女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

芯源微:國(guó)際光刻機(jī)聯(lián)機(jī)等技術(shù)問(wèn)題已經(jīng)攻克并通過(guò)驗(yàn)證

ss ? 來(lái)源:Ai芯天下 ? 作者:Ai芯天下 ? 2021-01-11 16:14 ? 次閱讀

ST勝利:3D蓋板玻璃研發(fā)生產(chǎn)項(xiàng)目部分資產(chǎn)售價(jià)調(diào)整為4.29億元

ST勝利發(fā)布公告稱,公司董事會(huì)審議通過(guò)了《關(guān)于出售3D蓋板玻璃研發(fā)生產(chǎn)項(xiàng)目部分資產(chǎn)的議案》,同意安徽勝利與安徽鼎恩企業(yè)運(yùn)營(yíng)管理合伙企業(yè)(有限合伙)、精卓科技和精卓技術(shù)簽署《投資合作協(xié)議》。據(jù)悉,本次交易標(biāo)的資產(chǎn)為安徽勝利擁有的部3D玻璃蓋板生產(chǎn)設(shè)備及相關(guān)模具加工設(shè)備等。由于本次出售的資產(chǎn)數(shù)量較前次簽署的《投資合作框架協(xié)議》中資產(chǎn)數(shù)量縮減,交易價(jià)格亦由原約定的4.95億元減少為目前的4.29億元。

電視面板價(jià)格1月維持漲勢(shì) 三星/LGD延遲關(guān)廠或致局面反轉(zhuǎn)

2020年,TV面板供應(yīng)格局發(fā)生了巨變,致使其供需偏緊且價(jià)格大幅拉升。進(jìn)入2021年,由于顯示器驅(qū)動(dòng)IC、玻璃和偏光片等上游材料依舊緊缺,加之日本電氣硝子(NEG)停電事件,加重面板供應(yīng)鏈缺貨情況。業(yè)內(nèi)人士稱,在上游材料緊缺的背景下,電視面板價(jià)格將于第一季度維持上漲的趨勢(shì)。不過(guò),隨著三星顯示、LGD計(jì)劃延遲關(guān)閉LCD廠,電視面板繼續(xù)上漲的趨勢(shì)或許會(huì)反轉(zhuǎn)。有廠商人士擔(dān)心,隨著中國(guó)面板廠提高產(chǎn)能、韓廠延后關(guān)廠效應(yīng)發(fā)酵,下半年電視面板供應(yīng)或許再次出現(xiàn)供過(guò)于求狀況,而面板價(jià)格也將隨市場(chǎng)變化而出現(xiàn)下滑的趨勢(shì)。

芯源微:國(guó)際***聯(lián)機(jī)等技術(shù)問(wèn)題已經(jīng)攻克并通過(guò)驗(yàn)證

芯源微發(fā)布期接受機(jī)構(gòu)調(diào)研的活動(dòng)記錄表,芯源微表示,公司前道涂膠顯影機(jī)與國(guó)際***聯(lián)機(jī)的技術(shù)問(wèn)題已經(jīng)攻克并通過(guò)驗(yàn)證,可以與包括ASML、佳能等國(guó)際品牌以及國(guó)內(nèi)的上海微電子(SMEE)的***聯(lián)機(jī)應(yīng)用。芯源微表示,涂膠顯影機(jī)的在Iline、KrF、向ArF等技術(shù)升級(jí)的過(guò)程中,主要技術(shù)難點(diǎn)在于涂膠顯影機(jī)結(jié)構(gòu)復(fù)雜,運(yùn)行部件多。

東軟載波:控股股東擬變更為瀾海瑞盛,佛山南海區(qū)國(guó)資將成實(shí)控人

近日,東軟載波發(fā)布公告稱,公司股東崔健、胡亞軍、王銳與瀾海瑞盛就2021年度股份轉(zhuǎn)讓事項(xiàng)簽署了《股份轉(zhuǎn)讓協(xié)議》。公告指出,公司股東崔健、胡亞軍、王銳擬以交易價(jià)格21.6650元/股向?yàn)懞H鹗⒑嫌?jì)轉(zhuǎn)讓其持有的標(biāo)的公司4795.82萬(wàn)股股非限售流通 A 股,約占標(biāo)的公司股份總數(shù)的 10.3669%,轉(zhuǎn)讓價(jià)款合計(jì)為10.39億元,瀾海瑞盛同意受讓標(biāo)的股份。上述交易完成后,瀾海瑞盛將成為上市公司的控股股東,佛山市南海區(qū)國(guó)有資產(chǎn)監(jiān)督管理局將成為上市公司的最終實(shí)際控制人。

