女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

光刻機(jī)的發(fā)展有多難看了就知道

poa0_zhenjingsh ? 來源:xueqiu ? 作者:xueqiu ? 2020-09-04 10:28 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

在芯片領(lǐng)域,有一樣叫光刻機(jī)的設(shè)備,不是印鈔機(jī),但卻比印鈔機(jī)還金貴。

歷數(shù)全球,也只有荷蘭一家叫做阿斯麥(ASML)的公司集全球高端制造業(yè)之大成,一年時間造的出二十臺高端設(shè)備,臺積電與三星每年為此搶破了頭,中芯國際足足等了三年,也沒能將中國的首臺EUV光刻機(jī)迎娶進(jìn)門。

短短四年,就將昔日光刻機(jī)大國美國拉下馬,與舊王者GCA平起平坐,拿下三成市場份額。手里幾家大客戶英特爾、IBM、AMD德州儀器,每天排隊堵在尼康門口等待最新產(chǎn)品下線的熱情,與我們?nèi)缃裱郯桶偷戎⑺果淓UV光刻機(jī)交貨的迫切并無二致。

但誰也不曾想,二十年不到,風(fēng)光對調(diào),作為美國忠實盟友的阿斯麥一躍翻身,執(zhí)掌起代工廠的生殺大權(quán),更成為大國博弈之間的關(guān)鍵殺招。“如果我們交不出EUV,摩爾定律就會從此停止”,阿斯麥如是說。

但這真的只是一個盛產(chǎn)風(fēng)車、郁金香國家,憑借一個三十多人的創(chuàng)始團(tuán)隊,所誕生的一個制造業(yè)奇跡,半導(dǎo)體明珠嗎?

其實,從那臺等了整整三年還未曾交付的EUV背后,我們不難看出背后真正的贏家。

灰姑娘翻身做王后背后,綿延十多年的,是封鎖與反抗,也是復(fù)仇與合作。

Part.1

從市場角度出發(fā),作為上世紀(jì)九十年代最大的光刻機(jī)巨頭,尼康的衰落,始于那一回157nm光源干刻法與193nm光源濕刻法的技術(shù)之爭。

背后起主導(dǎo)作用的,是由英特爾創(chuàng)始人之一戈登·摩爾(GordonMoore)提出的的一個叫做摩爾定律的產(chǎn)業(yè)規(guī)范:集成電路上可容納的元器件的數(shù)量每隔18至24個月就會增加一倍(相應(yīng)的芯片制程也會不斷縮小)。而每一次制程前進(jìn),也會帶來一次芯片性能性能的飛躍。

這是對芯片設(shè)計的要求,但同時也在要求光刻機(jī)的必須領(lǐng)先設(shè)計環(huán)節(jié)一步,交付出相應(yīng)規(guī)格的設(shè)備來。

幾十納米時代的光刻機(jī),門檻其實并不高,三十多人的阿斯麥能輕易入局這個行業(yè),連設(shè)計芯片的英特爾也可以自己做出幾臺嘗嘗鮮,難度左右不過是把買回來的高價零件拼拼湊湊,堆出一臺難度比起照相機(jī)高深些許的設(shè)備。

尼康與他們不同的是,對手靠的是產(chǎn)業(yè)鏈一起發(fā)力,而尼康的零件技術(shù)全部自己搞定,就像如今的蘋果,芯片、操作系統(tǒng)大包大攬,隨便拿出幾塊鏡片,雖不見得能吊打蔡司,但應(yīng)付當(dāng)時的芯片制程卻是綽綽有余的。

但造芯也好,造光刻機(jī)也好,關(guān)卡等級其實是指數(shù)級別增加的,上世紀(jì)90年代,光刻機(jī)的光源波長被卡死在193nm,成為了擺在全產(chǎn)業(yè)面前的一道難關(guān)。

雕刻東西,花樣要精細(xì),刀尖就得鋒利,但是要如何把193nm的光波再“磨”細(xì)呢?大半個半導(dǎo)體業(yè)界都參與進(jìn)來,分兩隊人馬躍躍欲試:

