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閃德半導(dǎo)體

文章:85 被閱讀:21.4w 粉絲數(shù):16 關(guān)注數(shù):0 點(diǎn)贊數(shù):5

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鎵、鍺出口管制對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈影響幾何?

7月3日,中國(guó)商務(wù)部和海關(guān)總署宣布,為維護(hù)國(guó)家安全和利益,決定自2023年8月1日起對(duì)鎵和鍺相關(guān)物項(xiàng)....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 07-05 15:09 ?2263次閱讀
鎵、鍺出口管制對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈影響幾何?

詳解半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

和在刻蝕工藝中一樣,半導(dǎo)體制造商在沉積過(guò)程中也會(huì)通過(guò)控制溫度、壓力等不同條件來(lái)把控膜層沉積的質(zhì)量。例....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 07-02 11:36 ?3567次閱讀
詳解半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

半導(dǎo)體前端工藝:沉積——“更小、更多”,微細(xì)化的關(guān)鍵(上)

在半導(dǎo)體制程中,移除殘余材料的“減法工藝”不止“刻蝕”一種,引入其他材料的“加法工藝”也非“沉積”一....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 06-29 16:58 ?1332次閱讀
半導(dǎo)體前端工藝:沉積——“更小、更多”,微細(xì)化的關(guān)鍵(上)

半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

在前幾篇文章(點(diǎn)擊查看),我們一直在借用餅干烘焙過(guò)程來(lái)形象地說(shuō)明半導(dǎo)體制程 。在上一篇我們說(shuō)到,為制....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 06-29 16:56 ?1968次閱讀
半導(dǎo)體前端工藝之沉積工藝

美國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的研發(fā)支出占銷售額,比中國(guó)高多少?

2022 年美國(guó)半導(dǎo)體公司(包括?晶圓?公司)的研發(fā)和資本?出總額為 1096 億美元。從 2001....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 06-21 15:36 ?1088次閱讀
美國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的研發(fā)支出占銷售額,比中國(guó)高多少?

半導(dǎo)體前端工藝:刻蝕——有選擇性地刻蝕材料,以創(chuàng)建所需圖形

在半導(dǎo)體制程工藝中,有很多不同名稱的用于移除多余材料的工藝,如“清洗”、“刻蝕”等。如果說(shuō)“清洗”工....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 06-15 17:51 ?2580次閱讀
半導(dǎo)體前端工藝:刻蝕——有選擇性地刻蝕材料,以創(chuàng)建所需圖形

半導(dǎo)體前端工藝:半導(dǎo)體制程工藝概覽與氧化

同樣,在晶圓上制作 MOSFET時(shí)也采用這種順序。晶圓加工的第一道工藝就是“制造”各種電子元器件。說(shuō)....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 06-11 14:45 ?4212次閱讀
半導(dǎo)體前端工藝:半導(dǎo)體制程工藝概覽與氧化

半導(dǎo)體制備的主要方法

光刻法是微電子工藝中的核心技術(shù)之一,常用于形成半導(dǎo)體設(shè)備上的微小圖案。過(guò)程開(kāi)始于在硅片上涂布光刻膠,....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 06-09 11:36 ?5392次閱讀
半導(dǎo)體制備的主要方法

英偉達(dá)引爆AI產(chǎn)業(yè)鏈,半導(dǎo)體企業(yè)如何掘金?

從顯卡王者到AI新貴,英偉達(dá)憑什么賭贏了大趨勢(shì)?一個(gè)關(guān)鍵原因在于其廣受人工智能領(lǐng)域追捧的芯片產(chǎn)品,即....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 06-05 16:42 ?1092次閱讀
英偉達(dá)引爆AI產(chǎn)業(yè)鏈,半導(dǎo)體企業(yè)如何掘金?

閃德半導(dǎo)體高精度 SSD RDT高溫測(cè)試柜

平衡調(diào)溫控制系統(tǒng)(BTC),以 PID 方式控制 SSR;溫度控制,畫(huà)面顯示,計(jì)時(shí)功能,超溫保護(hù),接....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 05-31 12:23 ?883次閱讀
閃德半導(dǎo)體高精度 SSD RDT高溫測(cè)試柜

TSV工藝及設(shè)備技術(shù)

由于摩爾定律逐漸接近其物理極限,為進(jìn)一步追求速度、功耗、功能與制造成本的平衡,后道封裝更加強(qiáng)調(diào)封裝集....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 05-31 11:02 ?2531次閱讀
TSV工藝及設(shè)備技術(shù)

半導(dǎo)體工藝裝備現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

集成電路前道工藝及對(duì)應(yīng)設(shè)備主要分八大類,包括光刻(光刻機(jī))、刻蝕(刻蝕機(jī))、薄膜生長(zhǎng)(PVD-物理氣....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 05-30 10:47 ?2158次閱讀
半導(dǎo)體工藝裝備現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)

中國(guó)科學(xué)院微電子所在半導(dǎo)體器件物理領(lǐng)域獲進(jìn)展

拓?fù)浞磋F磁材料(如典型代表Mn3Sn)集合了常規(guī)反鐵磁體中零雜散場(chǎng)和超快自旋動(dòng)力學(xué)特征、以及拓?fù)洳牧?...
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 05-18 11:17 ?1612次閱讀
中國(guó)科學(xué)院微電子所在半導(dǎo)體器件物理領(lǐng)域獲進(jìn)展

半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)工藝流程科普!

