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上交所:龍圖光罩將于12月15日科創板首發上會

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-12-11 10:13 ? 次閱讀

12月8日,據上海證券交易所發布公告,深圳市龍圖光罩股份有限公司(簡稱龍圖光罩)將于12月15日參加科創板首次公開會議。

龍圖光罩的主要經營業務是半導體掩模版的研究、開發、生產和銷售,是國內罕見的獨立的第三方半導體掩模版制造企業。公司是國內半導體特性工程的發展路線繼續按照技術難題及產品進行反復,半導體掩模版的下方工程節點在1μm 逐漸上升,到130nm1,產品廣泛應用于功率半導體、MEMS 傳感器、IC 封裝、模擬 IC 等特色工藝半導體領域,終端應用涵蓋新能源、光伏發電、汽車電子工業控制無線通信物聯網消費電子等場景。

目前,龍圖光罩掌握了130納米以上節點半導體口罩制作的核心技術,形成了包括cam、光刻、檢測等全過程的核心技術體系。在功率半導體掩模版領域,公司的工程節點已經滿足了全球電力半導體主流制造工程的需求。

龍圖光罩稱,公司以特色工藝半導體市場為切入點,緊扣國內半導體廠商的發展需求,不斷提升掩模版工藝技術水平和客制化服務能力,逐步進入國內多個大型特色工藝晶圓廠供應商名錄,一定程度上推動了我國半導體掩模版產業的國產化。

龍圖光罩的招股,公開信息顯示,公司的董事會成員包括柯漢奇、葉小龍、張道谷、常軍鋒、袁振超;監事會成員包括:侯廣杰、何祥、崔嘉豪;高級管理人員包括:葉小龍、王棟、范強、鄧少華;核心技術人員包括柯漢奇、王棟、黃執祥、肖寶鐸、何祥、白永智等。

但集微咨詢專利分析師對龍圖光罩有效專利發明人進行分析后發現,雖然史草沒有列入龍道光口罩認定的同感庫和核心技術人員名單,但他貢獻的專利數量較多。光幻覺工程管理控制技術,暴露精細化控制技術,精密工藝配對技術,顯影刻蝕控制技術,高精密測定技術,缺陷維修及異物去除技術等,幾乎涉及光幻覺及檢測的所有技術領域。另外,構成龍圖光罩主要經營業務的11項核心發明專利中,雖然參與了6項技術開發,但卻沒有被列入公司核心技術人員名單。

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與之形成對比的是,被龍圖光罩認定為核心技術人員的白永智目前年僅26歲,在2020年10月才加入龍圖光罩,截至2022年底僅貢獻了1篇涉及缺陷修補與異物去除技術的發明專利,并且該專利也是與謝超等人合作研發,對于公司的專利貢獻較小,收入在核心技術人員中也是最低。在軟件著作權方面,根據招股書披露的信息,龍圖光罩在2020年之后申請的軟件著作權涉及的技術領域高度集中于CAM版圖處理技術。而CAM部的經理是肖寶鐸,白永智擔任的是工藝研發主管,因此白永智與CAM版圖處理技術少有交集,對于龍圖光罩軟件著作權的貢獻大概率也十分有限。

因此,科創板審核機構有可能要求龍圖光罩說明謝超在公司的職位、是否同董監高以及核心技術人員一樣簽署了保密協議和競業限制協議、未將謝超納入核心技術人員的原因、以及將白永智納入核心技術人員的合理性。同時要求龍圖光罩進一步披露相關人員在公司研發團隊中起到的作用,對公司的知識產權成果,包括專利、軟件著作權、商業秘密等的貢獻程度等信息。

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