尼康等公司主張用在前代技術(shù)的基礎(chǔ)上,采用157nm的F2激光,走穩(wěn)健道路。

新生的EUVLLC聯(lián)盟則押注更激進(jìn)的極紫外技術(shù),用僅有十幾納米的極紫外光,刻十納米以下的芯片制程。

但技術(shù)都已經(jīng)走到這地步,不管哪一種方法,做起來其實都不容易。

這時候臺積電一個叫做林本堅的鬼才工程師出現(xiàn)了:

降低光的波長,光源出發(fā)是根本方法,但高中學(xué)生都知道,水會影響光的折射率——在透鏡和硅片之間加一層水,原有的193nm激光經(jīng)過折射,不就直接越過了157nm的天塹,降低到132nm了嗎!

林本堅拿著這項“沉浸式光刻”方案,跑遍美國、德國、日本等國,游說各家半導(dǎo)體巨頭,但都吃了閉門羹。甚至有某公司高層給臺積電COO蔣尚義捎了句狠話,讓林本堅“不要攪局”。[1]

畢竟這只是理想情況,在精密的機(jī)器中加水構(gòu)建浸潤環(huán)境,既要考慮實際性能,又要操心污染。如果為了這一條短期替代方案,耽誤了光源研究,吃力不討好只是其次,被對手反超可就不好看了。

于是,尼康選擇了在157nm上一條道走到黑,卻沒意識到背后有位虎視眈眈的攪局者。

當(dāng)時尚是小角色的阿斯麥決定賭一把,相比之前在傳統(tǒng)干式微影上的投入,押注浸潤式技術(shù)更有可能以小博大。于是和林本堅一拍即合,僅用一年時間,就在2004年就拼全力趕出了第一臺樣機(jī),并先后奪下IBM和臺積電等大客戶的訂單。

尼康晚了半步,很快也就亮出了干式微影157nm技術(shù)的成品,但畢竟被阿斯麥搶了頭陣,更何況波長還略落后于對手。等到一年后又完成了對浸潤式技術(shù)的追趕,客戶卻已經(jīng)不承認(rèn)“老情人”,畢竟光刻機(jī)又不是小朋友玩具,更替要錢,學(xué)習(xí)更要成本。

但這一切還只是個開始。

Part.2

兩千年初踏錯了干刻濕刻的選擇之前,其實早于1997年,在美國政府一手干預(yù)下,尼康被EUVLLC排擠在外時,就已經(jīng)注定了如今光刻機(jī)市場一家獨(dú)大的結(jié)局。

前面提到,當(dāng)年為了嘗試突破193nm,英特爾更傾向于激進(jìn)的EUV方案,于是早在1997年,就攢起了一個叫EUVLLC的聯(lián)盟。

聯(lián)盟中的名字個個如雷貫耳:除了英特爾和牽頭的美國能源部以外,還有摩托羅拉、AMD、IBM,以及能源部下屬三大國家實驗室:勞倫斯利弗莫爾國家實驗室、桑迪亞國家實驗室和勞倫斯伯克利實驗室。

這些實驗室是美國科技發(fā)展的幕后英雄,之前的研究成果覆蓋物理、化學(xué)、制造業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的各種前沿方向,有核武器、超級計算機(jī)、國家點火裝置,甚至還有二十多種新發(fā)現(xiàn)的化學(xué)元素。

偏偏,美國政府又將EUV技術(shù)視為推動本國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的核心技術(shù),并不太希望外國企業(yè)參與其中,更何況八十年代在半導(dǎo)體領(lǐng)域壓了美國風(fēng)頭的日本。

但EUV光刻機(jī)又幾乎逼近物理學(xué)、材料學(xué)以及精密制造的極限。光源功率要求極高,透鏡和反射鏡系統(tǒng)也極致精密,還需要真空環(huán)境,配套的抗蝕劑和防護(hù)膜的良品率也不高。別說是對小國日本與荷蘭,就算是美國,想要一己之力自主突破這項技術(shù),也是癡人說夢。

美國自然不會給日本投誠然后扼住美國半導(dǎo)體咽喉的機(jī)會。在一份提交給國會的報告之中,專家明確指出“尼康可能會將技術(shù)轉(zhuǎn)移回日本,從而徹底消滅美國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)”。[2]

