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臺(tái)積電2nm制程良率已超60%

A面面觀 ? 2025-03-24 18:25 ? 次閱讀

據(jù)外媒wccftech的報(bào)道,臺(tái)積電2nm制程取得了突破性進(jìn)展;蘋果的A20芯片或成首發(fā)客戶;據(jù)Wccftech的最新消息顯示,臺(tái)積電公司已啟動(dòng)2nm測(cè)試晶圓快速交付計(jì)劃,當(dāng)前試產(chǎn)良率突破60%大關(guān),較三個(gè)月前技術(shù)驗(yàn)證階段實(shí)現(xiàn)顯著提升(此前驗(yàn)證階段的良率已經(jīng)可以到60%),預(yù)計(jì)年內(nèi)即可達(dá)成量產(chǎn)準(zhǔn)備。

值得關(guān)注的是,蘋果作為臺(tái)積電戰(zhàn)略合作伙伴,或?qū)⒙氏炔捎眠@一尖端制程。盡管廣發(fā)證券分析師Jeff Pu曾預(yù)測(cè)iPhone 18系列搭載的A20處理器仍將延續(xù)3nm工藝,但其最新修正報(bào)告顯示,蘋果極有可能在A20 Pro機(jī)型上率先導(dǎo)入2nm技術(shù)。天風(fēng)國(guó)際分析師郭明錤補(bǔ)充指出,考慮到2nm晶圓單片成本高達(dá)3萬(wàn)美元的現(xiàn)狀,蘋果或?qū)⒉扇〔町惢呗裕瑑H在旗艦機(jī)型部署該技術(shù)。

技術(shù)攻堅(jiān)方面,臺(tái)積電通過(guò)三大舉措保障量產(chǎn)進(jìn)程:

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工藝優(yōu)化:持續(xù)改進(jìn)光刻與蝕刻工藝,突破2nm晶體管結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性難題

行業(yè)觀察人士指出,當(dāng)前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正處于3nm向2nm過(guò)渡的關(guān)鍵節(jié)點(diǎn),臺(tái)積電的良率突破不僅鞏固其技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)地位,更將推動(dòng)AI芯片、高性能計(jì)算等前沿領(lǐng)域的迭代加速。

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