責(zé)任編輯:xj

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 三星電子
    +關(guān)注

    關(guān)注

    34

    文章

    15885

    瀏覽量

    182175
  • 顯示屏
    +關(guān)注

    關(guān)注

    28

    文章

    4581

    瀏覽量

    75983
  • ST
    ST
    +關(guān)注

    關(guān)注

    32

    文章

    1171

    瀏覽量

    130218
  • LG
    LG
    +關(guān)注

    關(guān)注

    2

    文章

    2374

    瀏覽量

    143540
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1163

    瀏覽量

    48079
收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績(jī)暴雷,芯片迎來(lái)新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/黃山明)作為芯片制造過(guò)程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機(jī)基本由荷蘭阿
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3301次閱讀

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來(lái)越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān),電子波長(zhǎng)可通過(guò)增加加速電極電壓來(lái)減小波長(zhǎng),而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽(yáng)投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來(lái)機(jī)會(huì)

    【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一,其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長(zhǎng),尤
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?525次閱讀

    【「芯片通識(shí)課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】了解芯片怎樣制造

    TSMC,中國(guó)際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線,服務(wù):技術(shù)部門,生產(chǎn)管理部門,動(dòng)力站(雙路保障),廢水處理站(環(huán)保,循環(huán)利用)。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐,薄膜設(shè)備,
    發(fā)表于 03-27 16:38

    不只依賴光刻機(jī)!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”,其制造過(guò)程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備,但實(shí)際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了
    的頭像 發(fā)表于 03-24 11:27 ?977次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>!芯片制造的五大工藝大起底!

    什么是光刻機(jī)的套刻精度

    在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),它就像建造摩天大樓
    的頭像 發(fā)表于 02-17 14:09 ?1824次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的套刻精度

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?421次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1167次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?2115次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過(guò)程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?1954次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹

    時(shí),摩爾定律開(kāi)始面臨挑戰(zhàn)。一些光刻機(jī)巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準(zhǔn)分子光源157nm波長(zhǎng)的干式光刻技術(shù)。2002年,浸潤(rùn)式光刻的構(gòu)想被提出,即利用水作為介質(zhì),
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2169次閱讀
    用來(lái)提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤(rùn)式<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過(guò)程對(duì)精度要求極高,光刻機(jī)通過(guò)一系列復(fù)雜的技術(shù)手段,將光束透射過(guò)畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?5285次閱讀

    一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)技術(shù)

    光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺(tái)技術(shù)展開(kāi)介紹。 一、
    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?4170次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的結(jié)構(gòu)及雙工件臺(tái)<b class='flag-5'>技術(shù)</b>

    一文了解光刻機(jī)成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)

    高端光刻機(jī)研發(fā)是一個(gè)系統(tǒng)工程,涉及到各方面技術(shù)的持續(xù)改進(jìn)和突破,在材料科學(xué)方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開(kāi)發(fā),在精密光學(xué)領(lǐng)域涉及精密光學(xué)加工技術(shù)、鍍膜技術(shù)、光學(xué)集成裝配
    的頭像 發(fā)表于 11-21 13:43 ?1267次閱讀
    一文了解<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜<b class='flag-5'>技術(shù)</b>

    流控光刻掩膜制作

    計(jì)算機(jī)圖形軟件設(shè)計(jì)通道,?并將設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)換為圖形文件。?這些設(shè)計(jì)圖形隨后被用于指導(dǎo)掩膜版的制作。? 在制版階段,?設(shè)計(jì)好的圖形通過(guò)直寫光刻設(shè)備(?如激光直寫光刻機(jī)或電子束
    的頭像 發(fā)表于 08-08 14:56 ?598次閱讀