第九步退火,離子注入后也會(huì)產(chǎn)生一些晶格缺陷,退火是將離子注入后的半導(dǎo)體放在一定溫度下進(jìn)行加熱,使得注....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 04-28 09:32 ?3584次閱讀

中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的現(xiàn)狀與趨勢(shì)

半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域也同樣如此,最近二十年周期性正在減弱,得益于各類電子終端的芯片需求,智能化,網(wǎng)聯(lián)化,A....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 04-13 12:45 ?4274次閱讀

全球半導(dǎo)體設(shè)備制造市場(chǎng)規(guī)模發(fā)展情況

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎(chǔ),電子信息產(chǎn)業(yè)的先導(dǎo)和支撐,也是全球高端制造業(yè)的代表產(chǎn)業(yè)。半導(dǎo)體產(chǎn)品目....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 03-27 13:58 ?3459次閱讀

2023半導(dǎo)體趨勢(shì)預(yù)測(cè)

格芯:成熟工藝產(chǎn)能約占83%,退出10nm以下先進(jìn)制程。格芯于2018年宣布退出10nm及以下的先進(jìn)....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 03-16 11:35 ?1487次閱讀

電車智能化兩個(gè)方向:智能座艙和智能駕駛

智能座艙:經(jīng)歷三段式發(fā)展,未來(lái)3-5年將成為電車智能化主戰(zhàn)場(chǎng)。
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 03-16 11:00 ?1448次閱讀

國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備品牌各有所長(zhǎng)!

華峰測(cè)控和長(zhǎng)川科技各有所長(zhǎng)。華峰測(cè)控在功率測(cè)試上的產(chǎn)品有兩款:STS 8202是 國(guó)內(nèi)率先投入量產(chǎn)的....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 03-06 10:58 ?6076次閱讀

半導(dǎo)體制造工藝中的主要設(shè)備及材料【二】

設(shè)備功能:與光刻機(jī)聯(lián)合作業(yè),首先將光刻膠均勻地涂到晶圓上,滿足光刻機(jī)的工作要求;然后,處理光刻機(jī)曝光....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 02-07 14:48 ?3044次閱讀

半導(dǎo)體制造工藝中的主要設(shè)備及材料【三】

設(shè)備功能:將兩片晶圓互相結(jié)合,并使表面原子互相反應(yīng),產(chǎn)生共價(jià)鍵合,合二為一,是實(shí)現(xiàn)3D晶圓堆疊的重要....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 02-07 11:13 ?3370次閱讀

半導(dǎo)體設(shè)備分類

半導(dǎo)體設(shè)備可分為前道工藝設(shè)備(晶圓制造)和后道工藝設(shè)備(封裝測(cè)試)兩個(gè)大類。其中后道工藝設(shè)備還可以細(xì)....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 01-30 16:56 ?6207次閱讀

看看集成電路廠家是怎么完成芯片出廠測(cè)試的

對(duì)芯片來(lái)說(shuō),測(cè)試是流片后或者上市前的必須環(huán)節(jié)。那么集成電路廠家如何做芯片的出廠測(cè)試呢。 大型半導(dǎo)體廠....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 01-17 16:40 ?3758次閱讀

芯片fail是哪幾方面原因呢?

功能fail,某個(gè)功能點(diǎn)點(diǎn)沒(méi)有實(shí)現(xiàn),這往往是設(shè)計(jì)上導(dǎo)致的,通常是在設(shè)計(jì)階段前仿真來(lái)對(duì)功能進(jìn)行驗(yàn)證來(lái)保....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 01-16 12:02 ?3109次閱讀

半導(dǎo)體元器件包裝設(shè)備中編帶包裝的簡(jiǎn)單方法介紹

編帶機(jī)正常工作有三種狀態(tài):連續(xù)、寸動(dòng)和放氣。連續(xù)和寸動(dòng)可以有上料速度快、慢的選擇;放氣一般是在冷封裝....
的頭像 閃德半導(dǎo)體 發(fā)表于 12-23 15:00 ?2303次閱讀