ,是半導體產業皇冠明珠。芯片的加工過程對精度要求極高,光刻機通過一系列復雜的技術手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片
    的頭像 發表于 11-24 09:16 ?5201次閱讀

    一文看懂光刻機的結構及雙工件臺技術

    ,光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術難度最大的設備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發展歷程、結構組成、關鍵性能參數以及雙工件臺技術展開介紹。 一、光刻機發展歷程 光刻機的發展歷程
    的頭像 發表于 11-22 09:09 ?4039次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機</b>的結構及雙工件臺技術

    調相時什么與調制信號幅度成正比

    在調相(Phase Modulation, PM)過程中, 相位偏移量與調制信號的幅度成正比 。調相是一種將低頻信號的幅度變化映射到高頻載波信號的相位變化的調制方式。在調相過程中,載波的幅度和頻率
    的頭像 發表于 09-11 14:34 ?1214次閱讀

    磁電式傳感器的電輸出與什么成正比

    磁電式傳感器的電輸出與多個因素相關,但主要與其內部線圈相對于磁場的運動狀態有關。具體來說,磁電式傳感器的電輸出與 振動速度 或 運動速度 成正比。 磁電式傳感器的工作原理是基于電磁感應定律,即當線圈
    的頭像 發表于 08-19 09:40 ?1191次閱讀