日本是敵人,但荷蘭還是有改造成“美利堅好同志”的機(jī)會的。

為了表現(xiàn)誠意,阿斯麥同意在美國建立一所工廠和一個研發(fā)中心,以此滿足所有美國本土的產(chǎn)能需求。另外,還保證55%的零部件均從美國供應(yīng)商處采購,并接受定期審查。所以為什么美國能禁止荷蘭的光刻機(jī)出口中國,一切的原因都始于此時[3]

但不管怎么說,美國能源部還是和阿斯麥達(dá)成了協(xié)議,允許其加入EUVLLC,共同參與開發(fā),共享研究成果。

6年時間里,EUVLLC的研發(fā)人員發(fā)表了數(shù)百篇論文,大幅推進(jìn)了EUV技術(shù)的研究進(jìn)展,割地求和的阿斯麥雖然只是其中的小角色,但也有機(jī)會分得一杯羹。

分享技術(shù)只是一方面,收購走后門其實也是美國送給阿斯麥的一份大禮。2009年,美國的Cymer公司研發(fā)出EUV所需的大功率光源,成為阿斯麥的供應(yīng)商,更在四年后以25億美元高價直接被并購。別忘了,這可是光刻機(jī)的核心零件,這樣頂尖的技術(shù),全球范圍也不超過三家。

毫不夸張的說,阿斯麥雖然是一家荷蘭企業(yè),但崛起的背后,其實是一場地地道道的美國式成功。

Part.3

錯失EUV關(guān)上了尼康光刻機(jī)的大門,而盟友的背叛則徹底焊死了尼康想要突圍的出路。

說實話,當(dāng)年的英特爾為了防止核心設(shè)備供應(yīng)商一家獨(dú)大,還是其實挺想帶著尼康一起玩的。

32nm工藝制程時甚至獨(dú)家采用尼康的光刻機(jī),而之前的45nm,之后的22nm,也都是尼康和阿斯麥同時供貨。就連在2010年的LithoVision大會上,英特爾還宣布將一直沿用193nm沉浸式光刻至11nm節(jié)點。

但備胎終究是備胎,一轉(zhuǎn)身,英特爾就為了延續(xù)摩爾定律的節(jié)奏,巨資入股阿斯麥,順帶將EUV技術(shù)托付。

另一邊,相比一步步集成了全球制造業(yè)精華的阿斯麥,早年間就習(xí)慣單打獨(dú)斗的尼康在遭遇美國封鎖后,更是一步步落后,先進(jìn)設(shè)備技術(shù)跟不上且不提,就連落后設(shè)備的制造效率也遲遲提不上來。

當(dāng)年,相同制程,阿斯麥宣稱“每小時可加工175~200片晶圓”,而尼康的數(shù)據(jù)是“每小時200片”。

但果真如此嗎?這背后涉及到了一個叫做稼動率的制造業(yè)名詞。簡單理解為一臺機(jī)器設(shè)備實際的生產(chǎn)數(shù)量與可能的生產(chǎn)數(shù)量的比值。

使用阿斯麥的設(shè)備,三星與臺積電的稼動率常年維持在95%上下,一個詞語概括,靠譜!

但反觀尼康,被迫自研,什么零件都能做,但又總是差點意思。導(dǎo)致同一批次的相同設(shè)備,每一臺的性能都不盡相同。就像買了二十臺蘋果手機(jī),這臺只能發(fā)微信,那臺只能刷視頻,剩下18臺還正送檢維修

設(shè)備雖便宜,但稼動率最多只能達(dá)到50%左右,對晶元代工廠來說,實在不劃算。[7]

因此,英特爾新CEO上任后,立刻拋棄了尼康,甚至就連大陸的芯片代工廠都看不上尼康,只能退出IC光刻,生產(chǎn)出的設(shè)備,只能賣給三星、LG、京東方,用來生產(chǎn)面板。

這邊舊人哭,那邊新人笑:2012年,英特爾連同三星和臺積電,三家企業(yè)共計投資52.29億歐元,先后入股阿斯麥,以此獲得優(yōu)先供貨權(quán),結(jié)成緊密的利益共同體。

