美商務(wù)部再禁6項新興技術(shù)，包括光刻軟件和5nm生產(chǎn)技術(shù)！

最新消息：美國商務(wù)部工業(yè)安全局（BIS）又對六項新興技術(shù)實施了管控，宣布將六項新興技術(shù)添加到《出口管理條例》（EAR）的商務(wù)部管制清單（CCL）中。而這其中包括了極紫外線（EUV）掩模的計算光刻技術(shù)軟件和5nm 生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)，兩條直指了對芯片的制造的封鎖。

據(jù)了解，目前受到出口管制的新興技術(shù)總數(shù)已經(jīng)達(dá)到了37項。美國商務(wù)部在官網(wǎng)發(fā)布公告中寫道：“此舉是為了支持關(guān)鍵及新興技術(shù)這一國家戰(zhàn)略”。

本次被增列商業(yè)管制清單的六項新興技術(shù)為：

混合增材制造/計算機(jī)數(shù)控工具

特定的計算光刻軟件

用于為5nm生產(chǎn)精加工晶圓的某些技術(shù)

有限的數(shù)字取證分析工具

用于監(jiān)測電信服務(wù)通信的某些軟件

亞軌道航天器

據(jù)濾波器微信公眾號了解，目前受到出口管制的新興技術(shù)總數(shù)已經(jīng)達(dá)到了37項。美國商務(wù)部在官網(wǎng)發(fā)布公告中寫道：“此舉是為了支持關(guān)鍵及新興技術(shù)這一國家戰(zhàn)略”。、

“關(guān)鍵技術(shù)和新興技術(shù)國家戰(zhàn)略是保護(hù)美國國家安全，確保美國在軍事、情報和經(jīng)濟(jì)事務(wù)中保持技術(shù)領(lǐng)先地位的重要戰(zhàn)略部署。”美國商務(wù)部部長Wilbur Ross說道，并表示“美國商務(wù)部已經(jīng)對30多種新興技術(shù)的出口實施了管控，我們將繼續(xù)評估和確定未來還有哪些技術(shù)需要管控。”

公告指出，最新的商業(yè)出口管制是依照2019年12月全體大會上達(dá)成的協(xié)議——《常規(guī)軍備和兩用物品及技術(shù)出口管制瓦森納協(xié)議》實施的。制定和實施對新興技術(shù)的多邊控制符合《2018年出口控制改革法案》（ECRA）的要求后，最終確定管控下列幾項新興和基礎(chǔ)性技術(shù)的出口將對美國國家安全起到至關(guān)重要的作用。

美國實施出口管制的六大技術(shù)，都與芯片制造中最重要的設(shè)備光刻機(jī)息息相關(guān)，尤其是當(dāng)下5nm芯片已成為高端芯片時代的主流產(chǎn)品，EUV光刻機(jī)在半導(dǎo)體制程的重要意義可想而知。

“用于制造極紫外線掩模的計算光刻技術(shù)軟件”涵蓋EUV光刻所需的特定軟件，包括與三維（3D）效應(yīng)、掩模陰影效應(yīng)、光照方向效應(yīng)、遠(yuǎn)距離眩光效應(yīng)、鄰近效應(yīng)、抗蝕劑中的隨機(jī)性效應(yīng)以及源掩模優(yōu)化有關(guān)的軟件，這類軟件是在晶圓上做出經(jīng)過優(yōu)化的光刻膠圖案必需的軟件；而“用于為5nm生產(chǎn)精加工芯片的技術(shù)”旨在應(yīng)用于面向5nm生產(chǎn)的晶圓，包括對直徑300 mm的硅晶圓進(jìn)行切片、打磨和拋光以達(dá)到某些標(biāo)準(zhǔn)所需要的技術(shù)，以及盡量減小平坦度（或SFQR）和表面缺陷的技術(shù)以及局部光散射體（LLS）。以上兩類技術(shù)都受到國家安全和反恐管制的約束。

目前全世界唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的企業(yè)只有荷蘭ASML公司，而ASML最大的兩大股東資本國際集團(tuán)（MSCI）和貝萊德集團(tuán)（BlackRock，Inc.）都是美國公司，其用于打造EUV光刻機(jī)的高精技術(shù)也有不少為美國所持有。

美國商務(wù)部此舉相當(dāng)于直接封鎖了高端芯片的制造技術(shù)，針對的是誰不用多說。從目前來看，中國作為美國芯片產(chǎn)品最大的采購國之一，受出口管制影響是巨大的。

這是BIS自2018年通過ECRA法令以來實施的第四套新興技術(shù)管控措施。據(jù)濾波器微信公眾號了解，BIS在此之前曾公布了三份聯(lián)邦文件通知，對航空航天、生物技術(shù)、化學(xué)、電子、加密、地理空間圖像和海洋領(lǐng)域的31項新興技術(shù)實施了管制，其中大多數(shù)是在多邊支持下實施的。其中包括因化學(xué)/生物和反恐理由而受管制的24種化學(xué)武器前體，以及：

分立微波晶體管（Discrete microwave transistors）

操作軟件的連續(xù)性（Continuity of operation software）

Post-quantum密碼學(xué)（Post-quantum cryptography）

用作水聽器工作的水下傳感器（Underwater transducers designed to operate as hydrophones）

空中發(fā)射平臺（Air-launch platforms）

地理空間圖像軟件（單側(cè)）（Geospatial imagery software（unilateral））

一次性生物培育箱（Single-use biological cultivation chambers）

總體而言，受新管制影響最大的幾個行業(yè)是航空航天、生物技術(shù)、化學(xué)、電子、加密、地理空間圖像和海洋行業(yè)。正如BIS所承諾的那樣，新興技術(shù)是加以嚴(yán)格定義的，幾乎都受到多邊管制的約束。

需要注意的是，根據(jù)ECRA規(guī)定，商務(wù)部工業(yè)安全局已于2020年8月27日起就基礎(chǔ)技術(shù)鑒定征求公眾意見，公眾意見征詢期將持續(xù)到2020年11月9日，也就是說，未來或許還會有更多新興和關(guān)鍵技術(shù)被列入出口管制清單的可能。

責(zé)任編輯：haq