站在EUVLLC的肩膀上,背靠美國支持,又有客戶送錢,阿斯麥自此正式成為“全村的希望”,在摘取EUV光刻機(jī)這顆寶石的道路上,一路孤獨(dú)的狂奔。

終于,在2015年,第一臺可量產(chǎn)的EUV樣機(jī)正式發(fā)布。正所謂機(jī)器一響,黃金萬兩,當(dāng)年只要能搶先拿到機(jī)器開工,就相當(dāng)于直接開動了印鈔產(chǎn)線,EUV光刻機(jī)也因此被冠上了“印錢許可證”的名號。

而在這臺機(jī)器價值1.2億美元,重達(dá)180噸的巨無霸設(shè)備背后,實際上90%的部件均來自外部廠商,美國和歐洲的更是其中代表。

整個西方最先進(jìn)的工業(yè)體系,托舉起了如今的阿斯麥。而一代霸主尼康,也自此徹底零落在歷史的塵埃之中。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1166

    瀏覽量

    48191

原文標(biāo)題:光刻機(jī)大敗局

文章出處:【微信號:zhenjingshe,微信公眾號:華爾街】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    光刻機(jī)巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機(jī)決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機(jī)已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機(jī)基本由荷蘭阿斯麥(ASML
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3398次閱讀

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機(jī)的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    成都匯陽投資關(guān)于光刻機(jī)概念大漲,后市迎來機(jī)會

    進(jìn)制程領(lǐng)域,曝光波長逐漸縮短至13.5nm,光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機(jī)市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元。 【光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?619次閱讀

    不只依賴光刻機(jī)!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時代的“心臟”,其制造過程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備,但實際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了
    的頭像 發(fā)表于 03-24 11:27 ?1196次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>!芯片制造的五大工藝大起底!

    什么是光刻機(jī)的套刻精度

    在芯片制造的復(fù)雜流程中,光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度),則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說,它就像建造摩天大樓
    的頭像 發(fā)表于 02-17 14:09 ?2253次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的套刻精度

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?489次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計

    半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座如何安裝?

    半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素,以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先,選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運(yùn)行,因此選擇的搬運(yùn)工具如
    的頭像 發(fā)表于 02-05 16:48 ?666次閱讀
    半導(dǎo)體設(shè)備<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>防震基座如何安裝?

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1348次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?2517次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高,能夠達(dá)到
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?2227次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個分系統(tǒng)介紹

    用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機(jī)分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個多世紀(jì),摩爾定律一直推動著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2437次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ? 本文介紹了光刻機(jī)在芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī):芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ? 光刻機(jī)在芯片制造中占據(jù)著至關(guān)重要的地位,被譽(yù)為芯片制
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?5840次閱讀

    一文看懂光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)

    光刻機(jī)作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機(jī)發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 一、光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?4598次閱讀
    一文看懂<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)

    一文了解光刻機(jī)成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)

    精密機(jī)械方面涉及到納米精度的位移控制技術(shù)等,這些技術(shù)發(fā)展中涉及的加工和檢測設(shè)備也都是各時代最尖端的設(shè)備,因此高精度光刻機(jī)也被稱為“人類歷史上最精密”的機(jī)器之一。?? 光刻機(jī)發(fā)展歷程 半
    的頭像 發(fā)表于 11-21 13:43 ?1420次閱讀
    一文了解<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>成像系統(tǒng)及光學(xué)鍍膜技術(shù)

    凈化機(jī)光刻機(jī):陌路交錯,攜手開創(chuàng)行業(yè)未來

    光刻機(jī)被稱為“半導(dǎo)體行業(yè)的璀璨明珠”,融合了光學(xué)、流體力學(xué)、表面物理與化學(xué)、精密儀器、軟件和圖像等多個領(lǐng)域的尖端技術(shù),其構(gòu)造由十幾萬個部件組成。全球超過5000家領(lǐng)先企業(yè)提供相關(guān)設(shè)備,包括來自德國
    的頭像 發(fā)表于 09-26 09:06 ?684次閱讀